MX2015003170A - Dispositivo para la generacion de plasma que tiene un intervalo alto a lo largo de un eje por la resonancia ciclotronica de electrones (ecr) de un medio gaseoso. - Google Patents

Abstract

El dispositivo incluye al menos dos guías de ondas coaxial (4) formadas cada una de un conductor central (1) y de un conductor externo (2) para llevar microondas en una cámara de tratamiento, caracterizado porque al menos las dos guías de inyección de ondas electromagnéticas (4) se combinan con un circuito magnético (21-22) alargado en una dirección, dicho circuito magnético rodea a las guías de ondas mediante la creación de un campo magnético capaz de conseguir una condición de ECR cerca de dichas guías de ondas.

Description

DISPOSITIVO PARA LA GENERACIÓN DE PLASMA QUE TIENE UN INTERVALO ALTO A LO LARGO DE UN EJE POR LA RESONANCIA CICLOTRONICA DE ELECTRONES (ECR) DE UN MEDIO GASEOSO Campo de la invención La invención se refiere al campo téenico de la generación de plasma por resonancia ciclotrónica de electrones (ECR) a partir de un medio gaseoso, y más específicamente se refiere al campo de los tratamientos de superficie al vacio.

Antecedentes de la Invención Como es bien conocido perfectamente por los expertos en la técnica, la resonancia ciclotrónica de electrones se produce cuando una onda electromagnética y un campo magnético estático suficientemente fuerte se aplican al mismo tiempo para que la frecuencia del movimiento ciclotrónico de electrones alrededor de las líneas de campo magnético sean iguales a la onda de frecuencia. Por lo tanto, los electrones pueden absorber la energía de onda para que después se transmita al gas con el fin de formar un plasma. El plasma generado por la resonancia ciclotrónica de electrones se puede usar en el tratamiento de superficie de piezas, metálico o no, tales como la limpieza de partes en grabado iónico, la ayuda de iones para un método de PVD, la activación de las especies de gas para formar recubrimientos PACVD. Se pueden utilizar tales métodos de tratamiento de plasma, entre otros, en la mecánica, la óptica, protección contra la corrosión o el tratamiento de superficie para la producción de energía.

De acuerdo con el estado de la técnica, muchos tratamientos de plasma requieren de una fuente que tenga un plasma con una gran extensión a lo largo de un eje. Una manera de crear un plasma extendido es yuxtaponer varias fuentes de pequeñas dimensiones. Esto se describe por ejemplo en la patente EP 1075168, donde el plasma es creado por la yuxtaposición de varias fuentes ECR dipolares, creando asi una estructura multi-dipolar. La configuración descrita en esta patente se ilustra en la Figura 1. La Resonancia ciclotrónica de Electrones (ECR) en frecuencias de microondas es una teenología bien adaptada a este tipo de fuentes múltiples ya que la distribución de potencia se puede realizar con bastante facilidad. Sin embargo, es difícil, con una simple yuxtaposición de tales fuentes, obtener una muy buena uniformidad de deposición. Además, la estructura dipolar de tales fuentes no permite dirigir el plasma hacia los sustratos a tratar, generando así pérdidas significativas de plasma hacia las paredes. Estas pérdidas corresponden a las pérdidas de energía, que son limitantes para la velocidad de deposición.

Otras fuentes ECR tienen configuraciones magnéticas que disminuyen las pérdidas por dirigir el plasma más hacia los sustratos a tratar. Este es por ejemplo el caso de la fuente descrita en la patente WO 2008/017304 (Figura 2). Como se específica en esta patente, varias de estas fuentes colocadas lado a lado permiten un tratamiento a través de una anchura superior del tamaño de una sola fuente. Sin embargo, dicha configuración no proporcionará una buena uniformidad de tratamiento, habiendo necesariamente una caída en la densidad del plasma donde las fuentes tocan, debido a la interacción magnética entre las fuentes.

