BR112015004624B1 - dispositivo para gerar um plasma apresentando uma grande extensão ao longo de um eixo por ressonância ciclotrônica de elétrons (rce) a partir de um meio gasoso - Google Patents

Abstract

DISPOSITIVO PARA GERAR UM PLASMA APRESENTANDO UMA GRANDE EXTENSÃO AO LONGO DE UM EIXO POR RESSONÂNCIA CICLOTRÔNICA DE ELÉTRONS (RCE) A PARTIR DE UM MEIO GASOSO O dispositivo comporta pelo menos duas guias de ondas coaxiais (4) constituídas cada uma por um condutor central (1) e um condutor externo (2) para conduzir micro-ondas para dentro de uma câmara de tratamento, caracterizado pelo fato de que pelo menos as duas guias de injeção de ondas eletromagnéticas (4) são combinadas com um circuito magnético (21-22) alongado em uma direção, o referido circuito magnético envolvendo as guias de ondas (4), criando um campo magnético capaz de realizar uma condição de RCE na proximidade das referidas guias de ondas.

Description

[0001] A invenção se refere ao setor técnico da produção de plasma por ressonância ciclotrônica de elétrons (RCE) a partir de um meio gasoso e se refere, mais particularmente, ao campo dos tratamentos de superfície a vácuo.

[0002] De uma maneira perfeitamente conhecida para o versado na técnica, a ressonância ciclotrônica de elétrons ocorre quando se aplica ao mesmo tempo uma onda eletromagnética e um campo magnético estático suficientemente forte para que a frequência do movimento ciclotrônico dos elétrons em torno das linhas de campo magnético seja igual à frequência da onda. Assim, os elétrons podem absorver a energia da onda para transmiti-la em seguida para o gás de modo a formar um plasma. O plasma gerado por ressonância ciclotrônica de elétrons pode intervir no tratamento de superfícies de peças metálicas ou não, tal como a limpeza de peças por decapagem iônica, a assistência iônica a processo de deposição PVD, a ativação de espécies gasosas para realização de revestimentos PACVD... Estes métodos de tratamento de superfícies por plasma podem ser usados, entre outros, no campo da mecânica, óptica, proteção contra corrosão ou tratamento de superfície para a produção de energia.

[0003] De acordo com o estado da técnica, diversos tratamentos pela via plasma requerem uma fonte cujo plasma apresente uma extensão substancial ao longo de um eixo. Uma maneira de criar um plasma prolongado é justapor diversas fontes de dimensões pequenas. Isto é descrito, por exemplo, na patente EP 1075168, onde o plasma é criado pela justaposição de várias fontes RCE dipolares, criando assim uma estrutura multi-dipolar. A configuração descrita nesta patente é ilustrada na Figura 1. A ressonância ciclotrônica de elétrons (RCE) nas frequências de micro-ondas é uma tecnologia que se presta bem para tais múltiplas fontes, pois a distribuição da potência ocorre bem facilmente. É difícil, entretanto, com esta simples justaposição de fontes de se obter uma boa uniformidade de deposição. Além disso, a estrutura dipolar destas fontes não permite orientar o plasma para os substratos a serem tratados, gerando assim perdas significativas do plasma para as paredes. Estas perdas correspondem a perdas de energia são limitantes para a velocidade de deposição.

[0004] Outras fontes RCE possuem configurações magnéticas que reduzem essas perdas por dirigir o plasma mais na direção dos substratos a serem tratados. Este é, por exemplo, o caso da fonte descrita no documento de patente WO 2008/017304 (Fig. 2). Como especificado nesta patente, várias destas fontes colocadas lado a lado permitem o tratamento por uma largura superior ao tamanho de uma única fonte. No entanto, tal configuração não proporcionará uma boa uniformidade de tratamento, haverá necessariamente uma queda na densidade de plasma onde as fontes estão em contato, devido à interação magnética entre as fontes.

