RU2015108163A - Устройство для генерирования плазмы из газовой среды посредством электронно-циклотронного резонанса (эцр) с высоким диапазоном вдоль одной оси - Google Patents
Устройство для генерирования плазмы из газовой среды посредством электронно-циклотронного резонанса (эцр) с высоким диапазоном вдоль одной оси Download PDFInfo
- Publication number
- RU2015108163A RU2015108163A RU2015108163A RU2015108163A RU2015108163A RU 2015108163 A RU2015108163 A RU 2015108163A RU 2015108163 A RU2015108163 A RU 2015108163A RU 2015108163 A RU2015108163 A RU 2015108163A RU 2015108163 A RU2015108163 A RU 2015108163A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- waveguide
- waveguides
- central conductor
- magnetic circuit
- specified
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
- H01J37/32678—Electron cyclotron resonance
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/461—Microwave discharges
- H05H1/463—Microwave discharges using antennas or applicators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
1. Устройство для генерирования плазмы посредством электронно-циклотронного резонанса ЭЦР из газовой среды, имеющее значительную протяженность вдоль оси и содержащее по меньшей мере два коаксиальных волновода (4), каждый из которых сформирован из центрального проводника (1) и внешнего проводника (2) для направления сверхвысокочастотных волн в камеру обработки, отличающееся тем, что по меньшей мере два электромагнитных волновода (4) соединены с магнитным контуром (21-22), удлиненным в одном направлении, при этом указанный магнитный контур окружает волноводы (4), создавая магнитное поле, способное достичь состояния ЭЦР вблизи указанных волноводов.2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что магнитный контур содержит два полюса (21-22) с противоположной полярностью (31-32), расположенные вблизи волноводов, для формирования магнитной ловушки для электронов.3. Устройство по п. 2, отличающееся тем, что первый полюс (21) образует первую линию, окружающую один или несколько волноводов (4), тогда как второй полюс (22) образует вторую линию, окружающую указанную первую линию (21).4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что центральный проводник (1) каждого волновода содержит элементы, способные защищать отверстие указанного волновода и выполнять функцию антенн.5. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что центральный проводник (1) содержит концентричный диск (5) большего диаметра, чем отверстие волновода (4) для защиты внутренней части указанного волновода, расположенный как можно ближе к области ЭЦР и содержащий вверху стержень (6), расположенный соосно с центральным проводником (1).6. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что на конце центрального проводника находится пластина (7), удлиненная вдоль большей
Claims (11)
1. Устройство для генерирования плазмы посредством электронно-циклотронного резонанса ЭЦР из газовой среды, имеющее значительную протяженность вдоль оси и содержащее по меньшей мере два коаксиальных волновода (4), каждый из которых сформирован из центрального проводника (1) и внешнего проводника (2) для направления сверхвысокочастотных волн в камеру обработки, отличающееся тем, что по меньшей мере два электромагнитных волновода (4) соединены с магнитным контуром (21-22), удлиненным в одном направлении, при этом указанный магнитный контур окружает волноводы (4), создавая магнитное поле, способное достичь состояния ЭЦР вблизи указанных волноводов.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что магнитный контур содержит два полюса (21-22) с противоположной полярностью (31-32), расположенные вблизи волноводов, для формирования магнитной ловушки для электронов.
3. Устройство по п. 2, отличающееся тем, что первый полюс (21) образует первую линию, окружающую один или несколько волноводов (4), тогда как второй полюс (22) образует вторую линию, окружающую указанную первую линию (21).
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что центральный проводник (1) каждого волновода содержит элементы, способные защищать отверстие указанного волновода и выполнять функцию антенн.
5. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что центральный проводник (1) содержит концентричный диск (5) большего диаметра, чем отверстие волновода (4) для защиты внутренней части указанного волновода, расположенный как можно ближе к области ЭЦР и содержащий вверху стержень (6), расположенный соосно с центральным проводником (1).
6. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что на конце центрального проводника находится пластина (7), удлиненная вдоль большей оси магнитного контура, при этом по меньшей мере один из концов указанной пластины содержит элементы (8), предусмотренные для вхождения в контакт с поверхностью источника для создания короткого замыкания, при этом ширина пластины (7) превышает размер отверстия волновода (4).
7. Устройство по п. 6, отличающееся тем, что ширина пластины (7) является постоянной вдоль всей ее длины.
8. Устройство по п. 6, отличающееся тем, что ширина пластины (7) уменьшается с увеличением расстояния от центрального проводника (1) и относительно указанной по меньшей мере одной стороны указанного проводника (1).