Existen otras fuentes de plasma ECR que tienen una extensión intrínseca significante en una dirección. Estas fuentes se describen en las patentes DE 4136297, DE 19812558 y WO 2005/027595. El punto común de estas fuentes es tal que el plasma real forma una parte del conductor externo de una estructura coaxial o de una guia de ondas hueca. La Figura 3, que corresponde a la téenica anterior de la patente DE 19812558, muestra de forma representativa la estructura de una fuente tal. La fuente de la patente DE 4136297 comprende un cilindro hueco hecho de un material dieléctrico que separa el interior de la guia de ondas del plasma. La desventaja de este elemento es que cualquier depósito conductor sobre su superficie evitará la formación del plasma. Por ejemplo, tal fuente no puede ser utilizada para el decapado de piezas de metal ya que el vapor de metal podría contaminar el dieléctrico debido a que el decapado. Aunque las fuentes de patentes DE 19812558 y WO 2005/027595 son potencialmente menos sensibles a una contaminación, no optimizan el flujo de plasma hacia las piezas a tratar.

Sumario de la Invención La invención tiene por objeto superar estos inconvenientes en una forma segura, eficiente, simple, y de manera racional.

El problema que la presente invención pretende resolver por lo tanto es proporcionar una fuente de plasma lineal que tenga una buena uniformidad, que dirija al plasma hacia los sustratos a tratar, reduciendo asi las pérdidas hacia las paredes, y que se puede hacer insensible a cualquier depósito conductor formado en su superficie.

Para resolver tal problema, un dispositivo para generar un plasma a partir de una resonancia ciclotrónica de electrones ECR a partir de un medio gaseoso y que comprende al menos dos guias de ondas coaxiales formadas de un conductor central y de un conductor externo para traer microondas a una cámara de tratamiento, caracterizado porque al menos las dos guias de inyección de la onda electromagnética se combinan con circuitos magnéticos alargado en una dirección, dicho circuito magnético que rodea a las guías de ondas por un campo magnético es capaz de conseguir una condición de ECR cerca de dicha guías de ondas que han sido diseñadas y desarrolladas. Medios de proximidad significa que el área ECR debe estar tan cerca como sea posible a la antena, sin que por la línea de campo magnético crucen la zona ECR para ser interceptado principalmente por la antena de un inyector.

Al parecer a partir de estas características que el hecho de que la inyección de las ondas electromagnéticas están en forma de puntos se suavizan por la desviación de electrones (simbolizado por una flecha (50) en la Figura 4) en el campo del sistema magnético en forma de punto (20) que rodea los inyectores (4), recordando que un inyector (4) está formado por una guía de ondas coaxial (1) - (2) y de una antena (5-6 o 7). La desviación designa el lento movimiento de los electrones perpendiculares a las líneas de campo (40). Tal movimiento es debido al gradiente y la curvatura de estas líneas. En efecto, el espacio entre los dos inyectores recibe, por la desviación, los electrones calientes del área de resonancia de los dos inyectores. Los electrones en su recorrido pierden su energía mediante la creación de iones. La tasa de ionización disminuye a medida que la distancia del inyector aumenta, pero las dos desviaciones opuestas añade a la otra, por lo que la intensidad de la fuente varía poco de acuerdo con la posición a lo largo de su lado más largo.

Para resolver el problema planteado de formar una trampa magnética para los electrones con el fin de limitar las pérdidas del mismo, el circuito magnético tiene, cerca de las guías de ondas, dos polos de polaridades opuestas. El primer polo forma una primera línea que rodea la guía de ondas (s), mientras que el segundo polo se forma una segunda línea, que rodea a dicha primera línea.