[0005] Existem outras fontes de plasma RCE que apresentam uma extensão intrínseca significativa em uma direção. Essas fontes são descritas nas patentes DE 4136297, DE 19812558 e WO 2005/027595. A característica comum destas fontes é que o próprio plasma forma uma parte do condutor externo de uma estrutura coaxial ou de uma guia de ondas oca. A Figura 3, que corresponde ao estado da técnica do documento DE 19812558, mostra de forma representativa a estrutura de tal fonte. A fonte da patente DE 4136297 possui um cilindro oco feito de um material dielétrico, o qual separa o interior da guia de ondas do plasma. A desvantagem deste elemento é que qualquer depósito condutor sobre sua superfície vai impedir a formação do plasma. Tal fonte não poderá ser usada, por exemplo, para a decapagem de peças de metal, porque o vapor do metal decorrente da decapagem poluirá o dielétrico. As fontes das patentes DE 19812558 e WO 2005/027595 são potencialmente menos susceptíveis a essa contaminação, mas elas não otimizam mais o fluxo de plasma para as peças a serem tratadas.

[0006] A invenção define como objetivo remediar estes inconvenientes de uma forma simples, segura, eficaz e racional.

[0007] O problema a ser resolvido pela presente invenção consiste, portanto, em proporcionar uma fonte de plasma linear de boa uniformidade, que orienta o plasma para o substrato a ser tratado, diminuindo assim as perdas para as paredes, e que possa ser feita insensível a qualquer depósito de material condutor que ocorra em sua superfície.

[0008] Para resolver tal problema, foi concebido e desenvolvido um dispositivo para a geração de um plasma por ressonância ciclotrônica de elétrons RCE a partir de um meio gasoso e compreendendo pelo menos duas guias de ondas coaxiais constituídas por um condutor central e um condutor externo para conduzir micro-ondas para dentro de uma câmara de tratamento, caracterizado pelo fato de que pelo menos as duas guias de injeção de ondas eletromagnéticas são combinadas com um circuito magnético alongado em uma direção, o referido circuito magnético envolvendo as guias de ondas, criando um campo magnético capaz de realizar uma condição de RCE na proximidade das referidas guias de ondas. Proximidade significa que a região de RCE deve ser tão próxima da antena, sem que as linhas de campo magnético que atravessam a região de RCE não sejam na maior parte interceptadas pela antena de uma injeção.

[0009] É evidente a partir destas características que a natureza pontual da injeção das ondas eletromagnéticas é suavizada pela deriva dos elétrons (representado por uma seta (50) na Figura 4) no campo do sistema magnético (20) que envolve essas injeções (4), recordando uma injeção (4) é constituída por um guia de ondas coaxial (l)-(2) e uma antena (5-6 ou 7). Por deriva, entende-se o movimento lento dos elétrons perpendicular às linhas de campo (40). Este movimento é devido ao gradiente e à curvatura das linhas. De fato, o espaço entre duas injeções recebe pela deriva elétrons quentes vindos das regiões de ressonância das duas injeções. Ao derivar, os elétrons perdem sua energia criando íons. A taxa de ionização diminui ao se afastar da injeção, mas as duas derivas opostas se somam o que faz a intensidade da fonte variar pouco dependendo da posição ao longo do seu comprimento maior.

[0010] Para resolver o problema da formação de uma armadilha magnética de elétrons, a fim de limitar as perdas, o circuito magnético apresenta na proximidade das guias de ondas, dois polos de polaridade opostas. O primeiro polo forma uma primeira linha em torno da ou das guias de ondas, enquanto que o segundo polo forma uma segunda linha, envolvendo a referida primeira linha.

[0011] Recorde-se de acordo com a invenção que as injeções de onda são formadas por guias coaxiais, cujo condutor central termina em uma antena. No entanto, não é óbvio para o versado na técnica que tal sistema funciona porque um circuito magnético alongado em uma direção, tal como reivindicado, não permite à região de RCE envolver o ponto de injeção, como é o caso, por exemplo, da fonte do referido documento WO 2008/017304. De fato, a transferência de energia para o plasma torna-se mais difícil porque, em primeiro lugar, o volume de RCE na proximidade das injeções é menor e, em segundo lugar, o ambiente da antena não é homogêneo: a onda passa de uma guia com simetria rotacional para um meio (plasma) que não tem essa simetria e a onda é, assim, parcialmente refletida. Este segundo ponto é particularmente problemático porque o sistema sofre uma transição quando o plasma se ilumina: antes da iluminação do plasma o meio (vácuo) é homogêneo, mas depois não é mais. Esta transição constitui uma alteração da impedância que é difícil de gerenciar. As injeções são geralmente equipadas com um dispositivo de adaptação de impedância, mas esses dispositivos geralmente são manuais e não são projetados para uma alteração durante o processo.

