RU2012141139A - Источник для нанесения покрытия и способ его изготовления - Google Patents
Источник для нанесения покрытия и способ его изготовления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012141139A RU2012141139A RU2012141139/02A RU2012141139A RU2012141139A RU 2012141139 A RU2012141139 A RU 2012141139A RU 2012141139/02 A RU2012141139/02 A RU 2012141139/02A RU 2012141139 A RU2012141139 A RU 2012141139A RU 2012141139 A RU2012141139 A RU 2012141139A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- source
- target
- region
- ferromagnetic
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F7/00—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
- B22F7/06—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F7/00—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
- B22F7/06—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
- B22F7/08—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools with one or more parts not made from powder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3426—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3426—Material
- H01J37/3429—Plural materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
1. Источник (1) для нанесения покрытия физическим осаждением из паровой фазы, включающий по меньшей мере один компонент (2, 7, 8), изготовленный из по меньшей мере одного порошкообразного исходного материала в процессе изготовления способом порошковой металлургии, и по меньшей мере одну ферромагнитную область (5a, 5b, 6), встроенную в компонент, причем по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) введена в компонент (2, 7, 8) и неподвижно соединена с компонентом в процессе изготовления способом порошковой металлургии.2. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) включает по меньшей мере одну область (6), изготовленную из ферромагнитного материала, введенного в порошковой форме в процессе изготовления способом порошковой металлургии.3. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) включает по меньшей мере одну область с постоянной намагниченностью.4. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) включает по меньшей мере одно ферромагнитное тело (5а, 5b), введенное в процессе изготовления способом порошковой металлургии.5. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия включает мишень (2), и по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) расположена в мишени.6. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия включает мишень (2) и подкладку (7), которая неподвижно соединена с мишенью для теплового взаимодействия с охлаждаемой под�
Claims (13)
1. Источник (1) для нанесения покрытия физическим осаждением из паровой фазы, включающий по меньшей мере один компонент (2, 7, 8), изготовленный из по меньшей мере одного порошкообразного исходного материала в процессе изготовления способом порошковой металлургии, и по меньшей мере одну ферромагнитную область (5a, 5b, 6), встроенную в компонент, причем по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) введена в компонент (2, 7, 8) и неподвижно соединена с компонентом в процессе изготовления способом порошковой металлургии.
2. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) включает по меньшей мере одну область (6), изготовленную из ферромагнитного материала, введенного в порошковой форме в процессе изготовления способом порошковой металлургии.
3. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) включает по меньшей мере одну область с постоянной намагниченностью.
4. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) включает по меньшей мере одно ферромагнитное тело (5а, 5b), введенное в процессе изготовления способом порошковой металлургии.
5. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия включает мишень (2), и по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) расположена в мишени.
6. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия включает мишень (2) и подкладку (7), которая неподвижно соединена с мишенью для теплового взаимодействия с охлаждаемой подложкой установки для нанесения покрытия, и по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) расположена в мишени (2) и/или подкладке (7).
7. Источник для нанесения покрытия по п.1, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия включает мишень (2) и крепление (8), которое соединено с мишенью с возможностью съема, для соединения мишени с охлаждаемой подложкой установки для нанесения покрытия, и по меньшей мере одна ферромагнитная область (5a, 5b, 6) расположена в креплении (8).
8. Источник для нанесения покрытия по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия представляет собой источник для нанесения покрытия методом магнетронного распыления.
9. Источник для нанесения покрытия по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что источник (1) для нанесения покрытия представляет собой источник для нанесения покрытия методом катодно-дугового осаждения.
10. Способ изготовления источника (1) для нанесения покрытия физическим осаждением из паровой фазы, включающий следующие стадии:
помещение в пресс-форму по меньшей мере одного порошкообразного исходного материала для по меньшей мере одного компонента (2, 7, 8) источника для нанесения покрытия,
введение в пресс-форму ферромагнитного порошка (6) и/или по меньшей мере одного ферромагнитного тела (5a, 5b) таким образом, чтобы он(о) был(о) расположен(о) в по меньшей мере одной области порошкообразного исходного материала, и
уплотнение образованного таким образом компонента.
11. Способ по п.10, отличающийся тем, что введение выполняют по меньшей мере в одной области исходного материала, которая образует мишень (2) в источнике (1) для нанесения покрытия.
12. Способ по п.10 или 11, отличающийся тем, что введение выполняют по меньшей мере в одной области исходного материала, которая в источнике (1) для нанесения покрытия образует подкладку (7), неподвижно соединенную с мишенью (2), для теплового взаимодействия с охлаждаемой подложкой установки для нанесения покрытия.