Cabe recordar acuerdo con la invención que inyectores de onda están formados por guías coaxiales que tienen su conductor central que termina en una antena. Ahora bien, no es obvio para los expertos en la téenica que tal sistema puede funcionar desde un circuito magnético alargado en una dirección, tal como se reivindica, no permite que el área de ECR rodee el punto de inyección, como es por ejemplo el caso de la fuente de la patente anteriormente mencionada WO 2008/017304. De hecho, la transferencia de energía al plasma se vuelve más difícil puesto que, primero, el volumen del ECR cerca esta cercano de los inyectores y es más pequeño y, segundo, el medio ambiente de la antena no es homogéneo: la onda pasa de una guía que tiene una simetría de revolución en un medio (plasma) que no tiene esta simetría, y la onda se refleja parcialmente. Este segundo punto es un problema, especialmente porque el sistema experimenta una transición cuando el plasma se enciende: antes de la ignición del plasma, el medio (vacío) es homogéneo, pero ya no es así después. Tal transición crea un cambio de impedancia que es difícil de manejar. Los inyectores están generalmente equipados con un dispositivo de adaptación de impedancia, pero tales dispositivos son por lo general manuales y no se proporcionan para una modificación durante el proceso.

Por estas diferentes razones, ha sido necesario desarrollar diferentes formas de antenas adaptadas específicamente para la operación del dispositivo con un sistema magnético alargado.

Para lograr esto, en una primer modalidad, el conductor central tiene un disco concéntrico de mayor diámetro que la abertura de la guía ce ondas para proteger el interior de dicha guía, que está situada lo más cerca posible a la zona de ECR, y está cubierto con una varilla dispuesta en alineación coaxial con el conductor central.

En una segunda modalidad, el conductor central es terminado por una placa alargada a lo largo del eje más largo del circuito magnético, uno de los extremos al menos de dicha placa esta montado para ponerlo en contacto con la superficie de la fuente con el fin de crear una corto-circuito, el ancho de la placa debe ser mayor que la abertura de guía de ondas.

La ancho de la placa es constante a lo largo de toda su longitud, o el ancho de la placa disminuye a medida que la distancia de los conductores centrales aumenta, y con respecto a dicho al menos un lado de dicho conductor.

Basándose en las características subyacentes a la invención, el dispositivo es aplicable en el caso de una cámara de tratamiento que comprende un cuerpo con un circuito de refrigeración, dicho cuerpo que comprende un alojamiento para el montaje del circuito magnético alargado formado de la primera linea de los imanes según la primera polarización y la segunda linea de imanes de acuerdo con una polarización opuesta y que rodean a la primera linea, que rodea las guias de ondas montados en los agujeros formados a través del espesor del cuerpo, las primera y segunda lineas de imanes están conectados en el lado opuesto a la plasma, por una placa ferromagnética, el cuerpo y el sistema magnético se separa del plasma por un escudo no magnético.

Considerando las diferentes formas posibles de las antenas, con el fin de adaptarlas a la operación del sistema magnético alargado: - ya sea el conductor central de cada guia es una varilla cilindrica centrada con respecto al conductor externo insertado en el cuerpo con un buen contacto eléctrico, una ventana dieléctrica se coloca en el interior de la guia debajo de la abertura que se cubre con el disco cubierto con la varilla para ser utilizado como una antena. - o que el conductor central de cada guia es una varilla cilindrica centrada con respecto a los conductores externos insertados en el cuerpo mediante la formación de un buen contacto eléctrico, una ventana dieléctrica se coloca en el interior de la guia debajo de la abertura, que está cubierta con la placa alargada a lo largo del eje de los inyectores, siendo asimétrica con respecto al conductor central para una guia de ondas situado en un extremo redondeado del circuito magnético, estando el alargamiento sólo en la dirección del extremo opuesto, simétricamente con respecto al conductor central para una guia de ondas situada en la parte lineal del circuito magnético, estando provista cada porción alargada con la conexión utilizada como un corto circuito.

La invención se discute en lo sucesivo con más detalle por medio de los dibujos acompañantes, entre los cuales: - La figura 1, es una vista simplificada de la téenica anterior descrita en la patente EP 1075 168.

- La figura 2, es una vista simplificada de la técnica anterior descrita en la patente WO 2008/017304.

- La figura 3, es una vista simplificada de la técnica anterior descrita en la patente DE 19812558.

