RU2018138733A - Штамп для импринт-литографии и способ его изготовления и использования - Google Patents
Штамп для импринт-литографии и способ его изготовления и использования Download PDFInfo
- Publication number
- RU2018138733A RU2018138733A RU2018138733A RU2018138733A RU2018138733A RU 2018138733 A RU2018138733 A RU 2018138733A RU 2018138733 A RU2018138733 A RU 2018138733A RU 2018138733 A RU2018138733 A RU 2018138733A RU 2018138733 A RU2018138733 A RU 2018138733A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- group
- unsubstituted
- substituted
- stamp
- organic polymer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 12
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 18
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 18
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 12
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 10
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 6
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims 5
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 claims 5
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 5
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 125000006755 (C2-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000006649 (C2-C20) alkynyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- 230000004936 stimulating effect Effects 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/3842—Manufacturing moulds, e.g. shaping the mould surface by machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
- B29C33/424—Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
- B81C1/00444—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate
- B81C1/0046—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate using stamping, e.g. imprinting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
- B81C99/009—Manufacturing the stamps or the moulds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
- B29C33/424—Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
- B29C2033/426—Stampers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2083/00—Use of polymers having silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only, in the main chain, as moulding material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/757—Moulds, cores, dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Claims (62)
1. Штамп (14) для способа импринт-литографии, причем упомянутый штамп содержит
тело эластомерного штампа, содержащее проницаемую для текучих сред органическую полимерную объемную часть (110) и поверхность с сформированным рисунком, имеющую рисунок (16) топологических особенностей рельефа для импринтинга импринтинг-композиции (12) в сообщении по текучей среде с проницаемой для текучих сред органической полимерной объемной частью, и
некоторое количество по меньшей мере одной основной органической группы, способной стимулировать отверждение импринтинг-композиции, когда она находится в контакте с поверхностью с сформированным рисунком, диспергированной во внутреннем объеме проницаемой для текучих сред органической полимерной объемной части.
2. Штамп по п.1, в котором основная органическая группа является незаряженным основанием Льюиса с по меньшей мере одним донорным атомом, выбранным из группы, состоящей из кислорода, азота, серы и фосфора.
3. Штамп по п.2, в котором донорный атом является атомом азота.
4. Штамп по п.1 или 2, в котором основная органическая группа имеет pKa в пределах между 8 и 12.
5. Штамп по п.3 или 4, в котором основная органическая группа имеет структуру согласно формуле 8
где N является донорным атомом, R1-R3 индивидуально выбираются из водорода, незамещенной или замещенной C2-C20 алкильной группы, незамещенной или замещенной C2-C20 алкенильной группы, незамещенной или замещенной C2-C20 алкинильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 циклоалкильной группы, незамещенной или замещенной C4-C20 циклоалкенильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 гетероциклильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 арильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 алкиларильной группы, незамещенной или замещенной C4-C30 гетероарильной группы, при условии, что не все R1-R3 являются водородом, причем по меньшей мере два из R1-R3 могут образовывать часть одной и той же незамещенной или замещенной C3-C20 циклоалкильной группы, незамещенной или замещенной C4-C20 циклоалкенильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 гетероциклильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 арильной группы или незамещенной или замещенной C4-C30 гетероарильной группы.
6. Штамп по п.5, в котором R1-R3 индивидуально выбираются из водорода, незамещенной или замещенной линейной C6-C20 алкильной группы или разветвленной C3-C20 алкильной группы, незамещенной или замещенной C2-C20 алкенильной группы, незамещенной или замещенной C2-C20 алкинильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 циклоалкильной группы, незамещенной или замещенной C4-C20 циклоалкенильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 гетероциклильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 арильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 алкиларильной группы, незамещенной или замещенной C4-C30 гетероарильной группы, при условии, что только один из R1-R3 является водородом, предпочтительно, при этом R1-R3 индивидуально выбираются из водорода, незамещенной или замещенной линейной C6-C20 алкильной группы или разветвленной C3-C20 алкильной группы или незамещенной или замещенной C6-C30 алкиларильной группы, при условии, что только один из R1-R3 является водородом.