[0012] Por estas razões, foi necessário o desenvolvimento de diferentes tipos de antenas especificamente adaptadas para o funcionamento do dispositivo com um sistema magnético alongado.

[0013] Para este fim, em uma primeira concretização, o condutor central apresenta um disco concêntrico de diâmetro maior do que a abertura da guia de ondas para proteger o interior da referida guia, que está posicionada mais perto da região de RCE e é ultrapassada por uma haste disposta em alinhamento coaxial com o condutor central.

[0014] Em uma segunda concretização, o condutor central termina em uma placa alongada na direção do eixo mais longo do circuito magnético, uma das extremidades, pelo menos, da referida placa apresentando meios para ser posta em contato com a superfície da fonte, para criar um curto-circuito, a largura da placa sendo maior do que a abertura da guia de ondas.

[0015] A largura da placa é constante ao longo de todo o seu comprimento, ou então a largura da placa diminui afastando-se do condutor central, e em relação a pelo menos um lado do referido condutor.

[0016] A partir das características de base da invenção, o dispositivo é aplicável no caso de uma câmara de tratamento que compreende um corpo com um circuito de arrefecimento, o referido corpo tendo um alojamento para a montagem do circuito magnético alongado constituído pela primeira linha de ímãs de acordo com a primeira polarização pela segunda linha de ímãs em uma polarização oposta e envolvendo a primeira linha, a qual envolve as guias de ondas montadas em furos formados na espessura do corpo, a primeira e segunda linhas de ímãs conectadas do lado oposto ao plasma por uma placa ferromagnética, o corpo e o sistema magnético estando separados do plasma por um laminado de proteção não magnético.

[0017] Ao considerar as diferentes formas possíveis das antenas, a fim de adaptá-las ao funcionamento do sistema magnético alongado: - ou o condutor central de cada guia é uma haste cilíndrica centrada em relação ao condutor externo inserido no corpo para formar um bom contato elétrico, uma janela dielétrica estando posicionada no interior da guia abaixo da abertura que é coberta pelo disco ultrapassado pela haste para ter a função de antena. - ou o condutor central de cada guia é uma haste cilíndrica centrada em relação aos condutores externos inseridos no corpo para formar um bom contato elétrico, uma janela dielétrica estando posicionada no interior da guia abaixo da abertura, que é coberta pela placa alongada ao longo do eixo das injeções, sendo o referido alongamento assimétrico em relação ao condutor central para um guia de ondas situada em uma extremidade arredondada do circuito magnético, o alongamento ocorrendo apenas feita na direção da extremidade oposta e simétrico em relação ao condutor central para uma guia de ondas situada na parte linear do circuito magnético, cada parte alongada tendo o meio que tem a função de curto- circuito.

[0018] A invenção é descrita abaixo em maiores detalhes com a ajuda dos desenhos anexos em que: - A figura 1 é uma vista esquemática do estado da técnica descrito na patente EP 1075168. - A figura 2 é uma vista esquemática do estado da técnica descrito no documento WO 2008/017304. - A figura 3 é uma vista esquemática do estado da técnica descrito na patente DE 19812558. - A figura 4 é uma vista esquemática do princípio da presente invenção. - As figuras 5A e 5B apresentam possíveis concretizações da estrutura magnética, de acordo com a invenção. - A figura 6 mostra uma primeira forma de antena de acordo com a invenção. - As figuras 7A, 7B e 7C mostram formas alternativas de antenas de acordo com a invenção. - A figura 8 é uma vista em perspectiva de uma primeira concretização da presente invenção, apresentando um corte no nível de uma entrada de micro-ondas. - A figura 9 é uma vista em perspectiva de uma segunda concretização da presente invenção, apresentando um corte no plano das injeções de micro-ondas e um segundo corte entre duas injeções perpendicular a este plano.

[0019] O princípio básico da invenção, ou seja, o circuito magnético alongado envolvendo várias injeções de micro-ondas é ilustrado de forma esquemática nas figuras 4 e 5.

[0020] O circuito magnético apresenta vizinhança da superfície da fonte de dois polos de polaridade oposta a fim de formar uma armadilha magnética para os elétrons. O primeiro polo forma uma primeira linha (21) envolvendo as guias de injeção (4) das ondas eletromagnéticas e o segundo polo forma uma segunda linha (22) envolvendo esta primeira linha.

