RU2012103469A - Cистема и способ определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре - Google Patents

Cистема и способ определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре Download PDF

Info

Publication number
RU2012103469A
RU2012103469A RU2012103469/28A RU2012103469A RU2012103469A RU 2012103469 A RU2012103469 A RU 2012103469A RU 2012103469/28 A RU2012103469/28 A RU 2012103469/28A RU 2012103469 A RU2012103469 A RU 2012103469A RU 2012103469 A RU2012103469 A RU 2012103469A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
multilayer structure
electrode
sample
contact
temperature
Prior art date
Application number
RU2012103469/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2589526C2 (ru
Inventor
Атану САХА
Кришнамурти АНАНД
Хари Надатур СЕШАДРИ
Картик Вилапаккам ГУРИШАНКАР
Филиппо КАППУЧЧИНИ
Original Assignee
Дженерал Электрик Компани
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Дженерал Электрик Компани filed Critical Дженерал Электрик Компани
Publication of RU2012103469A publication Critical patent/RU2012103469A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2589526C2 publication Critical patent/RU2589526C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/02Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B7/06Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/02Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B7/06Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness
    • G01B7/10Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness using magnetic means, e.g. by measuring change of reluctance
    • G01B7/105Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness using magnetic means, e.g. by measuring change of reluctance for measuring thickness of coating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Abstract

1. Система для определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре, содержащаяэлемент для контакта с образцом, содержащий первый электрод, имеющий первую поверхность контакта с образцом, выполненную с возможностью размещения в контакте с первой поверхностью многослойной структуры;второй электрод, имеющий вторую поверхность контакта с образцом, выполненную с возможностью размещения в контакте со второй поверхностью многослойной структуры, при этом вторая поверхность находится с противоположной стороны от первой поверхности;устройство управления давлением, выполненное с возможностью прижатия указанного первого электрода к многослойной структуре по существу с заранее заданным испытательным давлением, при этом испытательное давление является давлением, при котором электрический импеданс образца достигает эталонного импеданса, соответствующего образцу, иизмерительное устройство, электрически соединенное с указанным первым электродом и указанным вторым электродом и выполненное с возможностью измерения электрического импеданса между указанным первым электродом и указанным вторым электродом.2. Система по п.1, в которой указанное измерительное устройство также выполнено с возможностью определения толщины исследуемого слоя на основе, по меньшей мере, частично измеренного электрического импеданса.3. Система по п.2, в которой указанное измерительное устройство также выполнено с возможностью определения толщины исследуемого слоя на основе заранее заданного соотношения между электрическим импедансом и толщиной исследуемого слоя, которое соответствует многослойной структуре.4. Система п�

Claims (20)

