RU2230031C2 - Способ частичного восстановления оксида металла и оксид металла с пониженным содержанием кислорода - Google Patents
Способ частичного восстановления оксида металла и оксид металла с пониженным содержанием кислорода Download PDFInfo
- Publication number
- RU2230031C2 RU2230031C2 RU2001110115/15A RU2001110115A RU2230031C2 RU 2230031 C2 RU2230031 C2 RU 2230031C2 RU 2001110115/15 A RU2001110115/15 A RU 2001110115/15A RU 2001110115 A RU2001110115 A RU 2001110115A RU 2230031 C2 RU2230031 C2 RU 2230031C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- metal oxide
- oxide
- valve
- valve metal
- clause
- Prior art date
Links
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 148
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims abstract description 148
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 230000009467 reduction Effects 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 85
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 65
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 32
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical group [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 26
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical group [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 14
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical group O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 14
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 10
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- -1 granular Substances 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012255 powdered metal Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/042—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G1/00—Methods of preparing compounds of metals not covered by subclasses C01B, C01C, C01D, or C01F, in general
- C01G1/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G33/00—Compounds of niobium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G35/00—Compounds of tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/495—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. vanadates, niobates, tantalates, molybdates or tungstates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/052—Sintered electrodes
- H01G9/0525—Powder therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F7/00—Compounds of aluminium
- C01F7/02—Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/20—Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/14—Pore volume
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/16—Pore diameter
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G2009/05—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure consisting of tantalum, niobium, or sintered material; Combinations of such electrodes with solid semiconductive electrolytes, e.g. manganese dioxide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
Изобретение относится к новым материалам для конденсаторов, способу их получения и конденсаторам, использующим эти материалы. Способ предусматривает, по меньшей мере, частичное восстановление оксидов вентильных металлов и включает термообработку оксида вентильного металла в присутствии газопоглощающего материала в атмосфере, которая позволяет переносить атомы кислорода из исходного оксида вентильного металла в газопоглощающий материал, в течение промежутка времени и при температуре, достаточных для получения оксида вентильного металла с пониженным содержанием кислорода. Полученные оксиды вентильных металлов и/или их субоксиды имеют атомное соотношение металла и кислорода, равное 1 : менее 2,5, удельную поверхность 0,5-10 м2/г и кажущуюся плотность менее 2,0 г/см3. Оксиды вентильных металлов анодируют с получением анода конденсатора. Получают конденсаторы, содержащие аноды, изготовленные из оксидов вентильных металлов и их субоксидов. 4 с. и 33 з.п. ф-лы, 3 табл. 14 ил.
Description
Изобретение относится к вентильным металлам, другим металлам и их оксидам и, более точно, к способам по меньшей мере частичного восстановления оксидов металлов и, дополнительно, к оксидам вентильных и других металлов с пониженным содержанием кислорода.
В соответствии с описанными и реализованными целями данное изобретение относится к способу по меньшей мере частичного восстановления оксида металла, выбранного из оксида вентильного металла, который включает стадии термообработки оксида металла в присутствии газопоглощающего материала, такого как танталовый и/или ниобиевый газопоглощающий материал и другой газопоглощающий материал, способный восстанавливать оксид металла, в атмосфере, которая позволяет переносить атомы кислорода из оксида металла в газопоглощающий материал, в течение промежутка времени и при температуре, достаточных для получения оксида вентильного металла с пониженным содержанием кислорода.
Данное изобретение относится также к оксидам вентильных металлов с пониженным содержанием кислорода, которые, предпочтительно, обладают преимущественными свойствами, особенно когда использованы для изготовления анода электролитического конденсатора. Например, конденсатор, изготовленный из оксида вентильного металла с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению, может иметь емкость от примерно 1000 мкФ·В/г или менее до примерно 200000 мкФ·В/г или более. Кроме того, аноды электролитических конденсаторов, изготовленные из оксидов вентильных металлов с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению, могут иметь низкую утечку по постоянному току. Например, такой конденсатор может иметь утечку по постоянному току от приблизительно 5,0 нА/мкФ·В до приблизитель но 0,5 нА/мкФ·В.
Соответственно, данное изобретение относится также к способам повышения емкости и снижения утечки по постоянному.току в конденсаторах, изготовленных из оксидов вентильных металлов, которые включают частичное восстановление оксидов вентильных металлов посредством термообработки оксида вентильного металла в присутствии газопоглощающего материала, такого как танталовый и/или ниобиевый газопоглощающий материал, в атмосфере, которая позволяет переносить атомы кислорода из оксида металла в газопоглощающий материал в течение периода времени и при температуре, достаточных для получения оксида вентильного металла с пониженным содержанием кислорода, который, при использовании в аноде конденсатора, имеет пониженную утечку по постоянному току и/или повышенную емкость.
Ниже изобретение поясняется более подробно с помощью чертежей, где на фиг.1-14 представлены фотоснимки различных оксидов вентильных металлов с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению, полученные на электронном сканирующем микроскопе при различных увеличениях.
В соответствии с вышеизложенным изобретение относится к способам по меньшей мере частичного восстановления оксида вентильного металла. Обычно способ включает стадии термообработки оксида вентильного металла в присутствии газопоглощающего материала, который предпочтительно представляет собой танталовый и/или ниобиевый газопоглощающий материал или другой газопоглощающий материал, в зависимости от оксида металла, подлежащего восстановлению, в атмосфере, которая позволяет переносить атомы кислорода из оксида металла в газопоглощающий материал, в течение достаточного периода времени и при температуре, достаточной для получения оксида вентильного металла с пониженным содержанием кислорода.
Для достижения цели изобретения исходные оксиды вентильных металлов могут представлять собой, но без ограничения приведенным перечнем, по меньшей мере оксид металла 4, 5 или 6 групп (IUPAC определения) Периодической таблицы, алюминия, висмута, сурьмы или их сплавов или сочетаний. Предпочтительно, оксид вентильного металла представляет собой оксид тантала, алюминия, титана, циркония, ниобия и/или их сплавов, и наиболее предпочтителен оксид ниобия, оксид тантала или их сплавы. Обычно сплавы оксидов вентильных металлов содержат вентильный металл в качестве преобладающего металла, присутствующего в оксидном сплаве. Конкретные примеры исходных оксидов вентильных металлов включают, но без ограничения приведенным перечнем, Nb2O5, Та2О5 и Аl2О3.
Оксид металла может также представляет собой оксид полупроводникового металла в качестве низшего оксида, который превращается в высший оксид с высокими изолирующими свойствами и обладает полезными диэлектрическими свойствами.
Оксид вентильного металла, используемый в данном изобретении, может иметь любую форму или размер. Предпочтительно, оксид вентильного металла находится в виде порошка или множества частиц. Порошок, который может использоваться в данном изобретении, включает, но без ограничения приведенным перечнем, хлопьевидный порошок, порошок из остроугольных частиц, гранулированный порошок и их смеси или разновидности. Предпочтительно, оксид вентильного металла находится в форме порошка, который приводит к более эффективному получению оксидов вентильных металлов с пониженным содержанием кислорода. Примеры таких предпочтительных порошков оксидов металлов включают порошки с размером частиц от примерно 60/100 меш до примерно 100/325 меш и от примерно 60/100 меш до примерно 200/325 меш. Другим интервалом размера частиц является интервал от примерно -40 меш до примерно -325 меш.
Газопоглощающий материал согласно изобретению представляет собой любой материал, способный восстанавливать конкретный исходный оксид вентильного металла. Предпочтительно для исходных оксидов металлов, подобных танталу или ниобию и т.п., газопоглощающим материалом является тантал или ниобий.
Более точно, газопоглощающий материал представляет собой основной металл такого же типа, что и исходный оксид металла. Танталовый газопоглощающий материал представляет собой любой материал, содержащий металлический тантал, который может удалять или по меньшей мере частично снижать содержание кислорода в оксиде вентильного металла. Таким образом, танталовый газопоглощающий материал может представлять собой сплав или материал, содержащий смеси металлического тантала с другими ингредиентами. Предпочтительно, танталовый газопоглощающий материал является главным образом, но не исключительно, металлическим танталом. Чистота металлического тантала не важна, но предпочтительно, газопоглощающий материал включает металлический тантал высокой чистоты во избежание введения других примесей в процессе термообработки. Соответственно, металлический тантал в танталовом газопоглощающем материале предпочтительно имеет чистоту по меньшей мере около 98% и более предпочтительно по меньшей мере около 99%. Кроме того, предпочтительно, примеси, такие как кислород, не присутствуют или присутствуют в количествах менее примерно 100 млн-1. Металлический тантал в газопоглощающем материале может также иметь высокую площадь поверхности и/или высокую пористость. Предпочтительно, танталовый газопоглощающий материал или другой газопоглощающий материал представляет собой материал марки, которая используется для изготовления конденсаторов, такой как тантал с емкостью примерно 30000 мкФ·В/г или выше, более предпочтительно примерно 50000 мкФ·В/г или выше и наиболее предпочтительно от примерно 75000 мкФ·В/г до примерно 10000 мкФ·В/г или выше. Газопоглощающий материал может удаляться после применения или может сохраняться. Предпочтительно, если газопоглощающий материал остается с оксидами металлов с пониженным содержанием кислорода, то предпочтительно, газопоглощающий материал является таким же основным металлом, что и исходный оксид металла, и имеет форму и размер, аналогичные форме и размеру исходного оксида металла. Кроме того, предпочтительно используется газопоглощающий материал высокой чистоты, с высокой площадью поверхности и высокой пористостью, поскольку такой материал будет приобретать оксидное состояние, аналогичное или подобное состоянию оксида металла с пониженным содержанием кислорода. Таким образом, способ будет приводить к 100% выходу оксида металла с пониженным содержанием кислорода. Следовательно, газопоглощающий материал может действовать только как газопоглотитель, а при сохранении на прежнем месте может становиться частью оксида ниобия с пониженным содержанием кислорода.