13. Способ по п.10 или 11, отличающийся тем, что введение выполняют в области исходного материала, которая в источнике (1) для нанесения покрытия образует крепление (8), соединенное с мишенью (2) с возможностью съема, для соединения мишени (2) с охлаждаемой подложкой установки для нанесения покрытия.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ATGM239/2010 | 2010-04-14 | ||
| AT0023910U AT12021U1 (de) | 2010-04-14 | 2010-04-14 | Beschichtungsquelle und verfahren zu deren herstellung |
| PCT/AT2011/000175 WO2011127504A1 (de) | 2010-04-14 | 2011-04-12 | Beschichtungsquelle und verfahren zu deren herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012141139A true RU2012141139A (ru) | 2014-05-20 |
| RU2564642C2 RU2564642C2 (ru) | 2015-10-10 |
Family
ID=44257246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012141139/02A RU2564642C2 (ru) | 2010-04-14 | 2011-04-12 | Источник для нанесения покрытия и способ его изготовления |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130199929A1 (ru) |
| EP (2) | EP2754729B1 (ru) |
| JP (2) | JP5596850B2 (ru) |
| KR (1) | KR20130079334A (ru) |
| CN (1) | CN102939403B (ru) |
| AT (1) | AT12021U1 (ru) |
| CA (1) | CA2793736C (ru) |
| IL (1) | IL222377A (ru) |
| RU (1) | RU2564642C2 (ru) |
| WO (1) | WO2011127504A1 (ru) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102859027A (zh) * | 2010-05-04 | 2013-01-02 | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) | 用于借助陶瓷靶进行电弧气相沉积的方法 |
| AT13830U1 (de) | 2013-04-22 | 2014-09-15 | Plansee Se | Lichtbogenverdampfungs-Beschichtungsquelle |
| US9992917B2 (en) | 2014-03-10 | 2018-06-05 | Vulcan GMS | 3-D printing method for producing tungsten-based shielding parts |
| JP6861160B2 (ja) * | 2015-02-13 | 2021-04-21 | エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト，プフェフィコーンＯｅｒｌｉｋｏｎ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ Ａｇ， Ｐｆａｅｆｆｉｋｏｎ | 回転対称処理対象物を保持するための磁気手段を含む固定具 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60102248U (ja) * | 1983-12-15 | 1985-07-12 | 日本真空技術株式会社 | スパツタリング用タ−ゲツト装置 |
| DE4017111C2 (de) * | 1990-05-28 | 1998-01-29 | Hauzer Holding | Lichtbogen-Magnetron-Vorrichtung |
| US5298136A (en) * | 1987-08-18 | 1994-03-29 | Regents Of The University Of Minnesota | Steered arc coating with thick targets |
| JPH0480304A (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類金属焼結体の製造方法 |
| JPH04354868A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-09 | Vacuum Metallurgical Co Ltd | マグネトロン型スパッタ装置用ターゲット |
| JPH05222524A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-08-31 | Toshiba Corp | スパッタ装置 |
| US5286361A (en) * | 1992-10-19 | 1994-02-15 | Regents Of The University Of California | Magnetically attached sputter targets |
| DE4329155A1 (de) | 1993-08-30 | 1995-03-02 | Bloesch W Ag | Magnetfeldkathode |
| JPH07113165A (ja) * | 1993-10-14 | 1995-05-02 | Mitsubishi Materials Corp | 成膜速度の速いマグネトロンスパッタリング用焼結ターゲット材 |
| JP2000328240A (ja) * | 1999-05-21 | 2000-11-28 | Mitsubishi Materials Corp | 光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
| JP2001020066A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-23 | Toshiba Corp | マグネトロンスパッタ用ターゲット |
| AT4240U1 (de) * | 2000-11-20 | 2001-04-25 | Plansee Ag | Verfahren zur herstellung einer verdampfungsquelle |
| US20020139662A1 (en) * | 2001-02-21 | 2002-10-03 | Lee Brent W. | Thin-film deposition of low conductivity targets using cathodic ARC plasma process |
| RU2271409C2 (ru) * | 2001-12-06 | 2006-03-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный космический научно-производственный центр им. М.В. Хруничева" | Установка для нанесения покрытий в вакууме |
| SE0203851D0 (sv) * | 2002-12-23 | 2002-12-23 | Hoeganaes Ab | Iron-Based Powder |
| US20070007130A1 (en) * | 2005-07-11 | 2007-01-11 | Heraeus, Inc. | Enhanced magnetron sputtering target |
| EP2119808B1 (en) * | 2007-02-09 | 2014-09-17 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Target formed of sintering-resistant material of high-melting point metal alloy, high-melting point metal silicide, high-melting point metal carbide, high-melting point metal nitride, or high-melting point metal boride, process for producing the target, assembly of the sputtering target-backing plate, and process for producing the same |
| DE102007032443A1 (de) * | 2007-07-10 | 2009-01-15 | Voith Patent Gmbh | Hybridlager und Verfahren zu dessen Herstellung |
-
2010
- 2010-04-14 AT AT0023910U patent/AT12021U1/de not_active IP Right Cessation