1. Система для определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре, содержащая
элемент для контакта с образцом, содержащий первый электрод, имеющий первую поверхность контакта с образцом, выполненную с возможностью размещения в контакте с первой поверхностью многослойной структуры;
второй электрод, имеющий вторую поверхность контакта с образцом, выполненную с возможностью размещения в контакте со второй поверхностью многослойной структуры, при этом вторая поверхность находится с противоположной стороны от первой поверхности;
устройство управления давлением, выполненное с возможностью прижатия указанного первого электрода к многослойной структуре по существу с заранее заданным испытательным давлением, при этом испытательное давление является давлением, при котором электрический импеданс образца достигает эталонного импеданса, соответствующего образцу, и
измерительное устройство, электрически соединенное с указанным первым электродом и указанным вторым электродом и выполненное с возможностью измерения электрического импеданса между указанным первым электродом и указанным вторым электродом.
2. Система по п.1, в которой указанное измерительное устройство также выполнено с возможностью определения толщины исследуемого слоя на основе, по меньшей мере, частично измеренного электрического импеданса.
3. Система по п.2, в которой указанное измерительное устройство также выполнено с возможностью определения толщины исследуемого слоя на основе заранее заданного соотношения между электрическим импедансом и толщиной исследуемого слоя, которое соответствует многослойной структуре.
4. Система по п.1, также содержащая
устройство приложения силы, соединенное с указанным элементом для контакта с образцом и связанное с указанным устройством управления давлением, и
датчик давления, связанный с указанным устройством управления давлением и выполненный с возможностью измерения силы, приложенной к многослойной структуре посредством указанного устройства приложения силы, при этом указанное устройство управления давлением выполнено с возможностью прижатия указанного первого электрода к многослойной структуре с заранее заданным испытательным давлением на основе, по меньшей мере, частично измеренной силы и площади контакта между указанной первой поверхностью контакта с образцом и многослойной структурой.
5. Система по п.1, в которой указанный элемент для контакта с образцом также содержит один или более элементов для регулирования температуры, выполненных с возможностью регулирования температуры многослойной структуры.
6. Система по п.5, также содержащая устройство управления температурой, соединенное с указанными элементами для регулирования температуры и выполненное с возможностью регулирования температуры многослойной структуры до заранее заданной испытательной температуры посредством указанных элементов для регулирования температуры.
7. Система по п.5, в которой указанный элемент для контакта с образцом является первым элементом для контакта с образцом, включающим множество первых элементов для регулирования температуры, причем указанная система также содержит второй элемент для контакта с образцом, включающий указанный второй электрод и множество вторых элементов для регулирования температуры.
8. Система по п.1, в которой указанное измерительное устройство выполнено с возможностью измерения электрического импеданса между указанным первым электродом и указанным вторым электродом в заранее заданном частотном диапазоне.
9. Устройство для определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре, включающее элемент для контакта с образцом, содержащий электрод, имеющий поверхность контакта с образцом и поверхность приложения силы на противоположной стороне от указанной поверхности контакта с образцом, при этом поверхность контакта с образцом выполнена с возможностью размещения в контакте с поверхностью многослойной структуры, устройство управления температурой, выполненное с возможностью регулирования температуры многослойной структуры, и устройство приложения силы, соединенное с указанным элементом для контакта с образцом и выполненное с возможностью приложения силы к указанной поверхности приложения силы указанного электрода посредством указанного элемента для контакта с образцом.
10. Устройство по п.9, в котором указанная поверхность контакта с образцом имеет форму, соответствующую форме поверхности многослойной структуры.
11. Устройство по п.9, в котором указанный элемент для регулирования температуры содержит электронагревательный элемент.
12. Устройство по п.9, в котором указанный элемент для регулирования температуры содержит канал, выполненный с возможностью содержания в нем жидкости.
13. Устройство по п.9, также содержащее теплопроводный слой между указанным элементом для регулирования температуры и указанным электродом.
14. Способ определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре, включающий размещение первого электрода в контакте с первой поверхностью многослойной структуры; размещение второго электрода в контакте со второй поверхностью многослойной структуры, при этом вторая поверхность находится по существу на противоположной стороне от первой поверхности; прижатие первого электрода к многослойной структуре с заранее заданным испытательным давлением; регулирование температуры многослойной структуры до заранее заданной испытательной температуры и измерение электрического импеданса между первым электродом и вторым электродом.
15. Способ по п.14, также включающий определение толщины исследуемого слоя в многослойной структуре на основе, по меньшей мере, частично измеренного электрического импеданса.
16. Способ по п.14, в котором определение толщины исследуемого слоя включает определение толщины слоя термически выращенного оксида между основой и слоем покрытия, создающего тепловой барьер.
17. Способ по п.14, также включающий определение испытательной температуры как температуры, при которой электрический импеданс между первым электродом и вторым электродом изменяется в основном в зависимости от толщины исследуемого слоя.
18. Способ по п.14, в котором регулирование температуры многослойной структуры включает нагревание многослойной структуры.
19. Способ по п.14, в котором регулирование температуры многослойной структуры включает охлаждение многослойной структуры.
20. Способ по п.14, в котором регулирование температуры многослойной структуры включает регулирование температуры на первой поверхности, причем указанный способ также включает изолирование второй поверхности.
RU2012103469/28A 2011-02-04 2012-02-02 Система и способ определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре RU2589526C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/021,328 US8692564B2 (en) 2011-02-04 2011-02-04 System and method for use in determining the thickness of a layer of interest in a multi-layer structure
US13/021,328 2011-02-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012103469A true RU2012103469A (ru) 2013-08-10
RU2589526C2 RU2589526C2 (ru) 2016-07-10

Family

ID=45655366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012103469/28A RU2589526C2 (ru) 2011-02-04 2012-02-02 Система и способ определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8692564B2 (ru)
EP (1) EP2485042B1 (ru)
JP (1) JP6188117B2 (ru)
KR (1) KR101899154B1 (ru)
CN (1) CN102628668B (ru)
AU (1) AU2012200547B2 (ru)
CA (1) CA2765640C (ru)
IN (1) IN2012DE00181A (ru)
RU (1) RU2589526C2 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104034295A (zh) * 2014-06-05 2014-09-10 格力电器(武汉)有限公司 材料厚度检测设备及其使用方法
JP6176220B2 (ja) * 2014-10-14 2017-08-09 トヨタ自動車株式会社 検査装置
TWI636233B (zh) * 2014-12-12 2018-09-21 美商通用電機股份有限公司 用於測量物件厚度的方法及裝置
CN107430160A (zh) * 2015-04-09 2017-12-01 株式会社村田制作所 电子元器件的电气特性测定方法以及电气特性测定装置
DE102016117881A1 (de) 2016-09-22 2018-03-22 Thyssenkrupp Ag Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Bestimmung der Dicke einer Kernschicht eines Sandwichblechs
KR20200005466A (ko) * 2018-07-06 2020-01-15 주식회사 엘지화학 전도성 물질의 비표면적 측정 방법