Данное изобретение может приводить к снижению количества тантала или другого металла в таких изделиях, как конденсатор, поскольку анод, содержащий оксид тантала с пониженным содержанием кислорода (или другой оксид металла, используемый для изготовления конденсаторов), содержит меньше тантала, чем такой же анод, содержащий только металлический тантал. Кроме того, при этом можно получать аналогичные свойства, например емкость и утечку по постоянному току. Это преимущество может приводить к экономии затрат и другим преимуществам для производителей конденсаторов.
Танталовый газопоглощающий материал может иметь любую форму или размер. Например, танталовый газопоглощающий материал может иметь форму тарелки, которая содержит оксид металла, подлежащий восстановлению, может иметь размер частицы или представлять собой порошок. Предпочтительно, танталовые газопоглощающие материалы находятся в форме порошка для того, чтобы иметь наиболее эффективную площадь поверхности для восстановления оксида металла. Таким образом, танталовый газопоглощающий материал может быть хлопьевидным, порошком из остроугольных частиц, гранулированным или представлять смеси или видоизменения этих форм. Предпочтительно, газопоглощающий материал представляет собой гидрид тантала. Предпочтительной формой является форма крупной крошки (coarse chips), например, крошка размером 14/40 меш, которая может легко отделяться от порошкообразного продукта с помощью просеивания.
Аналогично, газопоглощающий материал может представлять собой ниобий и т.п. и может иметь те же предпочтительные параметры и/или свойства, которые описаны выше для танталового газопоглощающего материала. Другими газопоглощающими материалами, которые могут использоваться отдельно или в сочетании с танталовым или ниобиевым газопоглощающими материалами, являются, например, магний, натрий, калий и т.п. Газопоглощающие материалы этих типов могут содержать также другие газопоглотители и/или другие ингредиенты. Газопоглощающий материал, используемый для целей данного изобретения, является стабильным в процессе термообработки и не летуч при температурах термообработки, используемых для специфического исходного оксида вентильного металла, подлежащего восстановлению. Другие материалы также могут составлять часть газопоглощающего материала.
Обычно достаточное количество газопоглощающего материала (например, кислородного газопоглощающего материала) присутствует для по меньшей мере частичного восстановления оксида вентильного металла, подлежащего термообработке. Кроме того, количество газопоглощающего материала зависит от степени целевого восстановления оксида металла. Например, если требуется легкое восстановление оксида металла, то газопоглощающий материал будет присутствовать в стехиометрическом количестве. Аналогично, если оксид металла необходимо восстановить по существу присутствующим кислородом, то газопоглощающий материал присутствует в 2-кратном - 5-кратном стехиометрическом количестве. Например, газопоглощающий материал присутствует (например, из расчета на то, что танталовый газопоглощающий материал представляет собой 100% тантал, и оксид металла представляет собой Ta2O5) в количестве, при котором соотношение газопоглощающий материл: оксид металла может составлять от примерно 2:1 до примерно 10:1.
Кроме того, количество газопоглощающего материала также может зависеть от типа оксида металла, подлежащего восстановлению. Например, когда восстановлению подлежит оксид ниобия (например, Nb2O5), количество газопоглощающего материала предпочтительно составляет 5:1. Когда исходным оксидом вентильного металла является Ta2O5, количество газопоглощающего материала предпочтительно составляет 3:1.
Термообработка, которой подвергается исходный оксид металла, может проводиться в любом устройстве для термообработки или в печи, обычно используемых для термообработки металлов, таких как ниобий и тантал. Термообработка оксида металла в присутствии газопоглощающего материала проводится при температуре и в течение периода времени, достаточных для получения оксида вентильного металла с пониженным содержанием кислорода. Температура и время термообработки могут зависеть от различных факторов, таких как степень восстановления оксида вентильного металла, количество газопоглощающего материала, типа газопоглощающего материала, а также типа исходного оксида металла. Термообработка может проводиться при любой температуре, которая позволяет восстановить исходный оксид вентильного металла и которая ниже температуры плавления оксида вентильного металла, подлежащего восстановлению. Обычно термообработка исходного оксида проводится при температуре от примерно 800°С или менее до примерно 1900°С, более предпочтительно от примерно 1000°С до примерно 1400°С, и наиболее предпочтительно от примерно 1100°С до примерно 1250°С. Более точно, когда оксид вентильного металла представляет собой танталсодержащий оксид, температура термообработки должна находиться в интервале от примерно 1000°С до примерно 1300°С, и более предпочтительно, от примерно 1100°С до примерно 1250°С, и время термообработки составляет от примерно 5 минут до примерно 100 минут, более предпочтительно от примерно 30 минут до примерно 60 минут. Общепринятая практика испытания в применении к данному изобретению позволит специалисту в данной области легко регулировать время и температуру термообработки для того, чтобы получить соответствующее или нужное восстановление оксида металла.
Термообработка проводится в атмосфере, которая позволяет переносить атомы кислорода из оксида металла в газопоглощающий материал. Термообработка предпочтительно проводится в атмосфере, содержащей водород, которая предпочтительно представляет собой водород. Вместе с водородом могут также присутствовать и другие газы, такие как инертные газы, если эти другие газы не взаимодействуют с водородом. Предпочтительно, атмосфера водорода присутствует в течение термообработки с давлением от примерно 1,333 кПа до примерно 266,644 кПа, более предпочтительно от примерно 13,332 кПа до примерно 133,322 кПа, наиболее предпочтительно, от примерно 13,332 кПа до примерно 123,989 кПа. Могут применяться смеси Н2 и инертного газа, такого как Аr. Кроме того, может использоваться Н2 в N2 для эффективного контроля содержания N2 в оксиде вентильного металла.
При проведении термообработки в течение всего процесса термообработки может использоваться постоянная температура термообработки или могут использоваться изменения в температуре или температурные стадии. Например, водород может сначала вводиться при температуре 1000°C с последующим повышением до 1250 в течение 30 минут, последующим снижением температуры до 1000°С и сохранением этой температуры до удаления газообразного Н2. После удаления Н2 или другой атмосферы температура печи может быть снижена. Видоизменения этих стадий могут использоваться для удовлетворения любым требованиям промышленного получения.
Оксиды металлов с пониженным содержанием кислорода могут также содержать некоторое количество азота, например, от примерно 100 млн-1 до примерно 30000 млн-1 N2.
Оксид вентильного металла с пониженным содержанием кислорода представляет собой любой оксид металла, который содержит меньшее количество кислорода по сравнению с исходным оксидом вентильного металла. Типичные восстановленные оксиды вентильных металлов включают NbO, NbО0,7, NbO1,1, NbO2, TaO, AlO, Ta6O, Та2О, Та2O2,2 или любое их сочетание с присутствием или без других оксидов. Обычно восстановленный оксид металла данного изобретения имеет атомное соотношение металла и кислорода, равное примерно 1:менее 2,5, предпочтительно 1:2, более предпочтительно 1:1,1, 1:1 или 1:0,7. Другими словами, восстановленный оксид металла предпочтительно имеет формулу МxОy, где М представляет собой вентильный металл, x равен 2 или менее, и y равен менее 2,5х. Более предпочтительно, x равен 1, и у принимает значения меньше 2, такие как 1,1, 1,0, 0,7 и т.п. Предпочтительно, когда восстановленный оксид вентильного металла представляет собой тантал, восстановленный оксид металла имеет атомное соотношение металла к кислороду примерно 1:менее 2, такое как 1:0,5, 1:1 или 1:0,167, или имеет соотношение 2:2,2.
Исходные оксиды вентильных металлов могут быть получены кальцинированием при 1000°С до полного удаления всех летучих компонентов. Оксиды могут сортироваться посредством просеивания.
Для создания контролируемой пористости в частицах оксида может использоваться предварительная термообработка.