7. Штамп по п.6, в котором R1-R3 индивидуально выбираются из незамещенной или замещенной линейной C2-C20 алкильной группы или разветвленной C3-C20 алкильной группы, незамещенной или замещенной C2-C20 алкенильной группы, незамещенной или замещенной C2-C20 алкинильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 циклоалкильной группы, незамещенной или замещенной C4-C20 циклоалкенильной группы, незамещенной или замещенной C3-C20 гетероциклильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 арильной группы, незамещенной или замещенной C6-C30 алкиларильной группы, незамещенной или замещенной C4-C30 гетероарильной группы, при этом предпочтительно то, что R1-R3 индивидуально выбираются из незамещенной или замещенной линейной C2-C20 алкильной группы или разветвленной C3-C20 алкильной группы или незамещенной или замещенной C6-C30 алкиларильной группы.
8. Штамп по п.3 или 4, в котором основная органическая группа имеет структуру согласно формуле 9
где N является донорным атомом, X выбирается из группы, состоящей из кислорода, азота, серы и фосфора, R1-R4 индивидуально выбираются из незамещенной или замещенной линейной C2-C20 алкильной группы или разветвленной C3-C20 алкильной группы, причем предпочтительно то, что R1-R4 индивидуально выбираются из метила, этила или пропила, и R5-R7 могут быть индивидуальными органическими группами или одной и той же органической группой, содержащей один или более атомов водорода, углерода, кислорода, азота и серы с меньше, чем 20 атомами углерода.
9. Штамп по п.8, в котором структура представляет собой структуру согласно формуле 10
10. Штамп по любому из предыдущих пунктов, в котором основная органическая группа является частью вещества, не связанного ковалентно с телом эластомерного штампа.
11. Штамп по п.10, в котором тело эластомерного штампа содержит вещество в количестве по меньшей мере 0,1% по массе по отношению к общей массе эластомерного тела штампа.
12. Штамп по п.10 или 11, в котором вещество имеет давление паров 0,2 мбар или меньше при температуре 25°C.
13. Штамп по любому из пп.1-9, в котором
основная органическая группа ковалентно связана с органической полимерной объемной частью, или
тело эластомерного штампа содержит органический полимерный поверхностный слой (120), прикрепленный к органической полимерной объемной части, и поверхность с сформированным рисунком образует часть органического полимерного поверхностного слоя, и по меньшей мере часть количества основной органической группы ковалентно связана с органическим полимерным поверхностным слоем.
14. Штамп по любому из предыдущих пунктов, в котором тело эластомерного штампа или органическая полимерная объемная часть содержит или состоит из материала, выбранного из группы, состоящей по меньшей мере из одного полисилоксана, по меньшей мере одного простого перфторполиэфира или их смеси.
15. Штамп по любому из предыдущих пунктов, в котором тело эластомерного штампа содержит или состоит из органического полимерного поверхностного слоя (120), прикрепленного к органической полимерной объемной части, и поверхностный слой с сформированным рисунком является частью органического полимерного поверхностного слоя, и органический полимерный поверхностный слой содержит или состоит из материала, выбранного из группы, состоящей по меньшей мере из одного полисилоксана, по меньшей мере одного простого перфторполиэфира (PFPE) или их смеси.
16. Штамп по любому из пп.14, 15, в котором полисилоксан содержит или состоит из полидиметилсилоксана (PDMS).
17. Штамп по любому из предыдущих пунктов, в котором полимерная органическая объемная часть содержит или состоит из органического полимерного поверхностного слоя (120), прикрепленного к органическому полимерному подповерхностному слою, и поверхностный слой с сформированным рисунком образует часть органического полимерного поверхностного слоя, и органический полимерный поверхностный слой имеет модуль Юнга, который выше, чем модуль Юнга органического полимерного подповерхностного слоя.
18. Штамп по любому из предыдущих пунктов, дополнительно содержащий носитель (130), при этом органическая полимерная объемная часть (110) присоединена к главной поверхности носителя, дальней от поверхности с сформированным рисунком, либо непосредственно, либо посредством по меньшей мере одного дополнительного слоя.