- La figura 4, es una vista simplificada del principio de la presente invención.

- Las figuras 5A y 5B, muestran posibles formas de realización de la estructura magnética, de acuerdo con la invención.

- La figura 6, muestra una primera forma de antena de acuerdo con la presente invención.

- Las figuras 7A, 7B y 7C, muestran otras formas de antenas según la invención.

- La figura 8, es una vista en perspectiva de una primer modalidad de la presente invención que tiene una sección transversal a nivel de una entrada de microondas.

- La figura 9, es una vista en perspectiva de una segunda modalidad de la presente invención que tiene una sección transversal en el plano de inyectores de microondas y una segunda sección transversal entre dos inyectores perpendicularmente a este plano.

El principio básico de la invención, es decir, el circuito magnético alargado que rodea a algunos inyectores de microondas, se ilustran esquemáticamente en las figuras 4 y 5.

El circuito magnético tiene, en las proximidades de la superficie de la fuente, dos polos de polaridad opuesta para formar una trampa magnética para los electrones. El primer polo forma una primera linea (21) que rodea las guias de inyección (4) de las ondas electromagnéticas y el segundo polo forma una segunda linea (22) que rodea esta primera linea.

Las figuras 5A y 5B, muestran dos formas posibles para el circuito magnético. La primera de ellas (Figura 5A) tiene la ventaja de ser más fácil para formar, pero la zona ECR es tangencial a los inyectores en la parte lineal. La segunda forma (Figura 5B) intenta optimizar el volumen de ECR cerca de los inyectores.

Al establecer la fuerza relativa de los 2 polos de la estructura magnética, es posible influir en el flujo de plasma hacia los sustratos a tratar. Por ejemplo, reforzando el polo externo de circuito (22), se realizarán las tiras de plasma 2 a converger desde la porción lineal en el espacio enfrente de la fuente, lo que permite aumentar la velocidad de tratamiento de la parte en esta ubicación. Esto es útil para disminuir las pérdidas laterales si las paredes de la caja de vacío están cerca. Sin embargo, el polo interior del circuito (21) está reforzado, las tiras de plasma 2 se desplazan lateralmente alejándose entre sí. En ciertos casos, esto puede ser una ventaja tal como, por ejemplo, para un tratamiento de superficie cilindrica para que 2 zonas de tratamiento tangente a la superficie del cilindro por lo tanto puedan así ser creados.

Los inyectores de onda están formados por guias coaxiales que tienen su conductor central que termina en una antena.

La invención proporciona dos formas de optimizar la forma de las antenas.

Los siguientes ejemplos numéricos están dados para una fuente de plasma que comprende guias de ondas coaxiales con conductores externos que tienen diámetros interiores de 17 m y con conductores internos que tienen diámetros externos de 8 mm.

En una primera modalidad, ilustrada en la Figura 6, el conductor central (1) se ensancha primero en un disco (5). Tal disco tiene un diámetro mayor que la abertura de la guia de ondas (1) - (2), que permite proteger el interior de la guia de una deposición posible y para traer la onda lo más cerca posible a la zona de ECR. Su borde es de hecho situado unos pocos milímetros de distancia de la zona de ECR. El disco tiene espesor de unos pocos milímetros, por lo general oscila entre 1 y 5 mm, y forma con la fuente superficial de una ranura de unos pocos milímetros, ventajosamente entre 2 y 5 mm. Este disco está cubierto con una varilla (6) que continúa el conductor central (1). Esta barra tiene una longitud que oscila entre l/8 y l/2, siendo l la longitud de onda de microondas. La longitud exacta depende del diámetro de disco y en la forma de la zona ECR. La antena se optimiza mediante el ajuste de la longitud de esta varilla. Por ejemplo, en una modalidad con un disco que tiene un diámetro de 25 mm, la longitud óptima para la varilla oscila entre 30 y 35 mm para una longitud de onda de 122,4 mm (2,45 GHz). Por lo tanto, a pesar de su simetría de revolución, esta antena genera un buen acoplamiento del campo de microondas para el plasma. La función de la varilla es para que coincida con la impedancia de vacío a la del plasma.