Восстановленные оксиды металлов данного изобретения предпочтительно также имеют микропористую поверхность и предпочтительно имеют губчатую структуру, где большая часть частиц предпочтительно имеют размер примерно 1 микрона или менее. Восстановленные оксиды металлов данного изобретения предпочтительно имеют высокую удельную поверхность и пористую структуру с приблизительно 50% пористостью. Кроме того, восстановленные оксиды металлов данного изобретения могут характеризоваться предпочтительной удельной поверхностью от приблизительно 0,5 до примерно 10,0 м2/г, более предпочтительно от примерно 0,5 до примерно 2,0 м2/г, еще более предпочтительно от примерно 1,0 до примерно 1,5 м2/г. Предпочтительная кажущаяся плотность порошка оксидов металлов составляет менее примерно 2,0 г/см3, более предпочтительно менее 1,5 г/см3 и более предпочтительно от примерно 0,5 до примерно 1,5 г/см3.
Различные оксиды вентильных металлов согласно изобретению с пониженным содержанием кислорода могут дополнительно характеризоваться электрическими свойствами после изготовления анода конденсатора с использованием оксидов металлов с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению. Обычно металлы с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению могут тестироваться для определения электрических свойств путем прессования порошков оксида металлов с пониженным содержанием кислорода в анод, агломерацией прессованного порошка при подходящих температурах и последующим анодированием для получения анода электролитического конденсатора, который затем может подвергаться испытанию для оценки его электрических свойств.
Соответственно, другое применение данного изобретения относится к анодам конденсаторов, сформованным из оксидов вентильных металлов с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению. Аноды могут изготавливаться из восстановленных оксидов в форме порошков способом, аналогичным используемому для получения металлических анодов, то есть прессованием пористых таблеток с вставленными контактными проволоками вентильного металла с последующей агломерацией и анодированием. Аноды, изготовленные из некоторых оксидов металлов с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению, могут иметь емкость от примерно 20000 мкФ·В/г или ниже до примерно 300000 мкФ·В/г или выше, и другими интервалами значений емкости могут служить интервалы от примерно 62000 мкФ·В/г до примерно 20000 мкФ·В/г и предпочтительно от примерно 60000 до 150000 мкФ·В/г. При изготовлении анодов конденсаторов согласно изобретению может использоваться такая температура агломерации, которая позволит получать анод конденсатора с нужными свойствами. Температура агломерации определяется исходя из используемого оксида металла с пониженным содержанием кислорода. Предпочтительно, температура агломерации находится в интервале от примерно 1200°С до примерно 1750°С, более предпочтительно от примерно 1200°С до примерно 1400°С, и наиболее предпочтительно от примерно 1250°С до примерно 1350°С, когда оксид вентильного металла с пониженным содержанием кислорода представляет собой оксид ниобия с пониженным содержанием кислорода. Когда оксид вентильного металла с пониженным содержанием кислорода представляет собой оксид тантала с пониженным содержанием кислорода, температура агломерации может быть такой же, как и температура, используемая для оксидов ниобия.
Аноды, сформованные из оксидов вентильных металлов согласно изобретению, предпочтительно получают при напряжении от примерно 1 вольта до примерно 35 вольт, предпочтительно от примерно 6 вольт до примерно 70 вольт. Кроме того, когда используется оксид ниобия с пониженным содержанием кислорода, предпочтительно напряжения формования составляют от примерно 6 до примерно 50 вольт, более предпочтительно от примерно 10 до примерно 40 вольт. Могут применяться и другие более высокие напряжения. Аноды из восстановленных оксидов металлов могут быть получены посредством изготовления таблетки с контактной проволокой или другим соединителем, последующей обработкой в атмосфере H2 или другой подходящей атмосфере в непосредственной близости от газопоглощающего материала и порошкообразных оксидов металлов данного изобретением с последующими необязательными агломерацией и анодированием. В этой форме выполнения изготавливаемое анодное изделие может быть получено непосредственно, например формованием оксида металла с пониженным содержанием кислорода и анода одновременно. Контактное соединение может вставляться или присоединяться в любое время перед анодированием. Предполагается, что напряжения формования при использовании других оксидов металлов являются такими же или примерно такими же и могут даже быть более высоким для оксидов вентильных металлов, подобных оксидам тантала. Кроме того, аноды, сформованные из оксидов металлов с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению, предпочтительно имеют утечку по постоянному току менее примерно 5,0 нА/мкФ·В. Например, аноды, сформованные из некоторых оксидов ниобия с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению, имеют удельную утечку по постоянному току от примерно 5,0 нА/мкФ·В до примерно 0,50 нА/мкФ·В.
Данное изобретение также относится к конденсатору, содержащему на поверхности пленку оксида металла. Предпочтительно, когда оксид вентильного металла с пониженным содержанием кислорода представляет собой оксид ниобия с пониженным содержанием кислорода, пленка представляет собой пленку пентоксида ниобия. Устройства для нанесения металлического порошка на аноды конденсатора известны специалистам, а способы описаны в Патентах США №№4805074, 5412533, 5211741 и 5245514 и Европейских заявках №№0634762 А1 и 0634761, которые введены в описание в качестве уровня техники.
Конденсаторы согласно изобретению могут использоваться для различных целей, например, в автомобильной электронике, сотовых телефонах, компьютерах (мониторы, материнские платы и т.п.), в бытовой электронике, включая телевизоры, катодно-лучевые трубки, принтеры/копировальные аппараты, источники питания, модемы, компьютерные ноутбуки, дисковые драйверы и т.п.
Данное изобретение будет дополнительно описано с помощью следующих примеров, которые, как подразумевается, являются примерами применения данного изобретения.
Способы испытания
Изготовление анода
Размер - диаметр 5,0 мм
3,5 Dp
Масса порошка = 341 мг
Анодная агломерация:
1300°С - 10 минут
1450°С - 10 минут
1600°С - 10 минут
1750°С - 10 минут
Сверхтонкое анодирование при 30 В
Сверхтонкое анодирование при 30 В и 60°С/0,1% Н3РO4, электролит постоянный ток 20 мА/г
Утечка по постоянному току/Емкость - ESR испытание
Оценка утечки по постоянному току
70% сверхтонкое анодирование (21VDC) напряжение опыта
Время зарядки - 60 секунд
10% Н3РO4 и 21°С
Емкость - DF испытание:
18% H2SO4 и 21°С
120 Гц
Сверхтонкое реформ-анодирование при 50 В
Сверхтонкое анодир. при 50 В и 60°С/0,1% Н3РO4, электролит
Постоянный ток 20 мА/г
Утечка по постоянному току/Емкость - ESR испытание:
Оценка утечки по постоянному току
70% сверхтонкое (35 VDC) напряжение опыта
Время зарядки - 60 секунд
10% Н3РO4 и 21°С
Емкость - DF испытание:
18% H2SO4 и 21°С
120 Гц
Сверхтонкое реформ-анодирование при 75 В
Сверхтонкое анод. при 75 В и 60°С/0,1% Н3РO4, электролит
Постоянный ток 20 мА/г
Утечка по постоянному току/емкость - ESR оценка
Оценка утечки по постояному току
70% Ef (52,5 VDC) напряжение опыта
Время зарядки - 60 секунд
10% Н3РO4 и 21°С
Емкость - DF определение
18% H2SO4 и 21°С
120 Гц
Определение плотности по Скотту (Scott density), содержания кислорода, содержания фосфора, BET анализ проводят в соответствии с методиками, описанными в патентах США №№5011742; 4960471 и 4964906, которые введены в описание в качестве уровня техники.
Примеры
Пример 1
Гидрид Та в виде крошки +10 меш (99,2 г) с содержанием кислорода примерно 50 млн-1 смешивают с 22 граммами Nb2О5 и помещают на тарелки из Та. Тарелки помещают в вакуумную печь термообработки и нагревают до 1000°С. Газообразный Н2 подают в печь до получения давления 20,684 кПа. Температуру поднимают до 1240°С и выдерживают в течение 30 минут. Температуру снижают до 1050°С и выдерживают в течение 6 минут до тех пор, пока весь Н2 не будет выведен из печи. При сохранении температуры в печи на уровне 1050°С из печи откачивают аргон до тех пор, пока давление не достигнет 0,067 Па. В этих условиях аргон снова подают в камеру до получения давления 700 мм (93,325 кПа) и печь охлаждают до 60°С.
Перед удалением из печи материал пассивируют посредством нескольких циклических экспозиций в постепенно нарастающих парциальных давлениях кислорода следующим образом: печь заполняют аргоном до 700 мм (93,325 кПа) и затем воздухом до одной атмосферы (101,325 кПа). Спустя 4 минуты из камеры откачивают газ до 1,33322 Па. Камеру снова наполняют аргоном до 600 мм (79,933 кПа), затем воздухом до одной атмосферы (101,325 кПа) и выдерживают в этих условиях в течение 4 минут. Из камеры откачивают газ до 1,33322 Па. Затем камеру наполняют аргоном до 400 мм (53,329 кПа) и воздухом одной атмосферы (101,325 кПа). Спустя 4 минуты из камеры откачивают газ до 1,33322 Па. Камеру наполняют аргоном до 200 мм (26,6644 кПа), затем воздухом до одной атмосферы (101,325 кПа) и выдерживают в течение 4 минут. Из камеры откачивают газ до 1,33322 Па. Камеру заполняют воздухом до одной атмосферы (101,325 кПа) и выдерживают в течение 4 минут. Из камеры удаляют газ до 1,33322 Па. Камеру заполняют аргоном до одной атмосферы (101,325 кПа) и открывают для отбора образца.