19. Способ изготовления штампа (14) по любому из предыдущих пунктов, причем упомянутый способ содержит этапы, на которых
обеспечивают тело эластомерного штампа, имеющее органическую полимерную объемную часть и рельефную поверхность;
ипрегнируют тело эластомерного штампа некоторым количеством основного органического вещества для обеспечения импрегнированного тела эластомерного штампа, причем упомянутое вещество содержит основную органическую группу для стимуляции отверждения импринтинг-композиции при вступлении в контакт с поверхностью с сформированным рисунком; и
удаляют по меньшей мере часть растворителя из импрегнированного тела эластомерного штампа, оставляя основное органическое вещество в теле эластомерного штампа.
20. Способ по п.19, в котором органическая полимерная объемная часть содержит или состоит из полисилоксана и этап ипрегнирования осуществляется посредством растворения некоторого количества основного органического вещества в органическом растворителе, предпочтительно, являющимся C1-C6 алифатическим спиртом или его смесью.
21. Способ изготовления штампа (14) по любому из пп.1-18, причем упомянутый способ содержит этапы, на которых обеспечивают смесь
одного или более прекурсоров, каждый из которых содержит по меньшей мере одну первую реакционноспособную группу, с помощью которой они могут полимеризоваться с образованием органической полимерной объемной части, и
вещества, содержащего основную органическую группу или содержащего защищенную основную органическую группу, которая по существу не препятствует полимеризации одного или более прекурсоров;
полимеризуют прекурсор органической полимерной объемной части с образованием органической полимерной объемной части, содержащей заключенное в ней упомянутое вещество; и
если упомянутое вещество содержит защищенную основную органическую группу, удаляют защиту с основной органической группы для обеспечения основной органической группы.
22. Способ по п.21, в котором один или более прекурсоров содержат
первый полисилоксановый прекурсор, содержащий в качестве по меньшей мере одной первой реакционноспособной группы по меньшей мере две группы, каждая из которых содержит ненасыщенную связь, и каждая из которых выбирается из группы, состоящей из алкина, алкена, винила, альдегида, кетона и имина, и второй полисилоксановый прекурсор, содержащий по меньшей мере две гидросилановых группы, и при этом смесь дополнительно содержит катализатор гидросилилирования для катализа присоединения гидросилановой группы по ненасыщенной связи, и при этом полимеризация включает в себя вызов присоединения гидросилановых групп по ненасыщенным связям с образованием при этом органической полимерной объемной части.
23. Способ по п.21, в котором вещество дополнительно содержит по меньшей мере одну вторую реакционноспособную группу для реакции с первой реакционноспособной группой, и при этом полимеризация включает вызов реакции между первой реакционноспособной группой и второй реакционноспособной группой, чтобы тем самым присоединить упомянутое вещество к органической полимерной объемной части.
24. Способ по п.23, в котором один или более прекурсоров содержат
первый полисилоксановый прекурсор, имеющий в качестве по меньшей мере одной первой реакционноспособной группы по меньшей мере две группы, каждая из которых содержит ненасыщенную связь и каждая из которых выбирается из группы, состоящей из алкина, алкена, винила, альдегида, кетона и имина, и
второй полисилоксановый прекурсор, имеющий по меньшей мере две гидросилановых группы, и
по меньшей мере одна вторая реакционноспособная группа выбирается из группы, состоящей из алкина, алкена, винила, альдегида, кетона, имина и гидросилана; и
смесь дополнительно содержит:
катализатор гидросилилирования для катализа присоединения гидросилановой группы по ненасыщенной связи; и
при этом этап полимеризации включает в себя вызов присоединения гидросилановых групп по ненасыщенным связям с образованием тем самым органической полимерной объемной части.
25. Набор частей для изготовления штампа по любому из пп.1-18, причем упомянутый набор частей содержит
первую часть, содержащую один или более прекурсоров, каждый из которых содержит реакционноспособные группы, с помощью которых один или более прекурсоров могут полимеризоваться для формирования органической полимерной объемной части; и
вторую часть, содержащую вещество, содержащее основную органическую группу или содержащее защищенную основную органическую группу, которая по существу не препятствует полимеризации одного или более прекурсоров.