-
2011
- 2011-04-12 EP EP14001267.5A patent/EP2754729B1/de active Active
- 2011-04-12 WO PCT/AT2011/000175 patent/WO2011127504A1/de active Application Filing
- 2011-04-12 US US13/641,350 patent/US20130199929A1/en not_active Abandoned
- 2011-04-12 EP EP11722273.7A patent/EP2558608B1/de active Active
- 2011-04-12 CA CA2793736A patent/CA2793736C/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-04-12 JP JP2013504053A patent/JP5596850B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-04-12 CN CN201180019261.2A patent/CN102939403B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-04-12 KR KR1020127026654A patent/KR20130079334A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-04-12 RU RU2012141139/02A patent/RU2564642C2/ru not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-10-11 IL IL222377A patent/IL222377A/en active IP Right Grant
-
2014
- 2014-07-28 JP JP2014153044A patent/JP5997212B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL222377A0 (en) | 2012-12-31 |
| JP2014237894A (ja) | 2014-12-18 |
| EP2754729A3 (de) | 2014-08-13 |
| IL222377A (en) | 2017-06-29 |
| JP5997212B2 (ja) | 2016-09-28 |
| EP2558608A1 (de) | 2013-02-20 |
| EP2754729B1 (de) | 2015-06-03 |
| CA2793736A1 (en) | 2011-10-20 |
| EP2558608B1 (de) | 2014-06-18 |
| CN102939403B (zh) | 2015-02-11 |
| EP2754729A2 (de) | 2014-07-16 |
| JP5596850B2 (ja) | 2014-09-24 |
| RU2564642C2 (ru) | 2015-10-10 |
| CN102939403A (zh) | 2013-02-20 |
| KR20130079334A (ko) | 2013-07-10 |
| WO2011127504A1 (de) | 2011-10-20 |
| JP2013527315A (ja) | 2013-06-27 |
| CA2793736C (en) | 2015-01-06 |
| US20130199929A1 (en) | 2013-08-08 |
| AT12021U1 (de) | 2011-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY166492A (en) | Sputtering target for forming magnetic recording film and process for producing same | |
| MY149437A (en) | Ferromagnetic material sputtering target | |
| RU2012141139A (ru) | Источник для нанесения покрытия и способ его изготовления | |
| PL2265744T3 (pl) | Sposób wytwarzania warstw tlenków metali o zdefiniowanej strukturze za pomocą odparowywania łukowego | |
| TW200732490A (en) | Sputtering with cooled target | |
| CA2868596C (en) | Method for manufacturing metal powder | |
| TW200641166A (en) | Components comprising metallic material, physical vapor deposition targets, thin films, and methods of forming metallic components | |
| CL2012003442A1 (es) | Metodo para depositar una capa de metal con particulas luminescentes incorporadas a un sustrato de metal, que comprende mezclar dichas particulas con un material metalico para producir una solucion de galvanizado, insertar el sustrato en dicha solucion y realizar un proceso de galvanizado; sutrato de metal; y metodo para autenticar un objeto metalico. | |
| SG165295A1 (en) | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating | |
| WO2009014394A3 (en) | Method for depositing ceramic thin film by sputtering using non-conductive target | |
| MY146996A (en) | Sputtering target and process for producing same | |
| SG135050A1 (en) | Targets with high pass-through-flux magnetic material sputtering, method of manufacture and hard disk obtainable thereof | |
| WO2008078502A1 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| MY193979A (en) | Deposition apparatus and physical vapor deposition chamber | |
| TW200943335A (en) | Method for the production of permanent magnets and a permanent magnet | |
| EA200900182A1 (ru) | Устройство для нанесения покрытий и способ нанесения покрытий | |
| GB0806259D0 (en) | Furnace lining | |
| TW200716777A (en) | Real-time monitoring and controlling sputter target erosion | |
| PL2294241T3 (pl) | Sposób wytwarzania tarczy tlenkowej do rozpylania jonowego, zawierającej pierwszą i drugą fazę | |
| MX2011005650A (es) | Anclaje refractario para fabrica de cemento. | |
| MY181967A (en) | Decorative hipims hard-material layer | |
| MX2013012200A (es) | Metodo de pulverizacion catódica por magnetron de impulso de alta potencia que proporciona la ionizacion mejorada de las particulas obtenidas por pulverización catódica y aparato para su implementacion. | |
| HRP20020100A2 (en) | Method for producing an evaporation source | |
| MY150439A (en) | Method for production of water-reactive a1 film, and structural member for film-forming chamber | |
| RU2009124870A (ru) | Способ вакуумного ионно-плазменного азотирования изделий из стали |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190413 |