RU2020108473A - Способ генерирования ультрамелких пузырьков, устройство генерирования ультрамелких пузырьков и содержащая ультрамелкие пузырьки жидкость - Google Patents
Способ генерирования ультрамелких пузырьков, устройство генерирования ультрамелких пузырьков и содержащая ультрамелкие пузырьки жидкость Download PDFInfo
- Publication number
- RU2020108473A RU2020108473A RU2020108473A RU2020108473A RU2020108473A RU 2020108473 A RU2020108473 A RU 2020108473A RU 2020108473 A RU2020108473 A RU 2020108473A RU 2020108473 A RU2020108473 A RU 2020108473A RU 2020108473 A RU2020108473 A RU 2020108473A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- liquid
- generating
- treatment
- ultrafine
- ultrafine bubbles
- Prior art date
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 20
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 claims 10
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 6
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims 5
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 claims 5
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 claims 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims 2
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 2
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims 2
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 claims 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01B—BOILING; BOILING APPARATUS ; EVAPORATION; EVAPORATION APPARATUS
- B01B1/00—Boiling; Boiling apparatus for physical or chemical purposes ; Evaporation in general
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/2319—Methods of introducing gases into liquid media
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
- B01D15/08—Selective adsorption, e.g. chromatography
- B01D15/26—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
- B01D15/36—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism involving ionic interaction
- B01D15/361—Ion-exchange
- B01D15/362—Cation-exchange
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
- B01D15/08—Selective adsorption, e.g. chromatography
- B01D15/26—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
- B01D15/36—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism involving ionic interaction
- B01D15/361—Ion-exchange
- B01D15/363—Anion-exchange
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
- B01D19/0068—General arrangements, e.g. flowsheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/231—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids by bubbling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/233—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using driven stirrers with completely immersed stirring elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/2366—Parts; Accessories
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2373—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media for obtaining fine bubbles, i.e. bubbles with a size below 100 µm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2376—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
- B01F23/23761—Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2376—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
- B01F23/23761—Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
- B01F23/237613—Ozone
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/238—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using vibrations, electrical or magnetic energy, radiations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/70—Pre-treatment of the materials to be mixed
- B01F23/703—Degassing or de-aerating materials; Replacing one gas within the materials by another gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/70—Pre-treatment of the materials to be mixed
- B01F23/708—Filtering materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/80—After-treatment of the mixture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/80—After-treatment of the mixture
- B01F23/808—Filtering the mixture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/80—After-treatment of the mixture
- B01F23/811—Heating the mixture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
- B01F25/3141—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit with additional mixing means other than injector mixers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/50—Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F31/00—Mixers with shaking, oscillating, or vibrating mechanisms
- B01F31/80—Mixing by means of high-frequency vibrations above one kHz, e.g. ultrasonic vibrations
- B01F31/85—Mixing by means of high-frequency vibrations above one kHz, e.g. ultrasonic vibrations with a vibrating element inside the receptacle
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F31/00—Mixers with shaking, oscillating, or vibrating mechanisms
- B01F31/80—Mixing by means of high-frequency vibrations above one kHz, e.g. ultrasonic vibrations
- B01F31/87—Mixing by means of high-frequency vibrations above one kHz, e.g. ultrasonic vibrations transmitting the vibratory energy by means of a fluid, e.g. by means of air shock waves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F33/00—Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
- B01F33/30—Micromixers
- B01F33/3033—Micromixers using heat to mix or move the fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F33/00—Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
- B01F33/80—Mixing plants; Combinations of mixers
- B01F33/82—Combinations of dissimilar mixers
- B01F33/821—Combinations of dissimilar mixers with consecutive receptacles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/90—Heating or cooling systems
- B01F35/93—Heating or cooling systems arranged inside the receptacle
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/90—Heating or cooling systems
- B01F2035/99—Heating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F2101/00—Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
- B01F2101/58—Mixing semiconducting materials, e.g. during semiconductor or wafer manufacturing processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
- C02F1/046—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation under vacuum produced by a barometric column
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
- C02F1/10—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation by direct contact with a particulate solid or with a fluid, as a heat transfer medium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
- C02F1/10—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation by direct contact with a particulate solid or with a fluid, as a heat transfer medium