En una segunda modalidad, el conductor central termina en una placa (7) que tiene un grosor de unos pocos milímetros que, esta vez, no tiene simetría de revolución, pero se alarga a lo largo del eje más largo del sistema magnético (Figura 7A-7B). A lo ancho, esta placa se extiende más allá de la apertura de la guía de ondas y termina a pocos milímetros de distancia de la zona de ECR. Su longitud total oscila entre l/4 y l. Mediante el ajuste de esta longitud, es posible optimizar el acoplamiento hacia el plasma. En sus extremos, la placa se pone en contacto con la porción saliente con la superficie de la fuente para crear un cortocircuito, evitando así que se irradien las microondas hacia las placas vecinas. El cortocircuito puede forzar a la onda para crear en este lugar un nodo en el campo eléctrico. La onda se refleja y vuelve al punto de inyección. La distancia entre el punto de inyección y el retorno a la tierra establece la fase de la onda reflejada cuando alcanza el punto de inyección. Mediante la modificación de esta distancia, es posible ajustar esta fase a la de la onda reflejada por el plasma. Una solución "natural" parece ser que cuando la longitud total de la placa es l/2, es decir, 61 m para una frecuencia de 2,45 GHz, para la que la longitud A estacionarias formas de onda entre los 2 extremos. En un caso real, se tiene que sin embargo se ha encontrado que una longitud teórica no es óptima para la eficiencia de plasma y que la duración tiene que ser aumentada en aproximadamente un 10% para obtener resultados satisfactorios.

El ancho de la placa puede seguir siendo el misma a lo largo de toda la longitud de la placa (Figura 7A) o disminuir a medida que la distancia desde el punto de inyección aumenta (Figura 7B). En una realización preferida, la anchura de la placa disminuye hacia su extremo. Por ejemplo, para una placa que es de 25 mm de ancho en su parte media, la anchura sólo será 10 mm en sus extremos.

Para un inyector situado en el interior de una vuelta del circuito magnético, esta segunda forma de la antena se modifica de manera que la placa sólo es alargada en la dirección de salir de la vuelta (Figura 7C). La longitud de esta porción, medida desde el centro de la guia central, a continuación, oscila entre l/8 y l/2. En el lado de giro, la placa tiene la forma de un medio de disco. En una modalidad,-con un medio de disco que tiene un radio de 12.5 mm, la porción alargada mide 34 mm, aún para un l de 122.4 mm (2.45 GHz).

Es posible combinar en una misma fuente de varios tipos de antenas para optimizar el rendimiento general. También es posible combinar dos de las dos soluciones proporcionadas por la invención, tal como por ejemplo la placa alargada cubierta con una varilla.

Se debe hacer referencia a las Figuras 8 y 9, que muestran en vista en sección transversal de dos modalidades de una fuente de plasma que se integra el dispositivo según la invención.

En la Figura 8, la cámara de tratamiento comprende un cuerpo de metal amagnético (10) refrigerado por agua que circula en un circuito de refrigeración (11). Un alojamiento previsto en el cuerpo recibe el circuito magnético. En esta modalidad, el sistema magnético se forma de la primera linea de imanes (21) de una primera polarización (31) y de la segunda linea (22) que rodea la primera linea y que tiene la polarización opuesta (32). En el interior del cuerpo (10), las dos lineas de imán (21) y (22) están conectadas por una placa ferromagnética (23). El cuerpo (10) y el sistema magnético se separan del plasma por un escudo (12). Orificios cilindricos se proporcionan en el cuerpo (10) y la hoja (12) para la inyección de microondas, por medio de varias guias coaxiales que tienen sus conductores externos (2) insertados en el cuerpo de la fuente en un buen contacto eléctrico con los mismos. El conductor central de cada guia aparece en la forma de una varilla cilindrica (1), centrado con respecto al conductor externo y que se extiende más allá del escudo. Una ventana dieléctrica (3) se coloca dentro de la guia a varios centímetros de distancia de la abertura. Esta posición de apoyo garantiza bajas incrustaciones del dieléctrico por cualquier depósito y sobre todo por un depósito conductor que podría impedir el paso de las microondas. El dieléctrico permite crear una tensión entre el interior y el exterior del recinto de tratamiento de vacío. En esta primera modalidad, la abertura de guía de ondas se cubre con un disco (5) que impide el depósito penetre en la guía de ondas y permite tomar las microondas a la zona de ECR. El disco (5) está cubierto con una varilla (6), que permite optimizar el acoplamiento con el plasma.