26. Набор из частей по п.25, в котором один или более прекурсоров включают в себя:
первый полисилоксановый прекурсор, имеющий в качестве по меньшей мере одной первой реакционноспособной группы по меньшей мере две группы, каждая из которых содержит ненасыщенную связь, и каждая из которых выбирается из группы, состоящей из алкина, алкена, винила, альдегида, кетона и имина, и
второй полисилоксановый прекурсор, имеющий по меньшей мере две гидросилановые группы, и
катализатор гидросилилирования для катализа присоединения гидросиланной группы по ненасыщенной связи.
27. Набор из частей по п.26, в котором упомянутое вещество содержит реакционноспособную группу, выбранную из группы, состоящей из алкина, алкена, винила, альдегида, кетона, имина и гидросилана.
28. Способ формирования слоя со сформированным рисунком, причем упомянутый способ содержит этапы, на которых
обеспечивают слой импринтинг-композиции (12), причем импринтинг-композиция способна отверждаться под воздействием органической основной группы;
приводят в контакт упомянутый слой с штампом (14) по любому из пп.1-18, так что рисунок (16) топологических особенностей рельефа отпечатывается в слое импринтинг-композиции;
удерживают контакт между упомянутым слоем импринтинг-композиции и штампом до тех пор, пока отпечатанная композиция не достигнет желаемой степени отверждения; и
высвобождают штамп из отвержденного слоя импринтинг-композиции с получением слоя со сформированным рисунком.
29. Способ по п.28, в котором импринтинг-композиция содержит состоит из золь-гель импринтинг-композиции, такой как, например, импринтинг-композиция на основе алкоксисилоксана;
30. Применение штампа по любому из пп.1-18 в способе импринт-литографии для формирования слоя со сформированным рисунком.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP16164085 | 2016-04-06 | ||
| EP16164085.9 | 2016-04-06 | ||
| PCT/EP2017/058309 WO2017174755A1 (en) | 2016-04-06 | 2017-04-06 | Imprint lithography stamp method of making and using the same |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2018138733A true RU2018138733A (ru) | 2020-05-12 |
| RU2018138733A3 RU2018138733A3 (ru) | 2020-05-26 |
| RU2745059C2 RU2745059C2 (ru) | 2021-03-18 |
Family
ID=55699493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018138733A RU2745059C2 (ru) | 2016-04-06 | 2017-04-06 | Штамп для импринт-литографии и способ его изготовления и использования |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11163230B2 (ru) |
| EP (1) | EP3440509B1 (ru) |
| JP (2) | JP6545401B2 (ru) |
| KR (1) | KR102331438B1 (ru) |
| CN (1) | CN109313386B (ru) |
| BR (1) | BR112018070494A2 (ru) |
| RU (1) | RU2745059C2 (ru) |
| WO (1) | WO2017174755A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6545401B2 (ja) * | 2016-04-06 | 2019-07-17 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． | インプリントリソグラフィースタンプの作製方法及び使用方法 |
| EP3481562A4 (en) * | 2016-07-08 | 2019-06-26 | University of Massachusetts | MODELING NANOSTRUCTURES USING PRINT LITHOGRAPHY |
| EP3929658A1 (en) * | 2020-06-23 | 2021-12-29 | Koninklijke Philips N.V. | Imprinting method and patterned layer |
| JP2024508794A (ja) | 2021-02-19 | 2024-02-28 | スドー バイオサイエンシーズ リミテッド | Ｔｙｋ２阻害剤およびその使用 |
| CN113406860B (zh) * | 2021-07-30 | 2023-09-12 | 华天慧创科技（西安）有限公司 | 一种stamp基底及制备方法 |
| US20230375759A1 (en) * | 2022-05-18 | 2023-11-23 | GE Precision Healthcare LLC | Aligned and stacked high-aspect ratio metallized structures |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59222005A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-13 | 三菱電機株式会社 | 電源制御装置の制御ユニツト |
| CA2364015A1 (en) | 1999-03-02 | 2000-09-08 | Robert S. Dordick | Printable release coatings and stamp constructions |
| US7163712B2 (en) | 2000-03-03 | 2007-01-16 | Duke University | Microstamping activated polymer surfaces |
