RU2447628C1 - Способ защиты полиимидных материалов при травлении - Google Patents

Способ защиты полиимидных материалов при травлении Download PDF

Info

Publication number
RU2447628C1
RU2447628C1 RU2010151587/07A RU2010151587A RU2447628C1 RU 2447628 C1 RU2447628 C1 RU 2447628C1 RU 2010151587/07 A RU2010151587/07 A RU 2010151587/07A RU 2010151587 A RU2010151587 A RU 2010151587A RU 2447628 C1 RU2447628 C1 RU 2447628C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
polyimide
etching
materials during
polyimide material
protecting
Prior art date
Application number
RU2010151587/07A
Other languages
English (en)
Inventor
Юрий Евгеньевич Яковлев (RU)
Юрий Евгеньевич Яковлев
Наталья Николаевна Владимирова (RU)
Наталья Николаевна Владимирова
Фаина Веняминовна Федорова (RU)
Фаина Веняминовна Федорова
Петр Васильевич Смирнов (RU)
Петр Васильевич Смирнов
Максим Александрович Краснов (RU)
Максим Александрович Краснов
Николай Владимирович Скворцов (RU)
Николай Владимирович Скворцов
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Научно-производственный комплекс "ЭЛАРА" имени Г.А. Ильенко" (ОАО "ЭЛАРА")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Научно-производственный комплекс "ЭЛАРА" имени Г.А. Ильенко" (ОАО "ЭЛАРА") filed Critical Открытое акционерное общество "Научно-производственный комплекс "ЭЛАРА" имени Г.А. Ильенко" (ОАО "ЭЛАРА")
Priority to RU2010151587/07A priority Critical patent/RU2447628C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2447628C1 publication Critical patent/RU2447628C1/ru

Links

Landscapes

  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способам защиты полиимидных материалов при травлении, применяющихся при конструировании радиоэлектронной аппаратуры для самолето- и вертолетостроения, в частности к способу производства полупроводниковых систем, изготавливаемых на основе полиимида, например гибких печатных плат с открытыми выводами. Технический результат - разработка условий травления полностью полимеризованного полиимида, обеспечивающих точность формы и размеров вытравленных участков, - достигается тем, что способ защиты полиимидных материалов при травлении включает процесс травления участков полиимидного материала щелочными растворами, причем до операции травления полиимидный материал покрывают смесью эпоксиуретанового лака с добавкой олигоэфиракрилата при следующем соотношении компонентов, мас.%: лак эпоксиуретановый 93,7÷95,2, олигоэфиракрилат 4,8÷6,3, а затем участок полиимидного материала, не подлежащий травлению, защищают изоляционным слоем. 3 пр.

Description

Изобретение относится к способам защиты полиимидных материалов при травлении, применяющихся при конструировании радиоэлектронной аппаратуры для самолето- и вертолетостроения, в частности к способу производства полупроводниковых систем, изготавливаемых на основе полиимида, например гибких печатных плат с открытыми выводами.
Известен способ производства полупроводниковых систем на полиимидном основании (патент РФ №2295846, Н05К 3/26, опубл. 2007.03.20), в котором в качестве раствора травления используют щелочной раствор, содержащий моноэтаноламин, тетраметиламмоний гидрат или тетрабутиламмоний гидрат. Недостатком данного способа является невозможность получения точной границы травления из-за наличия капиллярного эффекта.
Техническим результатом изобретения является разработка условий травления полностью полимеризованного полиимида, обеспечивающих точность формы и размеров вытравленных участков, а также защиту полиимидного материала от капиллярного эффекта.
Технический результат достигается тем, что способ защиты полиимидных материалов при травлении включает процесс травления участков полиимидного материала щелочными растворами, причем до операции травления полиимидный материал покрывают смесью эпоксиуретанового лака с добавкой олигоэфиракрилата при следующем соотношении компонентов, мас.%:
лак эпоксиуретановый 93,7-95,2
олигоэфиракрилат 4,8-6,3,
а затем участок полиимидного материала, не подлежащий травлению, защищают изоляционным слоем.
Способ защиты полиимидных материалов при травлении, используется, например, при производстве гибкой печатной платы, включает травление полиимидной основы после создания электропроводящей схемы.
Пример 1
1. Покрытие: 93,7% лака эпоксиуретанового УР-231 ТУ 6-21-14-90; 6,3% олигоэфиракрилата марки МГФ-9 ТУ 113-00-05761643-27-92; покрытию подлежит вся плата.
2. Сушат в печи сушильной РН-201М при температуре 65°С.
3. Производят разметку основания печатной платы, например, липкой изоляционной лентой TESA FILM №4174 для обозначения границ участка, подвергающегося травлению.
4. Производят окунание участка платы, подлежащего травлению полиимида, в водный раствор, содержащий 600-650 г/л гидроксида натрия, температура раствора 115-125°С, время выдержки 10-20 минут.
5. Промывают проточной водопроводной водой, температура 50-60°С, время 2-3 минуты.
6. Промывают проточной водопроводной водой, температура 15-20°С, время 2-3 минуты.
7. Сушат в печи сушильной АРСМ3.009.000 при температуре 70-80°С.
8. Активируют в соляной кислоте, содержание 150-200 г/л, время 0,08-0,16 минут.
9. Промывают проточной водопроводной водой, температура 15-20°С, время 2-3 минуты.
10. Сушат в печи сушильной РН-201М при температуре 65°С.
Пример 2
1. Покрытие: 94,5% лака эпоксиуретанового УР-231 ТУ 6-21-14-90; 5,5% олигоэфиракрилата марки МГФ-9 ТУ 113-00-05761643-27-92; покрытию подлежит вся плата.
П.п.2-10 аналогичны примеру 1.
Пример 3.
1. Покрытие: 95,2% лака эпоксиуретанового УР-231 ТУ 6-21-14-90; 4,8% олигоэфиракрилата марки МГФ-9 ТУ 113-00-05761643-27-92; покрытию подлежит вся плата.
П.п.2-10 аналогичны примеру 1.
Таким образом, при использовании предложенного способа защиты полиимидных материалов при травлении образуются вытравленные участки основания печатной платы с ровными краями и точными размерами, а также обеспечивается защита полиимидного материала от капиллярного эффекта.