Порошкообразный продукт отделяют от танталового газопоглотителя в виде крошки посредством просеивания через сито 40 меш. Продукт подвергают испытанию и получают следующие результаты.
Емкость (мкФ·В/г) таблеток, агломерированных при 1300°С x 10 минут и сформованных при 35 вольт = 81,297
Утечка по постоянному току (нА/мкФ·В) = 5,0
Плотность агломерированных таблеток = 2,7 г/см3
Плотность по Скотту = 0,88 г/см3
Химический анализ (млн-1):
Пример 2
Образцы с 1 по 23 являются образцами следующих стадий, которые аналогичны описанной выше с порошкообразным Nb2O5, как показано в таблице 1. Для большинства примеров размеры частиц исходного вводимого материала в таблице 1 выражены в меш, например, 60/100 означает, что размеры частиц меньше 60 меш, но больше 100 меш. Аналогично, размер сита для некоторых из танталовых газопоглотителей приведен в виде 14/40. Газопоглотители, обозначенные как “гидрид Та в виде крошки”, имеют размер +40 меш без верхнего предела размера частиц.
Для образца 18 в качестве газопоглотителя используется Nb (коммерчески доступный N2000 хлопьевидный Nb в виде порошка от СРМ). Газопоглощающий материал для образца 18 представляет собой Nb в виде мелкозернистого порошка, который не отделяется от конечного продукта. Рентгенографическое исследование показывает, что некоторое количество газопоглощающего материала остается в виде Nb, но большая часть в результате проведенного процесса с использованием в качестве исходного оксида ниобия Nb2O5 превращается в NbO1,1 и NbO.
Образец 15 представляет собой таблетку Nb2O5, спрессованную до плотности, близкой к плотности твердого материала, и взаимодействует с Н2 в непосредственной близости от Та газопоглощающего материала. В результате процесса твердая таблетка оксида превращается в субоксид NbO в виде пористого сердечника. Этот сердечник подвергают агломерации с листом металлического ниобия для получения анодного контактного соединения и анодируют при 35 вольтах, используя методики электрического формования, аналогичные методикам, применяемым для порошковых стержневых таблеток. Этот образец свидетельствует об уникальной способности данного процесса создавать в одну стадию готовый к анодированию сердечник из исходного Nb2O5.
Из таблицы 1 видно, что аноды, изготовленные прессованием и агломерированием порошков/гранул согласно изобретению, обладают высокой емкостью и низкой утечкой по постоянному току. Приводятся микрофотоснимки различных образцов. На этих снимках можно видеть пористую структуру оксида ниобия с пониженным содержанием кислорода согласно изобретению. В частности, фиг.1 представляет собой фотоснимок внешней поверхности таблетки с увеличением в 5000 раз (образец 15). Фиг.2 представляет собой фотоснимок внутренней части этой же таблетки с увеличением в 5000 раз. Фиг.3 и 4 представляют собой фотоснимки внешней поверхности этой же таблетки с увеличением в 1000 раз. Фиг.5 представляет собой фотоснимок 11 образца с увеличением в 2000 раз, и фиг.6 и 7 представляют собой фотоснимки образца 4 с увеличением в 5000 раз. Фиг.8 представляет собой фотоснимок образца 3 с увеличением в 2000 раз, и фиг.9 - фотоснимок образца 6 с увеличением в 2000 раз. И наконец, фиг.10 представляет собой фотоснимок образца 6 с увеличением в 3000 раз, и фиг.11 - фотоснимок образца 9 с увеличением в 2000 раз.
Образцы 11 и 12 содержат один и тот же введенный материал. Образцы 2 и 3 содержат один и тот же введенный материал. Образцы 6 и 7 содержат один и тот же введенный материал. Образцы 9 и 10 содержат один и тот же введенный материал.
Пример 3
Образцы с 24 по 28 получены в соответствии с методиками примеров 1 и 2, но с указанными в таблице 2 отличиями, а также с тем отличием, что исходным оксидом металла является Та2O5 (от Mitsui) и газопоглощающий материал представляет собой тантал в виде порошка с высокой площадью поверхности и емкостью примерно 90000 мкФ·В/г. У исходного оксида металла частицы имеют примерно такую же форму и размер, что и частицы газопоглощающего материала. Целевую термообработку проводят при температурах от 1100°С до 1300°С. В этом примере газопоглощающий материал становится частью оксида тантала с пониженным содержанием кислорода вследствие стехиометрического соотношения материалов, что приводит по существу к такому же конечному состоянию оксида. Фиг.12 представляет собой фотоснимок образца 26 с увеличением в 2000 раз. Фиг.13 - фотоснимок образца 27 с увеличением в 2000 раз. Фиг.14 - фотоснимок образца 28 с увеличением в 2000 раз. Утечку по постоянному току и емкость тантала с пониженным содержанием кислорода измеряют после формования в аноды прессованием и агломерацией при 1200°C с использованием напряжения формования 30 вольт.
Другие формы выполнения данного изобретения будут понятны квалифицированному специалисту из рассмотрения описания и примеров практической реализации представленного изобретения. Предполагается, что описание и примеры рассматриваются только как иллюстративное описание изобретения, в рамках нижеприведенной формулы изобретения.
Claims (37)
1. Способ, по меньшей мере, частичного восстановления оксида металла, содержащего оксид вентильного металла при условии, что указанный оксид вентильного металла не содержит оксидов титана, включающий термообработку оксида вентильного металла в присутствии газопоглощающего материала и в атмосфере, которая позволяет осуществлять перенос атомов кислорода из исходного оксида вентильного металла в газопоглощающий материал, в течение времени и при температуре, достаточных для получения оксида металла с пониженным содержанием кислорода, имеющего атомное соотношение металла и кислорода 1:менее 2,5 и удельную площадь поверхности от примерно 0,5 до примерно 10 м2/г, причем указанный оксид вентильного металла имеет кажущуюся плотность менее примерно 2,0 г/см3.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что оксид вентильного металла представляет собой оксид тантала.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что оксид вентильного металла представляет собой оксид тантала, а оксид металла с пониженным содержанием кислорода представляет собой субоксид тантала.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в оксиде металла с пониженным содержанием кислорода содержание кислорода составляет менее стехиометрически необходимого количества для полностью окисленного металла.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что оксид металла с пониженным содержанием кислорода имеет микропористую структуру.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что в оксиде металла с пониженным содержанием кислорода объем пор составляет примерно 50%.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанная атмосфера представляет собой атмосферу водорода.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что атмосфера водорода присутствует в количестве от примерно 1,333 кПа до примерно 266,644 кПа.
9. Способ по п.1, отличающийся тем, что газопоглощающий материал включает частицы гидрида тантала.
10. Способ по п.2, отличающийся тем, что газопоглощающий материал включает тантал сорта, используемого для изготовления конденсаторов марки.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что газопоглощающий материал представляет собой частицы гидрида тантала размером 14/40 меш.
12. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанную термообработку проводят при температуре от примерно 1000°С до примерно 1300°С в течение от примерно 10 до примерно 90 мин.
13. Способ по п.2, отличающийся тем, что газопоглощающий материал представляет собой тантал.
14. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанный оксид вентильного металла представляет собой оксид металла 4, 5 или 6 групп Периодической таблицы элементов при условии, что указанный оксид вентильного металла не является оксидом титана.
15. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанный оксид металла представляет собой оксид алюминия, циркония или их сплава.
16. Оксид металла, включающий оксид вентильного металла с атомным соотношением металла и кислорода, равным 1:менее 2,5 при условии, что указанный оксид вентильного металла не содержит оксидов титана, при этом указанный оксид вентильного металла имеет удельную площадь поверхности от примерно 0,5 до примерно 10 м2/г, и кажущуюся плотность менее примерно 2,0 г/см3.
17. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что соотношение металла и кислорода равно 1:менее 2,0.
18. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что соотношение металла и кислорода равно 1:менее 1,5.
19. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что соотношение металла и кислорода равно 1:0,167 или 2:2,2.
20. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что соотношение металла и кислорода равно 1:1.
21. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что соотношение металла и кислорода равно 1:0,5.
22. Оксид металла по любому из пп.16-21, отличающийся тем, что оксид вентильного металла представляет собой оксид тантала.
23. Оксид металла по любому из пп.16-21, отличающийся тем, что оксид вентильного металла представляет собой оксид алюминия.
24. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что оксид вентильного металла имеет пористую структуру.
25. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что оксид вентильного металла имеет пористую структуру с размером пор от примерно 0,1 (10-7 м) до примерно 10 мкм (10-5 м).
26. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что оксид вентильного металла сформирован в анод электролитического конденсатора.
27. Оксид металла по п.26, отличающийся тем, что анод имеет утечку по постоянному току от примерно 0,5 до примерно 5 нА/мкФ·В.
28. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что оксид вентильного металла содержит гранулированные, хлопьевидные, остроугольные частицы или их сочетания.
29. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что оксид вентильного металла представляет собой оксид металла 4, 5 или 6 групп Периодической таблицы элементов при условии, что указанный оксид вентильного металла не является оксидом титана.
30. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что указанный оксид вентильного металла представляет собой оксид алюминия, циркония или их сплава.
31. Оксид металла по п.16, отличающийся тем, что в указанном оксиде вентильного металла объем пор составляет примерно 50%.
32. Конденсатор, включающий оксид металла по п.16.
33. Конденсатор по п.32, отличающийся тем, что оксид металла представляет собой оксид тантала.
34. Конденсатор по п.32, отличающийся тем, что оксид металла представляет собой оксид алюминия.
35. Способ изготовления анода конденсатора, включающий изготовление таблетки оксида металла и термообработку ее в присутствии газопоглощающего материала в атмосфере, которая позволяет переносить атомы кислорода из исходного оксида вентильного металла в газопоглощающий материал, в течение времени и при температуре, достаточных для формирования электродного элемента, включающего оксид металла с пониженным содержанием кислорода, и последующее анодирование с получением анода конденсатора, в котором указанный оксид металла включает оксид вентильного металла.
36. Способ по п.35, отличающийся тем, что оксид металла представляет собой оксид алюминия.
37. Способ по п.35, отличающийся тем, что оксид металла представляет собой оксид тантала.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10062998P | 1998-09-16 | 1998-09-16 | |
US60/100,629 | 1998-09-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2001110115A RU2001110115A (ru) | 2003-04-10 |
RU2230031C2 true RU2230031C2 (ru) | 2004-06-10 |
Family
ID=22280732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2001110115/15A RU2230031C2 (ru) | 1998-09-16 | 1999-09-16 | Способ частичного восстановления оксида металла и оксид металла с пониженным содержанием кислорода |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6322912B1 (ru) |
EP (1) | EP1115659A1 (ru) |
JP (1) | JP2002524379A (ru) |
KR (1) | KR20010075152A (ru) |
CN (1) | CN1320104A (ru) |
AU (1) | AU758081B2 (ru) |
BR (1) | BR9913728A (ru) |
CZ (1) | CZ303153B6 (ru) |
HK (1) | HK1042465A1 (ru) |
IL (1) | IL142007A0 (ru) |
MY (1) | MY131981A (ru) |
RU (1) | RU2230031C2 (ru) |
TW (1) | TW500696B (ru) |
WO (1) | WO2000015556A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2493939C2 (ru) * | 2007-08-16 | 2013-09-27 | Х. К. Штарк Гмбх | Наноструктуры, состоящие из вентильных металлов и субоксидов вентильных металлов, и способ их получения |
Families Citing this family (166)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6416730B1 (en) | 1998-09-16 | 2002-07-09 | Cabot Corporation | Methods to partially reduce a niobium metal oxide oxygen reduced niobium oxides |
US6462934B2 (en) * | 1998-09-16 | 2002-10-08 | Cabot Corporation | Methods to partially reduce a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides |
US6576099B2 (en) | 2000-03-23 | 2003-06-10 | Cabot Corporation | Oxygen reduced niobium oxides |
MXPA02009291A (es) * | 2000-03-23 | 2003-05-23 | Cabot Corp | Oxidos de niobio reducidos con oxigeno. |
DE10030387A1 (de) * | 2000-06-21 | 2002-01-03 | Starck H C Gmbh Co Kg | Kondensatorpulver |
DE10041901A1 (de) * | 2000-08-25 | 2002-03-07 | Starck H C Gmbh | Kondensatoranode auf Basis Niob |
KR20030046520A (ko) | 2000-11-06 | 2003-06-12 | 캐보트 코포레이션 | 개질된 산소 환원된 밸브 금속 산화물 |
US7210641B2 (en) | 2001-02-28 | 2007-05-01 | Cabot Corporation | Methods of making a niobium metal oxide |
US7149074B2 (en) * | 2001-04-19 | 2006-12-12 | Cabot Corporation | Methods of making a niobium metal oxide |
US6674635B1 (en) | 2001-06-11 | 2004-01-06 | Avx Corporation | Protective coating for electrolytic capacitors |
GB2410251B8 (en) * | 2002-03-12 | 2018-07-25 | Starck H C Gmbh | Valve metal powders and process for producing them |
DE10307716B4 (de) | 2002-03-12 | 2021-11-18 | Taniobis Gmbh | Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung |
US6864147B1 (en) | 2002-06-11 | 2005-03-08 | Avx Corporation | Protective coating for electrolytic capacitors |
US7655214B2 (en) * | 2003-02-26 | 2010-02-02 | Cabot Corporation | Phase formation of oxygen reduced valve metal oxides and granulation methods |
US7135141B2 (en) * | 2003-03-31 | 2006-11-14 | Hitachi Metals, Ltd. | Method of manufacturing a sintered body |
US7157073B2 (en) | 2003-05-02 | 2007-01-02 | Reading Alloys, Inc. | Production of high-purity niobium monoxide and capacitor production therefrom |
US7445679B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-11-04 | Cabot Corporation | Controlled oxygen addition for metal material |
US7515397B2 (en) * | 2003-05-19 | 2009-04-07 | Cabot Corporation | Methods of making a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides |
EP1498391B1 (de) * | 2003-07-15 | 2010-05-05 | H.C. Starck GmbH | Niobsuboxidpulver |
EP1505611B9 (de) * | 2003-07-22 | 2012-12-05 | H.C. Starck GmbH | Verfahren zur Herstellung von Kondensatoren |
DE10333156A1 (de) * | 2003-07-22 | 2005-02-24 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Niobsuboxid |
DE10347702B4 (de) * | 2003-10-14 | 2007-03-29 | H.C. Starck Gmbh | Sinterkörper auf Basis Niobsuboxid |
KR101132267B1 (ko) | 2003-11-10 | 2012-04-02 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 콘덴서용 니오브 분말, 니오브 소결체 및 콘덴서 |
DE102004049039B4 (de) * | 2004-10-08 | 2009-05-07 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Ventilmetallpulver |
JP4743507B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2011-08-10 | 昭和電工株式会社 | 固体電解コンデンサ用多孔質陽極体、その製造方法、及び固体電解コンデンサ |
JP2006206428A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-08-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ニオブ酸化物及びその製造方法 |
JP4327747B2 (ja) | 2005-02-21 | 2009-09-09 | 双葉電子工業株式会社 | 非蒸発ゲッターを備えた電子デバイス及びその電子デバイスの製造方法 |
US7099143B1 (en) * | 2005-05-24 | 2006-08-29 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitors |
US20060269436A1 (en) * | 2005-05-31 | 2006-11-30 | Cabot Corporation | Process for heat treating metal powder and products made from the same |
US8264819B2 (en) | 2005-08-19 | 2012-09-11 | Avx Corporation | Polymer based solid state capacitors and a method of manufacturing them |
GB0517952D0 (en) * | 2005-09-02 | 2005-10-12 | Avx Ltd | Method of forming anode bodies for solid state capacitors |
US8717777B2 (en) | 2005-11-17 | 2014-05-06 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor with a thin film fuse |
US8257463B2 (en) * | 2006-01-23 | 2012-09-04 | Avx Corporation | Capacitor anode formed from flake powder |
US7480130B2 (en) | 2006-03-09 | 2009-01-20 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor |
US7511943B2 (en) | 2006-03-09 | 2009-03-31 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a cathode coating |
US7352563B2 (en) * | 2006-03-13 | 2008-04-01 | Avx Corporation | Capacitor assembly |
US7468882B2 (en) * | 2006-04-28 | 2008-12-23 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor assembly |
JP2009536266A (ja) | 2006-05-05 | 2009-10-08 | キャボット コーポレイション | タンタル粉末およびその製造方法 |
US7280343B1 (en) * | 2006-10-31 | 2007-10-09 | Avx Corporation | Low profile electrolytic capacitor assembly |
GB0622463D0 (en) * | 2006-11-10 | 2006-12-20 | Avx Ltd | Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes |
US7532457B2 (en) * | 2007-01-15 | 2009-05-12 | Avx Corporation | Fused electrolytic capacitor assembly |
US7649730B2 (en) | 2007-03-20 | 2010-01-19 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a plurality of thin powder-formed anodes |
US7460356B2 (en) * | 2007-03-20 | 2008-12-02 | Avx Corporation | Neutral electrolyte for a wet electrolytic capacitor |
US7554792B2 (en) | 2007-03-20 | 2009-06-30 | Avx Corporation | Cathode coating for a wet electrolytic capacitor |
US20080232032A1 (en) | 2007-03-20 | 2008-09-25 | Avx Corporation | Anode for use in electrolytic capacitors |
US7460358B2 (en) | 2007-03-21 | 2008-12-02 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a protective adhesive layer |