| US7476523B2 (en) | 2000-08-14 | 2009-01-13 | Surface Logix, Inc. | Method of patterning a surface using a deformable stamp |
| WO2002025750A1 (de) * | 2000-09-22 | 2002-03-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektrode und/oder leiterbahn für organische bauelemente und herstellungsverfahren dazu |
| EP1193056A1 (en) | 2000-09-29 | 2002-04-03 | International Business Machines Corporation | Silicone elastomer stamp with hydrophilic surfaces and method of making same |
| US6596346B2 (en) * | 2000-09-29 | 2003-07-22 | International Business Machines Corporation | Silicone elastomer stamp with hydrophilic surfaces and method of making same |
| US6533884B1 (en) * | 2000-11-03 | 2003-03-18 | Printpack Illinois, Inc. | Method and system for extrusion embossing |
| JP4639081B2 (ja) | 2002-05-27 | 2011-02-23 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | スタンプから基板にパターンを転写する方法及び装置 |
| JP2004046732A (ja) | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Brother Ind Ltd | 情報出力システム、電子機器、及びプログラム |
| GB0218204D0 (en) * | 2002-08-06 | 2002-09-11 | Avecia Ltd | Organic field effect transistors |
| WO2005002080A1 (en) | 2003-05-28 | 2005-01-06 | Johnson Controls Technology Company | System and method for receiving data for training a trainable transmitter |
| EP1538481A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-08 | Sony International (Europe) GmbH | A method of activating a silicon surface for subsequent patterning of molecules onto said surface |
| RU2365960C2 (ru) * | 2004-09-08 | 2009-08-27 | Нил Текнолоджи Апс | Гибкий нано-впечатывающий штамп |
| DE602004013338T2 (de) * | 2004-11-10 | 2009-06-10 | Sony Deutschland Gmbh | Stempel für die sanfte Lithographie, insbesondere für das Mikro-Kontaktdruckverfahren und Verfahren zu seiner Herstellung |
| WO2006132672A2 (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Dow Corning Corporation | A method of nanopatterning, a cured resist film use therein, and an article including the resist film |
| JP2007245702A (ja) | 2006-02-20 | 2007-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | テンプレートおよび転写微細パターンを有する処理基材の製造方法 |
| US8318253B2 (en) | 2006-06-30 | 2012-11-27 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| CN101535892A (zh) | 2006-11-01 | 2009-09-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 凹凸层和制作凹凸层的压印方法 |
| US7891636B2 (en) * | 2007-08-27 | 2011-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
| US9429837B2 (en) | 2008-05-20 | 2016-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Aqueous curable imprintable medium and patterned layer forming method |
| RU2497850C2 (ru) | 2008-06-06 | 2013-11-10 | Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. | Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии |
| US8101519B2 (en) * | 2008-08-14 | 2012-01-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Mold, manufacturing method of mold, method for forming patterns using mold, and display substrate and display device manufactured by using method for forming patterns |
| JP5628489B2 (ja) * | 2009-06-10 | 2014-11-19 | 株式会社カネカ | 光硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ |
| US9354512B2 (en) * | 2009-08-07 | 2016-05-31 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Resin mold for imprinting and method for producing the same |
| JP5488176B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2014-05-14 | Ｊｓｒ株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 |
| JP2012018045A (ja) | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Yamatake Corp | センサ異常診断装置及びセンサシステム |
| KR101848863B1 (ko) * | 2010-08-06 | 2018-04-13 | 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드 | 수지제 몰드, 그 제조 방법 및 그 사용 방법 |