9. Устройство по любому из пп. 1-8, отличающееся тем, что камера обработки содержит корпус (10) с охлаждающим контуром (11), при этом указанный корпус (10) содержит обшивку для установки удлиненного магнитного контура, образованного первой линией (21) магнитов, соответствующей первой поляризации, и второй линией (22) магнитов, соответствующей противоположной поляризации и окружающей первую линию (21), окружающую волноводы (4), установленные в отверстиях, выполненных в толще корпуса (10), при этом первая и вторая линии магнитов соединены ферромагнитной пластиной (23), при этом корпус и магнитная система отделены от плазмы экраном (12).
10. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что центральный проводник (1) является цилиндрическим стержнем, отцентрированным относительно внешнего проводника, установленного в корпусе (10) с хорошим электрическим контактом, причем внутрь волновода (4) помещено диэлектрическое окно (3), расположенное под отверстием, покрытым диском с расположенным сверху стержнем, предусмотренным в качестве антенны.
11. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что центральный проводник является цилиндрическим стержнем, отцентрированным относительно внешнего проводника, установленного в корпусе (10) с образованием хорошего электрического контакта, причем внутри волновода (4) под отверстием, покрытым пластиной (7), удлиненной вдоль оси излучателей, помещено диэлектрическое окно (3), при этом указанное удлинение является ассиметричным относительно центрального проводника для волновода, расположенного на закругленном конце магнитного контура, при этом удлинение выполнено только в направлении противоположного конца и симметрично относительно центрального проводника для волновода, расположенного на линейном участке магнитного контура, при этом каждый участок содержит элемент (8), применяемый для короткого замыкания.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1258495A FR2995493B1 (fr) | 2012-09-11 | 2012-09-11 | Dispositif pour generer un plasma presentant une etendue importante le long d'un axe par resonnance cyclotronique electronique rce a partir d'un milieu gazeux |
| FR1258495 | 2012-09-11 | ||
| PCT/FR2013/052035 WO2014041280A1 (fr) | 2012-09-11 | 2013-09-04 | Dispositif pour generer un plasma presentant une etendue importante le long d'un axe par resonnance cyclotronique electronique rce a partir d'un milieu gazeux. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015108163A true RU2015108163A (ru) | 2016-09-27 |
| RU2642424C2 RU2642424C2 (ru) | 2018-01-25 |
Family
ID=47902052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015108163A RU2642424C2 (ru) | 2012-09-11 | 2013-09-04 | Устройство для генерирования плазмы из газовой среды посредством электронно-циклотронного резонанса (эцр) с высоким диапазоном вдоль одной оси |
Country Status (23)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9490102B2 (ru) |
| EP (1) | EP2896278B1 (ru) |
| JP (1) | JP6265997B2 (ru) |
| KR (1) | KR102107510B1 (ru) |
| CN (1) | CN104620682B (ru) |
| AR (1) | AR092517A1 (ru) |
| BR (1) | BR112015004624B1 (ru) |
| CA (1) | CA2883570C (ru) |
| DK (1) | DK2896278T3 (ru) |
| ES (1) | ES2742884T3 (ru) |
| FR (1) | FR2995493B1 (ru) |
| HU (1) | HUE045110T2 (ru) |
| LT (1) | LT2896278T (ru) |
| MX (1) | MX342253B (ru) |
| MY (1) | MY201589A (ru) |
| PL (1) | PL2896278T3 (ru) |
| PT (1) | PT2896278T (ru) |
| RU (1) | RU2642424C2 (ru) |
| SG (1) | SG11201501338XA (ru) |
| SI (1) | SI2896278T1 (ru) |
| TR (1) | TR201910906T4 (ru) |
| TW (1) | TWI587752B (ru) |
| WO (1) | WO2014041280A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI826925B (zh) * | 2018-03-01 | 2023-12-21 | 美商應用材料股份有限公司 | 電漿源組件和氣體分配組件 |
| FR3082526B1 (fr) | 2018-06-18 | 2020-09-18 | Hydromecanique & Frottement | Piece revetue par un revetement de carbone amorphe hydrogene sur une sous-couche comportant du chrome, du carbone et du silicium |
| FR3082527B1 (fr) | 2018-06-18 | 2020-09-18 | Hydromecanique & Frottement | Piece revetue par un revetement de carbone amorphe non-hydrogene sur une sous-couche comportant du chrome, du carbone et du silicium |