US7515396B2 (en) | 2007-03-21 | 2009-04-07 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a conductive polymer |
US7483259B2 (en) | 2007-03-21 | 2009-01-27 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a barrier layer |
US7876548B2 (en) * | 2007-04-20 | 2011-01-25 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Niobium solid electrolytic capacitor and its production method |
EP2176872A2 (en) * | 2007-07-18 | 2010-04-21 | Cabot Corporation | Niobium suboxide- and niobium-tantalum-oxide-powders and capacitor anodes produced thereof |
US7724502B2 (en) * | 2007-09-04 | 2010-05-25 | Avx Corporation | Laser-welded solid electrolytic capacitor |
US7760487B2 (en) | 2007-10-22 | 2010-07-20 | Avx Corporation | Doped ceramic powder for use in forming capacitor anodes |
US7768773B2 (en) | 2008-01-22 | 2010-08-03 | Avx Corporation | Sintered anode pellet etched with an organic acid for use in an electrolytic capacitor |
US7852615B2 (en) * | 2008-01-22 | 2010-12-14 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor anode treated with an organometallic compound |
US7760488B2 (en) | 2008-01-22 | 2010-07-20 | Avx Corporation | Sintered anode pellet treated with a surfactant for use in an electrolytic capacitor |
US7826200B2 (en) * | 2008-03-25 | 2010-11-02 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor assembly containing a resettable fuse |
US8094434B2 (en) | 2008-04-01 | 2012-01-10 | Avx Corporation | Hermetically sealed capacitor assembly |
US8199462B2 (en) * | 2008-09-08 | 2012-06-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for embedding into a circuit board |
AU2008361558B2 (en) * | 2008-09-09 | 2014-08-28 | Touch One Corporation | Glove and attachment therefor |
US8023250B2 (en) | 2008-09-12 | 2011-09-20 | Avx Corporation | Substrate for use in wet capacitors |
US8344282B2 (en) | 2008-09-24 | 2013-01-01 | Avx Corporation | Laser welding of electrolytic capacitors |
US20100085685A1 (en) | 2008-10-06 | 2010-04-08 | Avx Corporation | Capacitor Anode Formed From a Powder Containing Coarse Agglomerates and Fine Agglomerates |
US8279585B2 (en) | 2008-12-09 | 2012-10-02 | Avx Corporation | Cathode for use in a wet capacitor |
US8430944B2 (en) * | 2008-12-22 | 2013-04-30 | Global Advanced Metals, Usa, Inc. | Fine particle recovery methods for valve metal powders |
US8075640B2 (en) | 2009-01-22 | 2011-12-13 | Avx Corporation | Diced electrolytic capacitor assembly and method of production yielding improved volumetric efficiency |
US8203827B2 (en) | 2009-02-20 | 2012-06-19 | Avx Corporation | Anode for a solid electrolytic capacitor containing a non-metallic surface treatment |
US8405956B2 (en) | 2009-06-01 | 2013-03-26 | Avx Corporation | High voltage electrolytic capacitors |
US8223473B2 (en) | 2009-03-23 | 2012-07-17 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor containing a liquid electrolyte |
GB2468942B (en) | 2009-03-23 | 2014-02-19 | Avx Corp | High voltage electrolytic capacitors |
US8279583B2 (en) | 2009-05-29 | 2012-10-02 | Avx Corporation | Anode for an electrolytic capacitor that contains individual components connected by a refractory metal paste |
US8441777B2 (en) * | 2009-05-29 | 2013-05-14 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with facedown terminations |
US8199461B2 (en) * | 2009-05-29 | 2012-06-12 | Avx Corporation | Refractory metal paste for solid electrolytic capacitors |
US8139344B2 (en) * | 2009-09-10 | 2012-03-20 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor assembly and method with recessed leadframe channel |
US8194395B2 (en) * | 2009-10-08 | 2012-06-05 | Avx Corporation | Hermetically sealed capacitor assembly |
US8125768B2 (en) | 2009-10-23 | 2012-02-28 | Avx Corporation | External coating for a solid electrolytic capacitor |
US8339771B2 (en) * | 2010-02-19 | 2012-12-25 | Avx Corporation | Conductive adhesive for use in a solid electrolytic capacitor |
US8619410B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-12-31 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use in high voltage applications |
US8512422B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-08-20 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing an improved manganese oxide electrolyte |
US8125769B2 (en) | 2010-07-22 | 2012-02-28 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor assembly with multiple cathode terminations |
US8259436B2 (en) | 2010-08-03 | 2012-09-04 | Avx Corporation | Mechanically robust solid electrolytic capacitor assembly |
US8279584B2 (en) | 2010-08-12 | 2012-10-02 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor assembly |
US8605411B2 (en) | 2010-09-16 | 2013-12-10 | Avx Corporation | Abrasive blasted conductive polymer cathode for use in a wet electrolytic capacitor |
US8968423B2 (en) | 2010-09-16 | 2015-03-03 | Avx Corporation | Technique for forming a cathode of a wet electrolytic capacitor |
US8824121B2 (en) | 2010-09-16 | 2014-09-02 | Avx Corporation | Conductive polymer coating for wet electrolytic capacitor |
US8199460B2 (en) | 2010-09-27 | 2012-06-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved anode termination |
US8259435B2 (en) | 2010-11-01 | 2012-09-04 | Avx Corporation | Hermetically sealed wet electrolytic capacitor |
US8514547B2 (en) | 2010-11-01 | 2013-08-20 | Avx Corporation | Volumetrically efficient wet electrolytic capacitor |
US8824122B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-09-02 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use in high voltage and high temperature applications |
US8355242B2 (en) | 2010-11-12 | 2013-01-15 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor element |
US8848342B2 (en) | 2010-11-29 | 2014-09-30 | Avx Corporation | Multi-layered conductive polymer coatings for use in high voltage solid electrolytic capacitors |
US8576543B2 (en) | 2010-12-14 | 2013-11-05 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a poly(3,4-ethylenedioxythiophene) quaternary onium salt |
US8493713B2 (en) | 2010-12-14 | 2013-07-23 | Avx Corporation | Conductive coating for use in electrolytic capacitors |
US8687347B2 (en) | 2011-01-12 | 2014-04-01 | Avx Corporation | Planar anode for use in a wet electrolytic capacitor |
US8477479B2 (en) | 2011-01-12 | 2013-07-02 | Avx Corporation | Leadwire configuration for a planar anode of a wet electrolytic capacitor |
US8451588B2 (en) | 2011-03-11 | 2013-05-28 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a conductive coating formed from a colloidal dispersion |
US8514550B2 (en) | 2011-03-11 | 2013-08-20 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a cathode termination with a slot for an adhesive |
US8582278B2 (en) | 2011-03-11 | 2013-11-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved mechanical stability |
US8300387B1 (en) | 2011-04-07 | 2012-10-30 | Avx Corporation | Hermetically sealed electrolytic capacitor with enhanced mechanical stability |
US8947857B2 (en) | 2011-04-07 | 2015-02-03 | Avx Corporation | Manganese oxide capacitor for use in extreme environments |
US9767964B2 (en) | 2011-04-07 | 2017-09-19 | Avx Corporation | Multi-anode solid electrolytic capacitor assembly |
US8379372B2 (en) | 2011-04-07 | 2013-02-19 | Avx Corporation | Housing configuration for a solid electrolytic capacitor |
US8451586B2 (en) | 2011-09-13 | 2013-05-28 | Avx Corporation | Sealing assembly for a wet electrolytic capacitor |
DE102011083017A1 (de) * | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Evonik Industries Ag | Verbundwerkstoffe umfassend eine offenzellige Polymermatrix und darin eingebettete Granulate |
US9105401B2 (en) | 2011-12-02 | 2015-08-11 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a gelled working electrolyte |
US9275799B2 (en) | 2011-12-20 | 2016-03-01 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing an improved anode |
WO2013106659A1 (en) | 2012-01-13 | 2013-07-18 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with integrated fuse assembly |
DE102013101443A1 (de) | 2012-03-01 | 2013-09-05 | Avx Corporation | Ultrahigh voltage solid electrolytic capacitor |
US9053861B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-06-09 | Avx Corporation | Wet capacitor cathode containing a conductive coating formed anodic electrochemical polymerization of a colloidal suspension |
US8971019B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-03-03 | Avx Corporation | Wet capacitor cathode containing an alkyl-substituted poly(3,4-ethylenedioxythiophene) |