Claims (1)

  1. Способ защиты полиимидных материалов при травлении включает процесс травления участков полиимидного материала щелочными растворами, отличающийся тем, что до операции травления полиимидный материал покрывают смесью эпоксиуретанового лака с добавкой олигоэфироакрилата при следующем соотношении компонентов, мас.%:
    лак эпоксиуретановый 93,7÷95,2 олигоэфиракрилат 4,8÷6,3,

    а затем участок полиимидного материала, не подлежащий травлению, защищают изоляционным слоем.
RU2010151587/07A 2010-12-15 2010-12-15 Способ защиты полиимидных материалов при травлении RU2447628C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010151587/07A RU2447628C1 (ru) 2010-12-15 2010-12-15 Способ защиты полиимидных материалов при травлении

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010151587/07A RU2447628C1 (ru) 2010-12-15 2010-12-15 Способ защиты полиимидных материалов при травлении

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2447628C1 true RU2447628C1 (ru) 2012-04-10

Family

ID=46031851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010151587/07A RU2447628C1 (ru) 2010-12-15 2010-12-15 Способ защиты полиимидных материалов при травлении

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2447628C1 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4218283A (en) * 1974-08-23 1980-08-19 Hitachi, Ltd. Method for fabricating semiconductor device and etchant for polymer resin
US4639290A (en) * 1985-12-09 1987-01-27 Hughes Aircraft Company Methods for selectively removing adhesives from polyimide substrates
SU1684302A1 (ru) * 1989-05-24 1991-10-15 Институт органической химии Уральского отделения АН СССР Композици дл защиты печатных плат
RU2295845C2 (ru) * 2004-03-15 2007-03-20 Галина Шайхнелисламовна Комарова Способ производства полупроводниковых систем на основе фольгированного полиимида
RU2295846C2 (ru) * 2004-03-15 2007-03-20 Галина Шайхнелисламовна Комарова Способ производства полупроводниковых систем на полиимидном основании

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4218283A (en) * 1974-08-23 1980-08-19 Hitachi, Ltd. Method for fabricating semiconductor device and etchant for polymer resin
US4639290A (en) * 1985-12-09 1987-01-27 Hughes Aircraft Company Methods for selectively removing adhesives from polyimide substrates
SU1684302A1 (ru) * 1989-05-24 1991-10-15 Институт органической химии Уральского отделения АН СССР Композици дл защиты печатных плат
RU2295845C2 (ru) * 2004-03-15 2007-03-20 Галина Шайхнелисламовна Комарова Способ производства полупроводниковых систем на основе фольгированного полиимида
RU2295846C2 (ru) * 2004-03-15 2007-03-20 Галина Шайхнелисламовна Комарова Способ производства полупроводниковых систем на полиимидном основании

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103237421B (zh) 一种pcb分段金手指制备方法
TWI669293B (zh) 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法
KR20130132828A (ko) 중합체 에칭제 및 그의 사용 방법
JP2021192427A (ja) 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
DE602005014421D1 (de) Leiterplatte und Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte
TW201842165A (zh) 樹脂組成物用之蝕刻液及蝕刻方法
JPS5830760B2 (ja) プリント回路板の製法
CN104619122A (zh) 一种印制电路板的制作方法
JP2015014791A (ja) ドライフィルムレジスト剥離剤組成物及びそれを用いたドライフィルムレジストの除去方法
KR20170029291A (ko) 외층 회로 형성을 통한 다층인쇄회로기판의 스터브 제거방법
CN103695908A (zh) 一种新型的有机碱微蚀液
JP2010539705A (ja) 部分的に剛性のフレキシブル回路及びそれらの作製方法
RU2447628C1 (ru) Способ защиты полиимидных материалов при травлении
JP2017005074A5 (ru)
KR101384227B1 (ko) 가요성 배선판용 니켈-크롬 합금 스트리퍼
CN110273148B (zh) 一种含离子液体的复配棕化液及其制备方法
CN104145537A (zh) 细线电路的制造方法
JP2010034414A (ja) 熱硬化性ソルダーレジスト用組成物及び電子回路基板
KR20000036165A (ko) 유전체 접착에 대해 높은 레벨의 구리를 구비하는 인쇄 배선 기판에 층을 부가하는 방법
JP6271233B2 (ja) 表面処理液
JP2006199976A (ja) アルミニウム系材料のエッチング方法
KR101847676B1 (ko) 주석 또는 주석 합금으로 채워진 리세스된 구조를 식각하는 방법
JP5647967B2 (ja) プリント配線基板の製造方法、プリント配線基板
JP2020519915A (ja) ドライフィルムレジスト剥離液組成物
JP4409990B2 (ja) ハンダ回路基板の製造方法。

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20151216