[0021] A figura 5 mostra duas formas possíveis para o circuito magnético. A primeira (Fig. 5A) tem a vantagem de ser mais simples de realizar, mas a região de RCE é tangencial às injeções na parte linear. A segunda forma (Fig. 5B) tenta aperfeiçoar o volume de RCE na proximidade das injeções.

[0022] Ao ajustar a força relativa dos dois polos da estrutura magnética é possível influenciar o fluxo de plasma para os substratos a serem tratados. Por exemplo, através do reforço do polo exterior do circuito (22) se fará convergir as duas faixas de plasma da parte linear no espaço em frente à fonte o que permite aumentar neste local a velocidade de tratamento das peças. Isto é útil para reduzir as perdas laterais se as paredes da câmara de vácuo estão próximas. Se for reforçado, pelo contrário, o polo interior do circuito (21), as duas faixas de plasma se desviarão lateralmente. Em alguns casos, isto pode ser uma vantagem, por exemplo, para uma superfície de tratamento cilíndrica para a qual é possível criar duas zonas de tratamento tangentes à superfície do cilindro.

[0023] Injeções de onda são formadas por guias coaxiais, cujo condutor central termina em uma antena.

[0024] A invenção proporciona duas formas de aperfeiçoar a forma das antenas.

[0025] Os seguintes exemplos numéricos são dados para uma fonte de plasma compreendendo guias de ondas coaxiais, cujos condutores externos possuem diâmetros interiores de 17 mm e cujos condutores internos possuem diâmetros externos de 8 mm.

[0026] Em uma primeira concretização, ilustrada na figura 6, o condutor central (1) se alarga primeiro em forma de disco (5). Este disco tem um diâmetro maior do que a abertura da guia de ondas (1)-(2) o que permite proteger o interior da guia de um possível depósito e trazer a onda mais próximo da região de RCE. Sua borda se situa, de fato, a alguns milímetros da região de RCE. Este disco tem uma espessura de alguns milímetros, tipicamente entre 1 e 5 mm, e forma com a superfície da fonte uma fenda de alguns milímetros, vantajosamente entre 2 e 5 mm. Este disco é ultrapassado por uma haste (6), que está no prolongamento do condutor central (1) . O comprimento desta haste está entre À/8 e À/2, com À sendo o comprimento de onda das micro-ondas. O comprimento exato depende do diâmetro do disco e da forma da região de RCE. É ajustando o comprimento desta haste que se otimiza a antena. Por exemplo, em uma concretização com um disco de 25 mm de diâmetro, o comprimento otimizado para a haste está entre 30 e 35 mm para um comprimento de onda de 122,4 mm (2,45 GHz). Assim, apesar da sua simetria de rotação esta antena produz um bom acoplamento do campo de micro-ondas com o plasma. A função da haste é harmonizar a impedância do vácuo com a do plasma.

[0027] Em uma segunda concretização, o condutor central termina em uma placa (7) de alguns milímetros de espessura, o que, desta vez, não tem simetria de rotação, mas é alongada na direção do eixo mais longo do sistema magnético (figuras 7A e 7B). Esta largura da placa excede a abertura da guia de ondas e termina a alguns milímetros da região de RCE. Seu comprimento total está entre À/4 e À. Ao ajustar este comprimento é possível otimizar o acoplamento para o plasma. Nas extremidades esta placa é posta em contato (8) com a superfície da fonte para criar um curto-circuito, evitando, assim, que ela irradie micro-ondas para as placas vizinhas. Este curto-circuito força a onda a produzir neste local um nó no campo elétrico. A onda é refletida e volta para o ponto de injeção. A distância entre o ponto de injeção e o retorno à massa fixa a fase da onda refletida quando ela atinge o ponto de injeção. Ao se alterar esta distância é possível ajustar esta fase em relação à da onda refletida pelo plasma. Uma solução “natural” parece aquela em que o comprimento total da placa é À/2, ou seja, 61 mm para uma frequência de 2,45 GHz, comprimento no qual é formada de uma onda estacionária entre as duas extremidades. Em um caso real, no entanto, verificou-se que este comprimento teórico não era ótimo para o desempenho de plasma e que era necessário aumentar o comprimento em cerca de 10% para se obter resultados satisfatórios.

[0028] A largura da placa pode permanecer a mesma ao longo de todo o comprimento da placa (figura 7A) ou diminuir afastando-se do ponto de injeção (figura 7B). Em uma concretização preferida, a largura da placa diminui aproximando-se da sua extremidade. Por exemplo, para uma placa que tenha 25 mm de largura no meio, a largura não será mais do que 10 mm nas extremidades.