- C02F1/12—Spray evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/444—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/48—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
- C02F1/487—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields using high frequency electromagnetic fields, e.g. pulsed electromagnetic fields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/68—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/74—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with air
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/422—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using anionic exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/425—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using cation exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
- C02F2001/46138—Electrodes comprising a substrate and a coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
- C02F2001/46138—Electrodes comprising a substrate and a coating
- C02F2001/46142—Catalytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
- C02F2001/46157—Perforated or foraminous electrodes
- C02F2001/46161—Porous electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/026—Treating water for medical or cosmetic purposes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4612—Controlling or monitoring
- C02F2201/46125—Electrical variables
- C02F2201/4613—Inversing polarity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4612—Controlling or monitoring
- C02F2201/46125—Electrical variables
- C02F2201/46135—Voltage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/46155—Heating or cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4616—Power supply
- C02F2201/46175—Electrical pulses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/78—Details relating to ozone treatment devices
- C02F2201/782—Ozone generators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/26—Reducing the size of particles, liquid droplets or bubbles, e.g. by crushing, grinding, spraying, creation of microbubbles or nanobubbles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2307/00—Location of water treatment or water treatment device
- C02F2307/06—Mounted on or being part of a faucet, shower handle or showerhead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2307/00—Location of water treatment or water treatment device
- C02F2307/10—Location of water treatment or water treatment device as part of a potable water dispenser, e.g. for use in homes or offices
Claims (37)
1. Способ генерирования ультрамелких пузырьков, содержащий:
этап предварительной обработки, на котором выполняют заданную предварительную обработку жидкости; и
этап генерирования, на котором генерируют ультрамелкие пузырьки диаметром менее 1,0 мкм путем побуждения нагревательного элемента, предусмотренного в жидкости, предварительную обработку которой выполняют, вырабатывать тепло для создания пленочного кипения на границе раздела между жидкостью и нагревательным элементом, и
при этом этап предварительной обработки включает первую обработку для удаления неорганического иона из жидкости с использованием катионообменной смолы.
2. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором этап предварительной обработки включает вторую обработку для дегазации жидкости.
3. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором этап предварительной обработки включает третью обработку для растворения заданного газа в жидкости.
4. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором этап предварительной обработки включает первую обработку для удаления примеси из жидкости, вторую обработку для дегазации жидкости после выполнения для неё первой обработки и третью обработку для растворения заданного газа в жидкости после выполнения её второй обработки.
5. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 3, в котором заданный газ выбран из водорода, гелия, кислорода, азота, метана, фтора, неона, углекислого газа, озона, аргона, хлора, этана, пропана, воздуха и содержащей их газовой смеси.
6. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 3, в котором в третьей обработке для растворения заданного газа в жидкости с достижением растворимости при насыщении используют метод создания повышенного давления и растворения.
7. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 3, в котором заданный газ содержит газообразный озон, и этап предварительной обработки дополнительно включает этап, на котором генерируют газообразный озон, используя по меньшей мере один из метода разряда, метода электролиза и метода на основе лампы с ультрафиолетовым излучением.
8. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 7, в котором в третьей обработке газообразный озон растворяют в жидкости, используя по меньшей мере один из метода создания повышенного давления и растворения, метода растворения воздушных пузырьков, метода пленочного растворения и метода растворения в уплотненном слое.
9. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 2, в котором во второй обработке в газовой части, включенной в хранящий жидкость резервуар, сбрасывают давление, газифицируя растворенный компонент, содержащийся в жидкости, и выпуская растворенный компонент из резервуара.
10. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором первая обработка включает обработку для удаления отрицательного иона с использованием анионообменной смолы.
11. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором первая обработка включает обработку для удаления органического вещества с использованием очистного фильтра.
12. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором первая обработка включает обработку для удаления нерастворимого твердого вещества с использованием характеристик выпадения в осадок нерастворимого твердого вещества.
13. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, в котором этап предварительной обработки и этап генерирования многократно выполняют для жидкости.
14. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, дополнительно содержащий этап сбора, на котором собирают содержащую ультрамелкие пузырьки жидкость, содержащую ультрамелкие пузырьки, сгенерированные на этапе генерирования.
15. Способ генерирования ультрамелких пузырьков по п. 1, дополнительно содержащий этап удаления, на котором удаляют примесь из содержащей ультрамелкие пузырьки жидкости, содержащей ультрамелкие пузырьки, сгенерированные на этапе генерирования, после этапа генерирования; и выполняют этап предварительной обработки снова после выполнения этапа удаления.
16. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков, содержащее:
блок предварительной обработки, выполненный с возможностью выполнять заданную предварительную обработку жидкости; и
блок генерирования, выполненный с возможностью генерировать ультрамелкие пузырьки диаметром менее 1,0 мкм путем побуждения нагревательного элемента, предусмотренного в жидкости, предварительная обработка которой выполняется, вырабатывать тепло для создания пленочного кипения на границе раздела между жидкостью и нагревательным элементом, и
при этом блок предварительной обработки содержит блок удаления, выполненный с возможностью удалять неорганический ион с использованием катионообменной смолы.
17. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок предварительной обработки содержит блок дегазации, выполненный с возможностью дегазировать жидкость.
18. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок предварительной обработки содержит блок растворения, выполненный с возможностью растворять заданный газ в жидкости.
19. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок предварительной обработки содержит блок удаления, выполненный с возможностью удалять примесь из жидкости, блок дегазации, выполненный с возможностью дегазировать жидкость после выполнения её обработки блоком удаления, и блок растворения, выполненный с возможностью растворять заданный газ в жидкости после выполнения её обработки блоком дегазации.
20. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок генерирования содержит камеру, выполненную с возможностью хранить жидкость, заданная предварительная обработка которой выполняется блоком предварительной обработки, причем нагревательный элемент предусмотрен в этой камере, блок приведения в действие, выполненный с возможностью приводить в действие нагревательный элемент, и блок растворения, выполненный с возможностью растворять заданный газ в хранящейся в камере жидкости.
21. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по любому из пп. 18-20, в котором заданный газ выбран из водорода, гелия, кислорода, азота, метана, фтора, неона, углекислого газа, озона, аргона, хлора, этана, пропана, воздуха и содержащей их газовой смеси.
22. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 18, в котором блок растворения выполнен с возможностью использовать метод создания повышенного давления и растворения для растворения заданного газа в жидкости с достижением растворимости при насыщении.
23. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 18, в котором заданный газ содержит газообразный озон, и блок предварительной обработки выполнен с возможностью генерировать газообразный озон с использованием по меньшей мере одного из метода разряда, метода электролиза и метода на основе лампы с ультрафиолетовым излучением.
24. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 23, в котором блок растворения выполнен с возможностью растворять газообразный озон в жидкости с использованием по меньшей мере одного из метода создания повышенного давления и растворения, метода растворения воздушных пузырьков, метода пленочного растворения и метода растворения в уплотненном слое.
25. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 17, в котором блок дегазации выполнен с возможностью сбрасывать давление в газовой части, включенной в хранящий жидкость резервуар, газифицируя растворенный компонент, содержащийся в жидкости, и выпуская растворенный компонент из резервуара.
26. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок удаления выполнен с возможностью удалять отрицательный ион с использованием анионообменной смолы.
27. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок удаления выполнен с возможностью удалять органическое вещество с использованием очистного фильтра.
28. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, в котором блок удаления выполнен с возможностью удалять нерастворимое твердое вещество с использованием характеристик выпадения в осадок нерастворимого твердого вещества.
29. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, дополнительно содержащее блок, выполненный с возможностью снова подавать содержащую ультрамелкие пузырьки жидкость, содержащую ультрамелкие пузырьки, сгенерированные блоком генерирования, в блок предварительной обработки.
30. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, дополнительно содержащее блок постобработки, выполненный с возможностью удалять примесь из содержащей ультрамелкие пузырьки жидкости, содержащей ультрамелкие пузырьки, сгенерированные блоком генерирования; и тракт циркуляции, через который обработанная блоком постобработки жидкость подается в блок предварительной обработки.