US9129747B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-09-08 | Avx Corporation | Abrasive blasted cathode of a wet electrolytic capacitor |
US9076592B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-07-07 | Avx Corporation | Wet capacitor cathode containing a conductive coating formed anodic electrochemical polymerization of a microemulsion |
US8971020B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-03-03 | Avx Corporation | Wet capacitor cathode containing a conductive copolymer |
JP2013219362A (ja) | 2012-04-11 | 2013-10-24 | Avx Corp | 過酷な条件下で強化された機械的安定性を有する固体電解コンデンサ |
US8947858B2 (en) | 2012-04-24 | 2015-02-03 | Avx Corporation | Crimped leadwire for improved contact with anodes of a solid electrolytic capacitor |
US8760852B2 (en) | 2012-04-24 | 2014-06-24 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing multiple sinter bonded anode leadwires |
GB2502703B (en) | 2012-05-30 | 2016-09-21 | Avx Corp | Notched lead for a solid electrolytic capacitor |
US9776281B2 (en) | 2012-05-30 | 2017-10-03 | Avx Corporation | Notched lead wire for a solid electrolytic capacitor |
CN103578768B (zh) | 2012-07-19 | 2017-10-31 | Avx公司 | 用在电解电容器固体电解质中的非离子表面活性剂 |
DE102013213720A1 (de) | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Avx Corporation | Temperaturstabiler Festelektrolytkondensator |
US9548163B2 (en) | 2012-07-19 | 2017-01-17 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved performance at high voltages |
DE102013213723A1 (de) | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Avx Corporation | Festelektrolytkondensator mit erhöhter Feucht-zu-Trocken-Kapazität |
JP5933397B2 (ja) | 2012-08-30 | 2016-06-08 | エイヴィーエックス コーポレイション | 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ |
GB2512480B (en) | 2013-03-13 | 2018-05-30 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor for use in extreme conditions |
GB2512481B (en) | 2013-03-15 | 2018-05-30 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor for use at high temperatures |
US9324503B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-04-26 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor |
GB2512486B (en) | 2013-03-15 | 2018-07-18 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor |
US9240285B2 (en) | 2013-04-29 | 2016-01-19 | Avx Corporation | Multi-notched anode for electrolytic capacitor |
GB2517019B (en) | 2013-05-13 | 2018-08-29 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor containing conductive polymer particles |
US9892862B2 (en) | 2013-05-13 | 2018-02-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat layer |
US9472350B2 (en) | 2013-05-13 | 2016-10-18 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a multi-layered adhesion coating |
US9236192B2 (en) | 2013-08-15 | 2016-01-12 | Avx Corporation | Moisture resistant solid electrolytic capacitor assembly |
US9269499B2 (en) | 2013-08-22 | 2016-02-23 | Avx Corporation | Thin wire/thick wire lead assembly for electrolytic capacitor |
US9236193B2 (en) | 2013-10-02 | 2016-01-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use under high temperature and humidity conditions |
US9589733B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-03-07 | Avx Corporation | Stable solid electrolytic capacitor containing a nanocomposite |
TWI560781B (en) * | 2014-09-10 | 2016-12-01 | Au Optronics Corp | Method for fabricating thin film transistor and apparatus thereof |
US9916935B2 (en) | 2014-11-07 | 2018-03-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with increased volumetric efficiency |
US9620293B2 (en) | 2014-11-17 | 2017-04-11 | Avx Corporation | Hermetically sealed capacitor for an implantable medical device |
US9892860B2 (en) | 2014-11-24 | 2018-02-13 | Avx Corporation | Capacitor with coined lead frame |
US9837216B2 (en) | 2014-12-18 | 2017-12-05 | Avx Corporation | Carrier wire for solid electrolytic capacitors |
US9620294B2 (en) | 2014-12-30 | 2017-04-11 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a recessed planar anode and a restraint |
US10297393B2 (en) | 2015-03-13 | 2019-05-21 | Avx Corporation | Ultrahigh voltage capacitor assembly |
US10014108B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-07-03 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly |
US9754730B2 (en) | 2015-03-13 | 2017-09-05 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly in cylindrical housing |
US9928963B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-03-27 | Avx Corporation | Thermally conductive encapsulant material for a capacitor assembly |
US9905368B2 (en) | 2015-08-04 | 2018-02-27 | Avx Corporation | Multiple leadwires using carrier wire for low ESR electrolytic capacitors |
US9842704B2 (en) | 2015-08-04 | 2017-12-12 | Avx Corporation | Low ESR anode lead tape for a solid electrolytic capacitor |
US9545008B1 (en) | 2016-03-24 | 2017-01-10 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for embedding into a circuit board |
US9907176B2 (en) | 2016-03-28 | 2018-02-27 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor module with improved planarity |
US9870869B1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-16 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor |
US9870868B1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-16 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for use in a subcutaneous implantable cardioverter-defibrillator |
WO2018057682A1 (en) | 2016-09-22 | 2018-03-29 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor containing a valve metal sourced from a conflict-free mine site and a method of forming thereof |
US20180144874A1 (en) | 2016-10-21 | 2018-05-24 | Global Advanced Metals, Usa, Inc. | Tantalum Powder, Anode, And Capacitor Including Same, And Manufacturing Methods Thereof |
US10431389B2 (en) | 2016-11-14 | 2019-10-01 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for high voltage environments |
CN106732326B (zh) * | 2016-11-18 | 2019-02-26 | 湖南稀土金属材料研究院 | 吸气材料及其制备方法和吸气剂 |
US11077497B2 (en) | 2017-06-07 | 2021-08-03 | Global Titanium Inc. | Deoxidation of metal powders |
CN111295587A (zh) | 2017-09-21 | 2020-06-16 | 阿维科斯公司 | 包括源于无冲突矿场的金属组件的电子零件及其形成方法 |
KR102546515B1 (ko) | 2018-03-05 | 2023-06-23 | 글로벌 어드밴스드 메탈스 유에스에이, 아이엔씨. | 구형 분말을 함유하는 애노드 및 커패시터 |
CA3227568A1 (en) | 2018-03-05 | 2020-02-06 | Global Advanced Metals Usa, Inc. | Spherical tantalum powder, products containing the same, and methods of making the same |
US11081288B1 (en) | 2018-08-10 | 2021-08-03 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor having a reduced anomalous charging characteristic |
US11380492B1 (en) | 2018-12-11 | 2022-07-05 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor |
WO2020123265A1 (en) | 2018-12-12 | 2020-06-18 | Global Advanced Metals Usa, Inc. | Spherical niobium alloy powder, products containing the same, and methods of making the same |
CN113728408B (zh) | 2019-04-25 | 2024-03-08 | 京瓷Avx元器件(曼谷)有限公司 | 固态电解电容器 |
CN113661551B (zh) | 2019-05-17 | 2023-04-04 | 京瓷Avx元器件公司 | 固体电解电容器 |
US11270847B1 (en) | 2019-05-17 | 2022-03-08 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved leakage current |
US11756742B1 (en) | 2019-12-10 | 2023-09-12 | KYOCERA AVX Components Corporation | Tantalum capacitor with improved leakage current stability at high temperatures |
US11763998B1 (en) | 2020-06-03 | 2023-09-19 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor |
Family Cites Families (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1415516A (en) | 1919-05-29 | 1922-05-09 | Bridge Arthur | Method of and apparatus for reducing metals, etc. |
US1906184A (en) | 1931-02-27 | 1933-04-25 | Heraeus Vacuumschmelze Ag | Method of reducing metal oxides |
US2183517A (en) | 1937-03-19 | 1939-12-12 | Metallurg De Hoboken Soc Gen | Treatment of materials containing tantalum and niobium |
GB489742A (en) | 1937-03-22 | 1938-08-03 | Metallurg De Hoboken Soc Gen | Improvements in and relating to the treatment of substances containing tantalum and/or niobium |
GB485318A (en) | 1937-03-23 | 1938-05-18 | Metallurg De Hoboken Soc Gen | Improvements in and relating to the treatment of materials containing tantulum and niobium |
US2242759A (en) | 1938-03-02 | 1941-05-20 | Walter H Duisberg | Reduction of difficultly reducible oxides |
US2621137A (en) | 1948-07-13 | 1952-12-09 | Charles Hardy Inc | Reducing metal powders |
US2700606A (en) | 1951-08-01 | 1955-01-25 | Harley A Wilhelm | Production of vanadium metal |
US2761776A (en) | 1956-03-29 | 1956-09-04 | Bichowsky Foord Von | Process for the manufacture of particulate metallic niobium |