[0029] Para uma injeção que esteja localizada no interior de uma curva do circuito magnético, esta segunda forma de antena é modificada de tal modo que a placa só é alongada na direção que se afasta da curva (figura 7C). O comprimento desta parte, medido a partir do centro da guia central, está então compreendido entre À/8 e À/2. Do lado da curva a placa apresenta a forma de um meio-disco. Em uma concretização com um meio-disco com um raio de 12,5 mm, a parte alongada mede 34 mm, sempre para um À de 122,4 mm (2,45 GHz).

[0030] É possível combinar em uma única fonte vários tipos de antenas para aperfeiçoar o desempenho geral. É igualmente possível combinar as duas soluções propostas pela invenção como, por exemplo, a placa alongada ultrapassada por uma haste.

[0031] É feit a referência às figuras 8 e 9, que mostram em corte duas concretizações da fonte de plasma que integra o dispositivo de acordo com a invenção.

[0032] Na figura 8, a câmara de tratamento inclui um corpo metálico não magnético (10) arrefecido por água que circula em um circuito de arrefecimento (11). Um alojamento proporcionado no corpo recebe o sistema magnético. Nesta concretização, o sistema magnético é composto da primeira linha de ímãs (21) de uma primeira polarização (31) e da segunda linha (22) que envolve a referida primeira linha e de polarização oposta (32). No interior do corpo (10) as duas linhas de ímãs (21) e (22) estão conectadas por uma placa ferromagnética (23). O corpo (10) e o sistema magnético são separados do plasma por um laminado de proteção (12). Furos cilíndricos são fornecidos no corpo (10) e no laminado (12) para a injeção das microondas, por meio de várias guias coaxiais cujos condutores externos (2) se inserem no corpo da fonte formando bom com isso o contato elétrico com esta. O condutor central de cada guia se apresenta sob a forma de uma haste cilíndrica (1), centrada em relação ao condutor externo, e que ultrapassa o laminado de proteção. Uma janela dielétrica (3) é colocada no interior da guia a vários centímetros da abertura. Esta localização remota garante uma fraca incrustação do dielétrico por qualquer depósito e, em particular, por um depósito de material condutor que poderia impedir a passagem das microondas. O dielétrico permite a vedação entre o interior e o exterior da câmara de tratamento sob vácuo. Nesta primeira concretização, a abertura da guia de ondas é coberta por um disco (5) que impede o depósito de voltar para a guia de ondas e que permite conduzir as micro-ondas para dentro da região de RCE. O disco (5) é ultrapassado por uma haste (6) que permite otimizar o acoplamento com o plasma.

[0033] Assim, em uma concretização em que o disco circular tem um diâmetro de 25 mm e uma espessura de 3 mm, o comprimento da haste foi ajustado entre 16 e 35 mm para uma frequência de micro-ondas de 2,45 GHz e uma potência por antena de 90 W. Em cada configuração, a facilidade de iluminação é observada. A iluminação é considerada fácil se ela não requer qualquer modificação em relação aos dispositivos de adaptação de impedância que se encontram em cada linha de injeção.

[0034] As medições da corrente elétrica extraída do plasma e colhidas pelos substratos colocados a 8 cm da fonte e trazidos a uma tensão de 20V foram efetuadas como mostra a tabela abaixo:

[0035] A variação da corrente, embora fraca porque a harmonização da impedância foi otimizada em cada configuração para garantir a transferência ótima da potência para o plasma, é significativa o suficiente para permitir determinar o comprimento ótimo situado entre 30 e 35 mm nesta configuração.

[0036] Na concretização ilustrada na figura 9, a concepção básica da câmara de tratamento é a mesma. A diferença reside no nível das antenas. Nesta concretização, as placas (7a) e (7b) das antenas são alongadas na direção do eixo das injeções. O alongamento (7a) é assimétrico em relação ao condutor central (1) para uma antena que esteja localizada em uma extremidade da fonte de plasma, no centro de uma curva do circuito magnético, o alongamento só ocorre na direção da extremidade oposta. O alongamento (7b) é simétrico em relação ao condutor central para uma antena que esteja localizada dentro da parte linear do circuito magnético. No final de cada parte alongada há um curto-circuito (8) que impede que a antena irradie para a sua vizinhança. Nesta concretização, a largura da chapa diminui à medida que se afasta do condutor central (1) e se aproxima do retorno à massa.