31. Устройство генерирования ультрамелких пузырьков по п. 16, дополнительно содержащее блок, выполненный с возможностью собирать содержащую ультрамелкие пузырьки жидкость, содержащую ультрамелкие пузырьки, сгенерированные блоком генерирования.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019-035906 | 2019-02-28 | ||
JP2019035906A JP7282548B2 (ja) | 2019-02-28 | 2019-02-28 | ウルトラファインバブル生成方法、およびウルトラファインバブル生成装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2020108473A true RU2020108473A (ru) | 2021-08-27 |
RU2020108473A3 RU2020108473A3 (ru) | 2021-08-27 |
RU2763546C2 RU2763546C2 (ru) | 2021-12-30 |
Family
ID=69742707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2020108473A RU2763546C2 (ru) | 2019-02-28 | 2020-02-27 | Способ генерирования ультрамелких пузырьков, устройство генерирования ультрамелких пузырьков и содержащая ультрамелкие пузырьки жидкость |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11179652B2 (ru) |
EP (1) | EP3702332B1 (ru) |
JP (1) | JP7282548B2 (ru) |
KR (1) | KR20200105428A (ru) |
CN (1) | CN111617652B (ru) |
AU (1) | AU2020201423A1 (ru) |
RU (1) | RU2763546C2 (ru) |
SG (1) | SG10202001744QA (ru) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11904366B2 (en) | 2019-03-08 | 2024-02-20 | En Solución, Inc. | Systems and methods of controlling a concentration of microbubbles and nanobubbles of a solution for treatment of a product |
JP7433840B2 (ja) | 2019-10-31 | 2024-02-20 | キヤノン株式会社 | ウルトラファインバブル含有液の作製装置、及びウルトラファインバブル含有液の作製方法 |
EP3816117A1 (en) | 2019-10-31 | 2021-05-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Ultrafine bubble-containing liquid producing apparatus and ultrafine bubble-containing liquid producing method |
JP2021069997A (ja) | 2019-10-31 | 2021-05-06 | キヤノン株式会社 | Ufb含有液作製装置、及びufb含有液作製方法 |
JP2021069993A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | キヤノン株式会社 | ウルトラファインバブル生成装置およびその制御方法 |
US11772005B2 (en) | 2020-02-28 | 2023-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus for and method of producing ultrafine bubble-containing liquid, and ultrafine bubble-containing liquid |
TWI761167B (zh) * | 2020-06-18 | 2022-04-11 | 高宏鑫 | 微氣泡產生裝置以及相關的微氣泡產生設備 |
JP7177289B1 (ja) * | 2021-03-25 | 2022-11-22 | 石油資源開発株式会社 | 二酸化炭素の地層内貯留方法、二酸化炭素含有天然ガス田の開発方法、および二酸化炭素の海水内貯留方法 |
WO2022215489A1 (ja) * | 2021-04-05 | 2022-10-13 | キヤノン株式会社 | オゾン含有ウルトラファインバブル液の生成装置およびオゾン含有ウルトラファインバブル液の生成方法 |
JP7365751B2 (ja) | 2021-05-20 | 2023-10-20 | 徹太郎 中川 | 溶存気体置換装置、及び溶存気体の置換方法 |
JP2023068937A (ja) * | 2021-11-04 | 2023-05-18 | キヤノン株式会社 | ウルトラファインバブル含有液の製造方法およびウルトラファインバブルの製造装置 |
CN114560644B (zh) * | 2022-03-26 | 2022-10-21 | 中建西部建设北方有限公司 | 一种改性微纳米气泡水及其制备方法及混凝土 |
CN115594384A (zh) * | 2022-11-01 | 2023-01-13 | 西南石油大学(Cn) | 一种均相催化臭氧改性微气泡清洗液制备及强化油泥清洗的方法 |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55302A (en) | 1978-02-24 | 1980-01-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Polyamine |
TW201295B (ru) | 1991-06-14 | 1993-03-01 | Sonnenrein Uwe | |
JPH05293971A (ja) * | 1992-04-21 | 1993-11-09 | Canon Inc | インクジェット記録装置 |
RU2091506C1 (ru) * | 1993-07-05 | 1997-09-27 | Новочеркасский государственный технический университет | Электролизер для получения озона |