GB835316A (en) | 1957-07-24 | 1960-05-18 | Johnson Matthey Co Ltd | Improvements in and relating to the refining of metals |
US2861882A (en) | 1957-11-12 | 1958-11-25 | Bichowsky Foord Von | Process for reducing niobium oxides to metallic state |
US2992095A (en) | 1958-01-17 | 1961-07-11 | Wah Chang Corp | Process of separating niobium and tantalum values in oxidic ores and of producing pure niobium |
US2937939A (en) | 1958-11-10 | 1960-05-24 | Harley A Wilhelm | Method of producing niobium metal |
CH377325A (de) * | 1959-12-04 | 1964-05-15 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung von Niob- und Tantalpentoxyd |
GB1123015A (en) | 1964-08-07 | 1968-08-07 | Union Carbide Corp | A process for producing sintered anodes |
US3421195A (en) | 1965-12-23 | 1969-01-14 | Dale Electronics | Capacitor and method of making same |
IT963874B (it) | 1972-08-10 | 1974-01-21 | Getters Spa | Dispositivo getter perfezionato contenente materiale non evapora bile |
DE2240658A1 (de) | 1972-08-18 | 1974-02-28 | Degussa | Verfahren zur desoxydation refraktaerer metalle, insbesondere zur desoxydation von niob und tantal |
US3962715A (en) * | 1974-12-03 | 1976-06-08 | Yeshiva University | High-speed, high-current spike suppressor and method for fabricating same |
US4032328A (en) | 1975-10-23 | 1977-06-28 | University Of Minnesota, Inc. | Metal reduction process |
JPS5280456A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-06 | Nippon Electric Co | Solid state electrolytic capacitor |
US4201798A (en) | 1976-11-10 | 1980-05-06 | Solarex Corporation | Method of applying an antireflective coating to a solar cell |
US4118727A (en) * | 1977-09-09 | 1978-10-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | MOX multi-layer switching device comprising niobium oxide |
JPS5950604B2 (ja) * | 1981-11-27 | 1984-12-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 酸化チタン粉末の製造法 |
US4428856A (en) | 1982-09-30 | 1984-01-31 | Boyarina Maya F | Non-evaporable getter |
US4722756A (en) | 1987-02-27 | 1988-02-02 | Cabot Corp | Method for deoxidizing tantalum material |
DE3819779A1 (de) * | 1988-06-10 | 1989-12-21 | Bayer Ag | Verbessertes chromoxidgruen, verfahren zu seiner herstellung und dessen verwendung |
US4923531A (en) | 1988-09-23 | 1990-05-08 | Rmi Company | Deoxidation of titanium and similar metals using a deoxidant in a molten metal carrier |
US5022935A (en) | 1988-09-23 | 1991-06-11 | Rmi Titanium Company | Deoxidation of a refractory metal |
US4916576A (en) * | 1989-02-27 | 1990-04-10 | Fmtt, Inc. | Matrix capacitor |
US4964906A (en) * | 1989-09-26 | 1990-10-23 | Fife James A | Method for controlling the oxygen content of tantalum material |
US4960471A (en) | 1989-09-26 | 1990-10-02 | Cabot Corporation | Controlling the oxygen content in tantalum material |
US5013357A (en) | 1989-10-26 | 1991-05-07 | Westinghouse Electric Corp. | Direct production of niobium titanium alloy during niobium reduction |
JP2596194B2 (ja) * | 1990-08-07 | 1997-04-02 | 日本電気株式会社 | チップ形固体電解コンデンサ |
JP3005319B2 (ja) * | 1990-10-19 | 2000-01-31 | 石原産業株式会社 | 針状あるいは板状低次酸化チタンおよびその製造方法 |
US5173215A (en) * | 1991-02-21 | 1992-12-22 | Atraverda Limited | Conductive titanium suboxide particulates |
JP3254730B2 (ja) * | 1992-05-11 | 2002-02-12 | 東ソー株式会社 | 溶射用ジルコニア粉末 |
FR2703348B1 (fr) * | 1993-03-30 | 1995-05-12 | Atochem Elf Sa | Procédé de préparation de poudre pour céramique en oxynitrure d'aluminium gamma optiquement transparente et la poudre ainsi obtenue. |
US5448447A (en) * | 1993-04-26 | 1995-09-05 | Cabot Corporation | Process for making an improved tantalum powder and high capacitance low leakage electrode made therefrom |
US5412533A (en) | 1993-06-22 | 1995-05-02 | Rohm Co., Ltd. | Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof |
DE19525143A1 (de) * | 1995-07-11 | 1997-01-16 | Biotronik Mess & Therapieg | Elektrolytkondensator, insbesondere Tantal-Elektrolytkondensator |
JP3863232B2 (ja) * | 1996-09-27 | 2006-12-27 | ローム株式会社 | 固体電解コンデンサに使用するコンデンサ素子の構造及びコンデンサ素子におけるチップ体の固め成形方法 |
US5922215A (en) * | 1996-10-15 | 1999-07-13 | Pacesetter, Inc. | Method for making anode foil for layered electrolytic capacitor and capacitor made therewith |
US6165623A (en) | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Cabot Corporation | Niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
US5825611A (en) | 1997-01-29 | 1998-10-20 | Vishay Sprague, Inc. | Doped sintered tantalum pellets with nitrogen in a capacitor |
US6088217A (en) * | 1998-05-31 | 2000-07-11 | Motorola, Inc. | Capacitor |
DE19953946A1 (de) | 1999-11-09 | 2001-05-10 | Starck H C Gmbh Co Kg | Kondensatorpulver |
DE10030387A1 (de) | 2000-06-21 | 2002-01-03 | Starck H C Gmbh Co Kg | Kondensatorpulver |
AU2002308967B2 (en) | 2001-05-15 | 2007-12-06 | Showa Denko K.K. | Niobium monoxide powder, niobium monoxide sintered product and capacitor using niobium monoxide sintered product |
US20030104923A1 (en) | 2001-05-15 | 2003-06-05 | Showa Denko K.K. | Niobium oxide powder, niobium oxide sintered body and capacitor using the sintered body |
-
1999
- 1999-09-15 US US09/396,615 patent/US6322912B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-16 MY MYPI99004027A patent/MY131981A/en unknown
- 1999-09-16 BR BR9913728-3A patent/BR9913728A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-09-16 CN CN99811574A patent/CN1320104A/zh active Pending
- 1999-09-16 CZ CZ20010953A patent/CZ303153B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-09-16 EP EP99969076A patent/EP1115659A1/en not_active Withdrawn
- 1999-09-16 IL IL14200799A patent/IL142007A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-09-16 AU AU60455/99A patent/AU758081B2/en not_active Ceased
- 1999-09-16 WO PCT/US1999/021413 patent/WO2000015556A1/en not_active Application Discontinuation
- 1999-09-16 RU RU2001110115/15A patent/RU2230031C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-09-16 JP JP2000570101A patent/JP2002524379A/ja active Pending
- 1999-09-16 KR KR1020017003413A patent/KR20010075152A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-09-16 TW TW088116002A patent/TW500696B/zh not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-09-06 US US09/947,909 patent/US7241436B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-01-18 HK HK02100441.3A patent/HK1042465A1/zh unknown
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
KATHIRGAMANATHAN P. et al, "Conducting polymer cathodes for highfrequency operable electrolytic niobium capacitors" Synthetic metals, 1955, v/74, №2, h.165-170, abstract. * |
Химия и технология редких и рассеянных элементов. /Под ред. К.А.БОЛЬШАКОВА - М.: Высшая школа, 1976, ч.III, с.40 и 41, 55. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2493939C2 (ru) * | 2007-08-16 | 2013-09-27 | Х. К. Штарк Гмбх | Наноструктуры, состоящие из вентильных металлов и субоксидов вентильных металлов, и способ их получения |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU6045599A (en) | 2000-04-03 |
IL142007A0 (en) | 2002-03-10 |
HK1042465A1 (zh) | 2002-08-16 |
EP1115659A1 (en) | 2001-07-18 |
US6322912B1 (en) | 2001-11-27 |
CN1320104A (zh) | 2001-10-31 |
US20020028175A1 (en) | 2002-03-07 |
TW500696B (en) | 2002-09-01 |
WO2000015556A1 (en) | 2000-03-23 |
MY131981A (en) | 2007-09-28 |
AU758081B2 (en) | 2003-03-13 |
CZ303153B6 (cs) | 2012-05-09 |
CZ2001953A3 (cs) | 2002-02-13 |
JP2002524379A (ja) | 2002-08-06 |
BR9913728A (pt) | 2002-01-15 |
KR20010075152A (ko) | 2001-08-09 |
US7241436B2 (en) | 2007-07-10 |
WO2000015556A9 (en) | 2000-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2230031C2 (ru) | Способ частичного восстановления оксида металла и оксид металла с пониженным содержанием кислорода | |
RU2232720C2 (ru) | Способ частичного восстановления оксида ниобия, оксид ниобия с пониженным содержанием кислорода, конденсатор с оксидом ниобия и способ изготовления анода конденсатора | |
US6391275B1 (en) | Methods to partially reduce a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides | |
US6462934B2 (en) | Methods to partially reduce a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides | |
US6576099B2 (en) | Oxygen reduced niobium oxides | |
AU2010219327C1 (en) | Method for the production of valve metal powders | |
RU2282264C2 (ru) | Способ получения оксида ниобия | |
EP1266386B1 (en) | Anode comprising niobium oxide powder and method of forming it | |
JP2007506634A (ja) | コンデンサに用いるためのニオブ酸化物粉末の製法 | |
MXPA01002770A (en) | Methods to partially reduce certain metal oxides and oxygen reduced metal oxides |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20060917 |