| US11037765B2 (en) * | 2018-07-03 | 2021-06-15 | Tokyo Electron Limited | Resonant structure for electron cyclotron resonant (ECR) plasma ionization |
| CN111140454B (zh) * | 2020-02-13 | 2021-05-04 | 哈尔滨工业大学 | 一种微型电子回旋共振离子推力器点火装置 |
| RU2771009C1 (ru) * | 2021-06-01 | 2022-04-25 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А. Валиева Российской академии наук | Способ и устройство для повышения латеральной однородности и плотности низкотемпературной плазмы в широкоапертурных технологических реакторах микроэлектроники |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0627323B2 (ja) * | 1983-12-26 | 1994-04-13 | 株式会社日立製作所 | スパツタリング方法及びその装置 |
| FR2583250B1 (fr) * | 1985-06-07 | 1989-06-30 | France Etat | Procede et dispositif d'excitation d'un plasma par micro-ondes a la resonance cyclotronique electronique |
| US4883968A (en) * | 1988-06-03 | 1989-11-28 | Eaton Corporation | Electron cyclotron resonance ion source |
| JPH03191068A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波プラズマ装置 |
| DE4037091C2 (de) * | 1990-11-22 | 1996-06-20 | Leybold Ag | Vorrichtung für die Erzeugung eines homogenen Mikrowellenfeldes |
| US5283538A (en) * | 1990-11-22 | 1994-02-01 | Leybold Aktiengesellschaft | Apparatus for coupling microwave power out of a first space into a second space |
| DE4136297A1 (de) | 1991-11-04 | 1993-05-06 | Plasma Electronic Gmbh, 7024 Filderstadt, De | Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung |
| JPH0828350B2 (ja) * | 1992-12-09 | 1996-03-21 | 雄一 坂本 | Ｅｃｒ型プラズマ発生装置 |
| JPH06251896A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-09-09 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法及び装置 |
| US5446137B1 (en) * | 1993-12-09 | 1998-10-06 | Behringwerke Ag | Oligonucleotides containing 4'-substituted nucleotides |
| JPH07296991A (ja) * | 1994-04-25 | 1995-11-10 | Kokusai Electric Co Ltd | マイクロ波プラズマ発生装置 |
| FR2726729B1 (fr) * | 1994-11-04 | 1997-01-31 | Metal Process | Dispositif de production d'un plasma permettant une dissociation entre les zones de propagation et d'absorption des micro-ondes |
| JPH09186000A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Anelva Corp | プラズマ処理装置 |
| JPH09266096A (ja) * | 1996-03-28 | 1997-10-07 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置及びこれを用いたプラズマ処理方法 |
| JP2875221B2 (ja) * | 1996-11-15 | 1999-03-31 | ニチメン電子工研株式会社 | プラズマ発生装置 |
| DE19812558B4 (de) | 1998-03-21 | 2010-09-23 | Roth & Rau Ag | Vorrichtung zur Erzeugung linear ausgedehnter ECR-Plasmen |
| FR2797372B1 (fr) | 1999-08-04 | 2002-10-25 | Metal Process | Procede de production de plasmas elementaires en vue de creer un plasma uniforme pour une surface d'utilisation et dispositif de production d'un tel plasma |
| JP4678905B2 (ja) * | 1999-12-20 | 2011-04-27 | 徳芳 佐藤 | プラズマ処理装置 |
| JP2000306901A (ja) * | 2000-01-01 | 2000-11-02 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| DE10341239B4 (de) * | 2003-09-08 | 2006-05-24 | Roth & Rau Ag | ECR-Plasmaquelle mit linearer Plasmaaustrittsöffnung |
| FR2904177B1 (fr) * | 2006-07-21 | 2008-11-07 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif et procede de production et de confinement d'un plasma. |
| DE102006037144B4 (de) * | 2006-08-09 | 2010-05-20 | Roth & Rau Ag | ECR-Plasmaquelle |
| EP1976346A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Ecole Polytechnique | Apparatus for generating a plasma |
| FR2922358B1 (fr) * | 2007-10-16 | 2013-02-01 | Hydromecanique & Frottement | Procede de traitement de surface d'au moins une piece au moyen de sources elementaires de plasma par resonance cyclotronique electronique |
-
2012
- 2012-09-11 FR FR1258495A patent/FR2995493B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-09-04 LT LTEP13774719.2T patent/LT2896278T/lt unknown
- 2013-09-04 HU HUE13774719A patent/HUE045110T2/hu unknown
- 2013-09-04 CN CN201380046725.8A patent/CN104620682B/zh active Active
- 2013-09-04 PL PL13774719T patent/PL2896278T3/pl unknown