Así, en una aplicación donde el disco circular tiene un diámetro de 25 m y un espesor de 3 mm, la longitud de la varilla ha sido ajustada entre 16 y 35 mm para una frecuencia de microondas 2.45 GHz y una potencia de 90 W por antena. En cada configuración, se observó la facilidad de ignición. El encendido se considera tan fácil si no requiere ninguna modificación en el nivel de los dispositivos de adaptación de impedancia situados en cada linea de inyección.

Las mediciones de la corriente eléctrica extraída del plasma y recogidas por sustratos colocados a 8 c de distancia de la fuente y llevados a una tensión de 20 Voltios se han llevado a cabo, como se desprende de la siguiente tabla: Aunque la variación de la corriente es baja, debido al hecho de que la adaptación de impedancia se ha optimizado en cada configuración para proporcionar una transferencia óptima de la potencia al plasma, es suficientemente significativa para permitir determinar una longitud óptica situada entre 30 y 35 m en esta configuración.

En la modalidad ilustrada en la Figura 9, el diseño básico de la cámara de tratamiento es el mismo. La diferencia está en las antenas. En esta modalidad, las placas de antena (7a) y (7b) son alargadas a lo largo del eje del inyector. El alargamiento (7a) es asimétrico con respecto al conductor central (1) para una antena que se encuentra en un extremo de la fuente de plasma, en el centro de un retorno del circuito magnético, estando sólo el alargamiento hacia el extremo opuesto. El alargamiento (7b) es simétrico con respecto al conductor central para una antena situada en la porción lineal del circuito magnético. Cada parte alargada esta terminada por porción saliente (8) que provoca un cortocircuito evitando que la antena irradie hacia su vecino. En la presente modalidad, la anchura de la placa disminuye a medida que la distancia de los aumentos de conductor central (1) y hacia el retorno a tierra. Tal configuración primero ha sido probado con antenas para los que la distancia entre el retorno a tierra y el conductor central de la guia de ondas está entre 31 y 32 mm, y por lo tanto cerca de l/4 (30.6 mm). Esto ha proporcionado un aumento de la corriente en aproximadamente un 3% con respecto a la primera modalidad. Cuando esta distancia es llevada a 34 mm, la corriente aumenta por un 3% adicional, y por lo tanto en un 6% con respecto a la primera modalidad. En ambos casos, la placa tiene un espesor de 3 mm.

Las ventajas aparecerán a partir de la divulgación.

Claims (11)

REIVINDICACIONES

1.- Un dispositivo para generar un plasma de extensión significativa a lo largo de un eje por resonancia ciclotrónica de electrones ECR de un medio gaseoso y que comprende al menos dos guias de ondas coaxiales (4) formadas cada una de un conductor central (1) y de un conductor externo (2) para llevar microondas en una cámara de tratamiento, caracterizado porque al menos las dos guias de ondas electromagnéticas de inyección (4) se combinan con un circuito magnético (21-22) alargado en una dirección, rodeando dicho circuito magnético a las guias de ondas (4) mediante la creación de un campo magnético capaz de conseguir una condición de ECR cerca de dichas guias de ondas.

2.- El dispositivo según la reivindicación 1, caracterizado porque el circuito magnético tiene, cerca de las guías de ondas, dos polos (21-22) de polaridades opuestas (31-32) para formar una trampa magnética para los electrones.