| DE102012112030A1 (de) * | 2012-12-10 | 2014-06-12 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Verfahren zum Mikrokontaktprägen |
| ITBO20120699A1 (it) | 2012-12-21 | 2014-06-22 | Balestri Marcella | Spazzola industriale o per hobbistica e metodo per realizzarla. |
| CN104870576B (zh) | 2012-12-21 | 2017-09-12 | 皇家飞利浦有限公司 | 合成物、压印墨和压印方法 |
| KR102143674B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2020-08-12 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 다이 구조물을 가지는 다이, 뿐만 아니라 이의 제조 방법 |
| JP6545401B2 (ja) * | 2016-04-06 | 2019-07-17 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． | インプリントリソグラフィースタンプの作製方法及び使用方法 |
| EP3481562A4 (en) * | 2016-07-08 | 2019-06-26 | University of Massachusetts | MODELING NANOSTRUCTURES USING PRINT LITHOGRAPHY |
-
2017
- 2017-04-06 JP JP2018552759A patent/JP6545401B2/ja active Active
- 2017-04-06 EP EP17714836.8A patent/EP3440509B1/en active Active
- 2017-04-06 RU RU2018138733A patent/RU2745059C2/ru active
- 2017-04-06 WO PCT/EP2017/058309 patent/WO2017174755A1/en active Application Filing
- 2017-04-06 US US16/092,319 patent/US11163230B2/en active Active
- 2017-04-06 BR BR112018070494A patent/BR112018070494A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2017-04-06 KR KR1020187032058A patent/KR102331438B1/ko active IP Right Grant
- 2017-04-06 CN CN201780034665.6A patent/CN109313386B/zh active Active
-
2019
- 2019-06-18 JP JP2019112459A patent/JP2019195076A/ja active Pending
-
2021
- 2021-10-22 US US17/507,827 patent/US11860535B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109313386A (zh) | 2019-02-05 |
| KR102331438B1 (ko) | 2021-11-26 |
| US11163230B2 (en) | 2021-11-02 |
| JP2019514213A (ja) | 2019-05-30 |
| CN109313386B (zh) | 2022-06-28 |
| JP6545401B2 (ja) | 2019-07-17 |
| RU2745059C2 (ru) | 2021-03-18 |
| KR20180132825A (ko) | 2018-12-12 |
| RU2018138733A3 (ru) | 2020-05-26 |
| JP2019195076A (ja) | 2019-11-07 |
| US20210079167A1 (en) | 2021-03-18 |
| EP3440509A1 (en) | 2019-02-13 |
| US20220043341A1 (en) | 2022-02-10 |
| WO2017174755A1 (en) | 2017-10-12 |
| EP3440509B1 (en) | 2020-06-17 |
| BR112018070494A2 (pt) | 2019-01-29 |
| US11860535B2 (en) | 2024-01-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2018138733A (ru) | Штамп для импринт-литографии и способ его изготовления и использования | |
| US20210163676A1 (en) | Olefin metathesis photopolymers | |
| FI79038C (fi) | Platina-trienkomplex som hydrosilyleringskatalysator och foerfarande foer dess framstaellning. | |
| CN113166541B (zh) | 3d打印的有机硅双网络 | |
| Baumann et al. | Synthesis and characterization of novel PDMS nanocomposites using POSS derivatives as cross‐linking filler | |
| CA2772309A1 (en) | Surface-modifying silicone elastomers | |
| Sundhoro et al. | Synthesis of polyphosphazenes by a fast perfluoroaryl azide-mediated staudinger reaction | |
| JP2015503660A5 (ru) | ||
| EP3490769B1 (en) | Polyorganosiloxane-based stamp and method for manufacturing thereof | |
| Yan et al. | Thiol oxidative coupling synthesis of silicone foams for oil/water separation | |
| JP2020533209A (ja) | シリコーン３ｄプリンティングインク | |
| MX2009009708A (es) | Uso de tocoferol. | |
| JP6526706B2 (ja) | 改質されたエラストマー表面 | |
| JP2018177860A5 (ru) | ||
| CN108699336A (zh) | 单组分、储存稳定的可uv交联有机硅氧烷组合物 | |
| Anger et al. | Photoinduced Polysiloxane Architectures from Spirosiloxane Precursors via Intramolecular Hydrosilylation | |
| WO2007120628A2 (en) | A composition including a siloxane and a method of forming the same | |
| Gergely et al. | Regenerative polymeric coatings enabled by pressure responsive surface valves | |
| KR20220106585A (ko) | 모노리스구조를 갖는 다공성고분자화합물, 그 제조방법 및 상기 고분자화합물의 용도 | |
| MXPA98008270A (es) | Composiciones que contienen secuestrantes de hidrogeno, inorganicos, organicos y organometalicos depaladio |