- 2013-09-04 JP JP2015530475A patent/JP6265997B2/ja active Active
- 2013-09-04 MY MYPI2015700540A patent/MY201589A/en unknown
- 2013-09-04 SI SI201331536T patent/SI2896278T1/sl unknown
- 2013-09-04 WO PCT/FR2013/052035 patent/WO2014041280A1/fr active Application Filing
- 2013-09-04 SG SG11201501338XA patent/SG11201501338XA/en unknown
- 2013-09-04 PT PT13774719T patent/PT2896278T/pt unknown
- 2013-09-04 BR BR112015004624-0A patent/BR112015004624B1/pt active IP Right Grant
- 2013-09-04 EP EP13774719.2A patent/EP2896278B1/fr active Active
- 2013-09-04 RU RU2015108163A patent/RU2642424C2/ru active
- 2013-09-04 US US14/425,409 patent/US9490102B2/en active Active
- 2013-09-04 TR TR2019/10906T patent/TR201910906T4/tr unknown
- 2013-09-04 MX MX2015003170A patent/MX342253B/es active IP Right Grant
- 2013-09-04 ES ES13774719T patent/ES2742884T3/es active Active
- 2013-09-04 KR KR1020157006130A patent/KR102107510B1/ko active IP Right Grant
- 2013-09-04 DK DK13774719.2T patent/DK2896278T3/da active
- 2013-09-04 CA CA2883570A patent/CA2883570C/fr active Active
- 2013-09-09 TW TW102132427A patent/TWI587752B/zh active
- 2013-09-11 AR ARP130103235A patent/AR092517A1/es active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HUE045110T2 (hu) | 2019-12-30 |
| DK2896278T3 (da) | 2019-08-19 |
| CN104620682B (zh) | 2017-09-05 |
| US20150214008A1 (en) | 2015-07-30 |
| JP6265997B2 (ja) | 2018-01-24 |
| SI2896278T1 (sl) | 2019-10-30 |
| MX2015003170A (es) | 2015-07-14 |
| MY201589A (en) | 2024-03-02 |
| CA2883570A1 (fr) | 2014-03-20 |
| RU2642424C2 (ru) | 2018-01-25 |
| TWI587752B (zh) | 2017-06-11 |
| BR112015004624A2 (pt) | 2017-07-04 |
| BR112015004624B1 (pt) | 2021-01-12 |
| JP2015534214A (ja) | 2015-11-26 |
| SG11201501338XA (en) | 2015-04-29 |
| PL2896278T3 (pl) | 2019-10-31 |
| CA2883570C (fr) | 2020-03-24 |
| PT2896278T (pt) | 2019-07-30 |
| WO2014041280A1 (fr) | 2014-03-20 |
| AR092517A1 (es) | 2015-04-22 |
| LT2896278T (lt) | 2019-08-12 |
| EP2896278A1 (fr) | 2015-07-22 |
| KR102107510B1 (ko) | 2020-05-07 |
| KR20150053918A (ko) | 2015-05-19 |
| FR2995493A1 (fr) | 2014-03-14 |
| ES2742884T3 (es) | 2020-02-17 |
| TW201415958A (zh) | 2014-04-16 |
| EP2896278B1 (fr) | 2019-06-12 |
| CN104620682A (zh) | 2015-05-13 |
| FR2995493B1 (fr) | 2014-08-22 |
| US9490102B2 (en) | 2016-11-08 |
| MX342253B (es) | 2016-09-21 |
| TR201910906T4 (tr) | 2019-08-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2015108163A (ru) | Устройство для генерирования плазмы из газовой среды посредством электронно-циклотронного резонанса (эцр) с высоким диапазоном вдоль одной оси | |
| JP6086189B2 (ja) | コイル装置 | |
| Prasad et al. | Directly modulated spinning magnet arrays for ULF communications | |
| JP2010165677A5 (ru) | ||
| Prasad et al. | Going beyond Chu harrington limit: ULF radiation with a spinning magnet array | |
| JP2018535614A (ja) | 誘電体共振器およびフィルタ | |
| JP2010166011A5 (ru) | ||
| Melazzi et al. | Analytical and numerical study of a gaseous plasma dipole in the UHF frequency band | |
| KR101175324B1 (ko) | 플라즈마 발생용 마이크로웨이브 안테나 | |
| BR112012010239B1 (pt) | sistema para sintonia aperfeiçoada de sinais eletromagnéticos em cavidades ressonantes | |
| JP2013225797A (ja) | 周波数選択板 | |
| WO2015049725A1 (ja) | 部分放電センサー | |
| Jaafar et al. | Simulation study of monopole plasma antenna for 2.4 GHz application | |
| CN103715054A (zh) | 一种电子回旋共振离子源 | |
| JP2018107102A (ja) | プラズマ発生装置 | |
| US20160118704A1 (en) | Low-loss continuously tunable filter and resonator thereof | |
| RU2544806C1 (ru) | Плазменная вибраторная антенна с ионизацией поверхностной волной | |
| KR101999480B1 (ko) | 무선 통신 장치 및 방법 | |
| KR101620681B1 (ko) | 커버 하부에 파워디텍터를 내장한 아이솔레이터 | |
| KR101605060B1 (ko) | Ecr 플라즈마 발생장치 | |
| KR101512996B1 (ko) | 자기공명방식 무선 전력 송수신용 안테나 | |
| Yin et al. | Mutual impedance of plasma antennas | |
| Gerst et al. | Strip-like structure in a low-pressure magnetized RF discharge | |
| JP2009130926A (ja) | フェライト移相器及び自動整合装置 | |
| SU845743A1 (ru) | Устройство дл возбуждени электромагнитных волн в плазме |