JPH11227210A (ja) * | 1997-12-05 | 1999-08-24 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド、該ヘッドの製造方法、ヘッドカートリッジおよび液体吐出装置 |
JP4045658B2 (ja) | 1998-08-06 | 2008-02-13 | 栗田工業株式会社 | 純水製造方法 |
JP3762172B2 (ja) * | 1998-12-03 | 2006-04-05 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド、該液体吐出ヘッドが搭載されたヘッドカートリッジと液体吐出装置、及び該液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP3691267B2 (ja) | 1998-12-24 | 2005-09-07 | アマノ株式会社 | 超微細気泡発生装置 |
EP1188473A4 (en) * | 1999-04-27 | 2005-10-12 | Kurita Water Ind Ltd | WATER PRODUCTION APPARATUS CONTAINING DISSOLVED OZONE |
DE20022322U1 (de) * | 1999-08-18 | 2001-07-05 | Walder Gerhard | Sanitäre Anlage |
JP2001130005A (ja) | 1999-08-24 | 2001-05-15 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドおよびその駆動方法ならびにカートリッジおよび画像形成装置 |
US6443561B1 (en) * | 1999-08-24 | 2002-09-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head, driving method therefor, and cartridge, and image forming apparatus |
JP2002137399A (ja) | 2000-08-09 | 2002-05-14 | Canon Inc | インクジェットプリンタのヒータ表面の保護方法、インクジェット記録装置、記録ユニット、及びインクジェット記録ヘッドの長寿命化方法 |
JP2005538287A (ja) | 2002-08-15 | 2005-12-15 | エムイーエムエスフロー・アンパルトセルスカブ | マイクロ液体処理装置とその使用方法 |
US7448729B2 (en) | 2005-04-04 | 2008-11-11 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printhead heater elements with thin or non-existent coatings |
GB2437279A (en) * | 2006-04-19 | 2007-10-24 | Jackie Tsai | Water filter |
CN101088938B (zh) | 2007-06-29 | 2012-06-27 | 东莞东运机械制造有限公司 | 重金属污水的处理方法 |
JP4456176B2 (ja) | 2008-01-10 | 2010-04-28 | 株式会社Mgグローアップ | 静止型流体混合装置 |
KR101176988B1 (ko) * | 2012-04-27 | 2012-08-24 | (주) 지이오플랜트 | 기수의 담수화 처리장치 및 이를 이용한 기수의 담수화 방법 |
JP6118544B2 (ja) | 2012-11-29 | 2017-04-19 | Idec株式会社 | 微細気泡生成ノズルおよび微細気泡生成装置 |
CN104968607A (zh) | 2012-12-04 | 2015-10-07 | 中央大学校产学协力团 | 使用超声振动器生产微气泡水的设备、包含微气泡水的细胞培养基、使用该细胞培养基的细胞培养方法、使用微气泡的高效混合燃料以及用于制造高效混合燃料的设备 |
CN106861477B (zh) * | 2013-01-17 | 2020-06-30 | Idec株式会社 | 高密度微细气泡液生成方法及高密度微细气泡液生成装置 |
US9932252B2 (en) * | 2013-05-01 | 2018-04-03 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
JP6038318B2 (ja) * | 2013-07-05 | 2016-12-07 | 三菱重工業株式会社 | 水処理システム及び方法、冷却設備、発電設備 |
WO2015048904A1 (en) | 2013-10-03 | 2015-04-09 | Ebed Holdings Inc. | Nanobubble-containing liquid solutions |
JP6353242B2 (ja) | 2014-03-04 | 2018-07-04 | 公立大学法人首都大学東京 | 微小気泡発生板 |
EA201600616A1 (ru) | 2014-03-06 | 2017-05-31 | Нагаарджуна Шубхо Грин Технолоджис Приват Лимитед | Установка и способ для удаления воды (как связанной, так и несвязанной) из нефтяных шламов и эмульсий с применением только тепла для полного извлечения находящихся в них углеводородов |
EP3221049B1 (en) | 2014-11-19 | 2019-04-17 | IMEC vzw | Microbubble generator device, systems and method to fabricate |
US20160368785A1 (en) | 2015-06-16 | 2016-12-22 | Ilan ZAMIR | Methods and systems to reduce air pollution combined with water desalination of power station's marine waste water |
JP6762513B2 (ja) | 2016-03-18 | 2020-09-30 | 東京都公立大学法人 | 微小気泡発生板 |
CN106186474B (zh) * | 2016-08-15 | 2020-06-26 | 云南夏之春环保科技有限公司 | 微临界多相反应流污水处理方法 |
KR20180042886A (ko) | 2016-10-18 | 2018-04-27 | 운해이엔씨(주) | 수중 세균 및 미생물 제거 장치 및 그 방법 |