[0037] Esta configuração foi testada pela primeira vez com antenas cuja distância entre retorna à massa e condutor central da guia de ondas foi de 31 a 32 mmm, logo perto de À/4 (30,6 mm). Isto proporcionou um aumento de corrente de cerca de 3% em relação à primeira concretização. Trazendo esta distância para 34 mm a corrente aumenta 3% a mais, logo 6% em comparação com a primeira concretização. Em ambos os casos, a placa tinha uma espessura de 3 mm.

[0038] As vantagens são evidentes a partir da descrição.

Claims (11)

1. Dispositivo para gerar um plasma apresentando uma grande extensão ao longo de um eixo por ressonância ciclotrônica de elétrons (RCE) a partir de um meio gasoso e compreendendo pelo menos duas guias de ondas coaxiais (4) constituídas cada uma por um condutor central (1) e um condutor externo (2) para conduzir micro-ondas para dentro de uma câmara de tratamento, caracterizado pelo fato de que pelo menos as duas guias de ondas (4) para injeção de ondas eletromagnéticas são combinadas com um circuito magnético (21-22) alongado em uma direção, o referido circuito magnético envolvendo as guias de ondas (4) criando um campo magnético capaz de realizar uma condição de RCE na proximidade das referidas guias de ondas.

2. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o circuito magnético apresenta na proximidade das guias de ondas, dois polos (21-22) de polaridades opostas (31-32) a fim de formar uma armadilha magnética para os elétrons.

3. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que o primeiro polo (21) forma uma primeira linha envolvendo as guias de ondas (4), enquanto o segundo polo (22) forma uma segunda linha, envolvendo a referida primeira linha.

4. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o condutor central (1) de cada guia de ondas apresenta meios (7, 8) capazes de proteger a abertura da referida guia e de realizar a função de antenas.

5. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 4, caracterizado pelo fato de que o condutor central (1) apresenta um disco concêntrico (5) de diâmetro maior que a abertura da guia de ondas (4) a fim de proteger o interior da referida guia, a referida guia estando posicionada mais próximo da região RCE e é ultrapassada por uma haste (6) disposta em alinhamento coaxial com o condutor central (1).

6. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 4, caracterizado pelo fato de que o condutor central termina em uma placa alongada (7) seguindo o eixo mais longo do circuito magnético, uma das extremidades pelo menos da referida placa apresentando meios (8) para serem postos em contato com a superfície da fonte, para criar um curto-circuito, a largura da placa (7) sendo superior à abertura da guia de ondas (4).

7. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que a largura da placa (7) é constante por toda a sua largura.

8. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que a largura da placa (7) diminui ao se afastar do condutor central (1) e em relação a pelo menos um lado do referido condutor (1).

9. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que a câmara de tratamento compreende um corpo (10) com um circuito de resfriamento (11), o referido corpo (10) compreendendo um alojamento para a montagem do circuito magnético alongado composto da primeira linha de ímãs (21) conforme a primeira polarização e a segunda linha de ímãs (22) conforme uma polarização oposta e envolvendo a primeira linha (21) a qual envolve as guias de ondas (4) montadas dentro de furos formados na espessura do corpo (10), a primeira e segunda linha de ímãs são conectadas por uma placa ferromagnética (23), o corpo e o sistema magnético estando separados do plasma por um laminado de proteção (12).

10. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de que o condutor central (1) é uma haste cilíndrica centralizada em relação ao condutor externo inserido dentro do corpo (10) formando um bom contato elétrico, uma janela dielétrica (3) estando posicionada no interior da guia (4) embaixo da abertura que está coberta pelo disco ultrapassado pela haste que realiza a função de antena.

11. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de que o condutor central é uma haste cilíndrica centralizada em relação ao condutor externo inserido dentro do corpo (10) formando um bom contato elétrico, uma janela dielétrica (3) estando posicionada no interior da guia (4) embaixo da abertura que está coberta pela placa alongada (7) ao longo do eixo das injeções, o referido alongamento sendo assimétrico em relação ao condutor central para uma guia de ondas situada em uma extremidade arredondada do circuito magnético, o alongamento ocorrendo apenas na direção da extremidade oposta e simétrico em relação ao condutor central por uma guia de ondas situada na parte linear do circuito magnético, cada parte alongada apresentando o meio (8) que realiza a função de curto-circuito.

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