3.- El dispositivo según la reivindicación 2, caracterizado porque el primer polo (21) forma una primera línea que rodea la guía de ondas (s) (4), mientras que el segundo polo (22) forma una segunda línea, que rodea dicha primera línea (21).

4.- El dispositivo según la reivindicación 1, caracterizado porque el conductor central (1) de cada guía de ondas esta provisto con accesorios capaces de proteger la apertura de dicha guía y de comportarse como antenas.

5.- El dispositivo según la reivindicación 4, caracterizado que el conductor central (1) tiene un disco concéntrico (5) de mayor diámetro que la abertura de la guia de ondas (4) para proteger el interior de dicha guia, estando situada lo más cerca posible a la zona de ECR, y estando cubierta con una varilla (6) que esta dispuesta en alineación coaxial con el conductor central (1).

6.- El dispositivo según la reivindicación 4, caracterizado que el conductor central esta terminado por una placa (7) alargada a lo largo del eje más largo del circuito magnético, estando provisto al menos uno de los extremos de dicha placa con porciones salientes (8) para estar en contacto con la superficie de la fuente con el fin de crear un cortocircuito, siendo la anchura de la placa (7) mayor que la abertura de la guía de ondas (4).

7.- El dispositivo según la reivindicación 6, caracterizado porque la anchura de la placa (7) es constante a lo largo de toda su longitud.

8.- El dispositivo según la reivindicación 6, caracterizado porque la anchura de la placa (7) disminuye a medida que la distancia del conductor central (1) se aumenta, y con respecto a dicho al menos un lado de dicho conductor (1).

9.- El dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 1-8, caracterizado porque la cámara de tratamiento comprende un cuerpo (10) con un circuito de refrigeración (11), comprendiendo dicho cuerpo (10) un alojamiento para el montaje del circuito magnético alargado formado de la primera línea de los imanes (21) de acuerdo con la primera polarización y la segunda línea de imanes (22) de acuerdo con una polarización opuesta y que rodea la primera línea (21), la cual rodea las guías de ondas (4) montadas en agujeros formados a través del espesor del cuerpo (10), estando conectados las primera y segunda líneas de imanes por una placa ferromagnética (23), separándose el cuerpo y el sistema magnético del plasma mediante un escudo (12).

10.- El dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 1-9, caracterizado porque el conductor central (1) es una varilla cilindrica centrada con respecto al conductor externo insertado en el cuerpo (10) con un buen contacto eléctrico, estando colocada una ventana dieléctrica (3) en el interior de la guía (4) debajo de la abertura que se cubre con el disco cubierto con la varilla para ser utilizado como una antena.

11.- El dispositivo según cualquiera de las reivindicaciones 1-9, caracterizado porque el conductor central es una varilla cilindrica centrada con respecto al conductor externo insertado en el cuerpo (10) mediante la formación de un buen contacto eléctrico, estando colocada una ventana dieléctrica (3) en el interior de la guía (4) debajo de la abertura, que está cubierta con la placa alargada (7) a lo largo del eje de los inyectores, siendo dicho alargamiento asimétrico con respecto al conductor central para una guía de ondas situada en un extremo redondeado del circuito magnético, siendo el alargamiento sólo en la dirección del extremo opuesto, simétrico con respecto al conductor central para una guía de ondas situada en la parte lineal del circuito magnético, estando provista cada porción alargada con una porción saliente que se utiliza como un corto circuito. RESUMEN DE LA INVENCION El dispositivo incluye al menos dos guias de ondas coaxial (4) formadas cada una de un conductor central (1) y de un conductor externo (2) para llevar microondas en una cámara de tratamiento, caracterizado porque al menos las dos guias de inyección de ondas electromagnéticas (4) se combinan con un circuito magnético (21-22) alargado en una dirección, dicho circuito magnético rodea a las guias de ondas mediante la creación de un campo magnético capaz de conseguir una condición de ECR cerca de dichas guias de ondas.