WO2018148247A1 (en) | 2017-02-07 | 2018-08-16 | Sylvan Source, Inc. | Water treatment and desalination |
JP2018202363A (ja) * | 2017-06-08 | 2018-12-27 | 株式会社ピーズガード | 除菌水生成装置 |
JP7086547B2 (ja) | 2017-08-31 | 2022-06-20 | キヤノン株式会社 | ウルトラファインバブル含有液の製造装置および製造方法 |
WO2019044913A1 (en) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | METHOD FOR GENERATING ULTRAFINE BUBBLES, MANUFACTURING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CONTAINING ULTRAFINE BUBBLES, AND LIQUID CONTAINING ULTRA FINE BUBBLES |
CN110769923B (zh) * | 2018-04-24 | 2022-01-28 | 株式会社超微细科学研究所 | 微小气泡生成方法和微小气泡生成装置 |
CN109052712A (zh) * | 2018-08-17 | 2018-12-21 | 广东溢达纺织有限公司 | 一种处理并回用纺织行业达标排放水的系统及方法 |
-
2019
- 2019-02-28 JP JP2019035906A patent/JP7282548B2/ja active Active
-
2020
- 2020-02-27 RU RU2020108473A patent/RU2763546C2/ru active
- 2020-02-27 AU AU2020201423A patent/AU2020201423A1/en not_active Abandoned
- 2020-02-27 KR KR1020200024046A patent/KR20200105428A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-02-27 CN CN202010122225.XA patent/CN111617652B/zh active Active
- 2020-02-27 SG SG10202001744QA patent/SG10202001744QA/en unknown
- 2020-02-27 US US16/802,685 patent/US11179652B2/en active Active
- 2020-02-27 EP EP20159703.6A patent/EP3702332B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200105428A (ko) | 2020-09-07 |
US11179652B2 (en) | 2021-11-23 |
US20200276515A1 (en) | 2020-09-03 |
EP3702332A1 (en) | 2020-09-02 |
CN111617652A (zh) | 2020-09-04 |
AU2020201423A1 (en) | 2020-09-17 |
EP3702332B1 (en) | 2024-04-10 |
SG10202001744QA (en) | 2020-09-29 |
CN111617652B (zh) | 2023-05-26 |
RU2020108473A3 (ru) | 2021-08-27 |
JP2020138149A (ja) | 2020-09-03 |
JP7282548B2 (ja) | 2023-05-29 |
RU2763546C2 (ru) | 2021-12-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2020108473A (ru) | Способ генерирования ультрамелких пузырьков, устройство генерирования ультрамелких пузырьков и содержащая ультрамелкие пузырьки жидкость | |
JP2016101585A5 (ru) | ||
JP2012000578A (ja) | 高濃度オゾン水の製造方法及び高濃度オゾン水の製造装置 | |
TW201821371A (zh) | 水處理方法及水處理裝置 | |
TW201829321A (zh) | 水處理方法及水處理裝置 | |
WO2014046229A1 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JP6161954B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
JP6649310B2 (ja) | 水処理システム及び作業媒体 | |
JP2020142232A5 (ja) | ウルトラファインバブル生成方法、及びウルトラファインバブル生成装置 | |
KR101054302B1 (ko) | 삼투압을 이용한 무동력 여과장치 및 방법 | |
JP6284404B2 (ja) | トリチウム回収装置および方法 | |
JP5829931B2 (ja) | 放射性廃液の処理方法および放射性廃液処理装置 | |
JP3849766B2 (ja) | 有機物含有水の処理装置及び処理方法 | |
JP2007152235A (ja) | 液浸露光装置用超純水の製造方法及び装置 | |
JP5254078B2 (ja) | オゾン混合物の分解排出方法および分解排出装置 | |
Safdar et al. | Solubility of CO2 in 20 wt.% aqueous solution of piperazine | |
JP2009121939A (ja) | トリチウム回収システム | |
JP5739687B2 (ja) | アルコールの精製方法、装置及びシステム | |
JP2009160500A (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
JP4872613B2 (ja) | ガス溶解洗浄水の製造装置及び製造方法 | |
KR101540585B1 (ko) | 기체회수장치 및 방법 | |
JP7068116B2 (ja) | 水処理システム及び水処理システムに用いられるドロー溶液 | |
JP2020081996A (ja) | 紫外線処理方法及びシステム | |
JP2011240344A (ja) | 超純水製造用水処理装置 | |
Lim et al. | CO2 competes with radioactive chemicals for freshwater recovery: Hydrate-based desalination |