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4310389A (en) * 1980-06-16 1982-01-12 Chrysler Corporation Method for simultaneous determination of thickness and electrochemical potential in multilayer plated deposits
JPS58166202U (ja) * 1982-04-30 1983-11-05 東洋電機製造株式会社 電気駆動車両の制御装置
SU1185066A1 (ru) * 1984-05-22 1985-10-15 Московский Ордена Октябрьской Революции И Ордена Трудового Красного Знамени Институт Нефтехимической И Газовой Промышленности Им.И.М.Губкина Способ определени толщины многослойных электропроводных покрытий
SU1572170A1 (ru) * 1987-04-21 1992-07-30 Предприятие П/Я В-8769 Способ контрол толщины диэлектрической пленки на электропровод щей подложке
HU199020B (en) * 1987-05-04 1989-12-28 Magyar Tudomanyos Akademia Method and apparatus for measuring the layer thickness of semiconductor layer structures
JPH02275349A (ja) * 1989-04-15 1990-11-09 Nok Corp 加硫接着評価方法
JP3306087B2 (ja) * 1992-02-22 2002-07-24 アジレント・テクノロジー株式会社 体積・表面抵抗率測定装置
JPH07198642A (ja) * 1993-12-28 1995-08-01 Bridgestone Corp ゴム組成物の電気抵抗測定機能を備える加硫特性試験機
RU2194243C2 (ru) * 1995-12-22 2002-12-10 Сименс Акциенгезелльшафт Способ и устройство для определения толщины электрически проводящего слоя
JPH1019948A (ja) * 1996-06-28 1998-01-23 Sekisui Chem Co Ltd 微粒子導電抵抗測定器用圧子及び試料台
JP3658504B2 (ja) * 1998-07-09 2005-06-08 株式会社日立製作所 表面層厚さ測定装置
US6208146B1 (en) * 1999-02-08 2001-03-27 General Motors Corporation Method and apparatus for measuring contact resistance for spot welding simulations
US6388452B1 (en) * 2000-04-20 2002-05-14 Hewlett-Packard Company Device for sensing media thickness using capacitance measurements
JP4840952B2 (ja) * 2000-09-19 2011-12-21 株式会社フィジオン 生体電気インピーダンス計測方法及び計測装置、並びに該計測装置を用いた健康指針管理アドバイス装置
US6512379B2 (en) 2001-02-05 2003-01-28 Siemens Westinghouse Power Corporation Condition monitoring of turbine blades and vanes in service
US6730918B2 (en) 2001-12-20 2004-05-04 General Electric Company Apparatus for determining past-service conditions and remaining life of thermal barrier coatings and components having such coatings
US7582359B2 (en) 2002-09-23 2009-09-01 Siemens Energy, Inc. Apparatus and method of monitoring operating parameters of a gas turbine
JP2004333311A (ja) * 2003-05-08 2004-11-25 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 材料物性の高電圧測定方法とその高電圧測定装置
EP1564537A1 (de) 2004-02-17 2005-08-17 Siemens Aktiengesellschaft Zerstörungfreie Überwachung mikrostruktureller Veränderungen eines Bauteils ( Schichtsystem, Turbinenschaufeln, Brennkammerauskleidung )
US20050274611A1 (en) * 2004-05-25 2005-12-15 Schlichting Kevin W Probes for electrochemical impedance spectroscopy
CN2733368Y (zh) 2004-06-10 2005-10-12 河南黄河旋风股份有限公司 膜状电阻或片状电阻精密测量装置
JP2006071576A (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Hiroshima Univ 金属材料の高温酸化モニタリング方法、モニタリング装置、モニタリングプログラムおよびモニタリングプログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体
KR20070044647A (ko) * 2005-10-25 2007-04-30 현대자동차주식회사 스폿용접 비파괴 검사장치
CN101533046A (zh) * 2008-03-14 2009-09-16 宝山钢铁股份有限公司 薄板点焊接触电阻的测量方法
US8106651B2 (en) * 2008-04-17 2012-01-31 Novellus Systems, Inc. Methods and apparatuses for determining thickness of a conductive layer
CN201218825Y (zh) * 2008-06-06 2009-04-08 宝山钢铁股份有限公司 接触电阻测量装置
KR101064658B1 (ko) * 2009-10-26 2011-09-16 한국지질자원연구원 상대함수율에 따른 시편의 전기비저항 계측방법
CN101833039B (zh) * 2010-04-30 2012-08-29 河海大学常州校区 接触电阻测量系统的加压装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP2485042B1 (en) 2016-11-23
CA2765640A1 (en) 2012-08-04
RU2589526C2 (ru) 2016-07-10
AU2012200547B2 (en) 2015-05-07
JP2012163557A (ja) 2012-08-30
CN102628668B (zh) 2017-03-01
US20120200304A1 (en) 2012-08-09
AU2012200547A1 (en) 2012-08-23
KR101899154B1 (ko) 2018-09-14
KR20120090816A (ko) 2012-08-17
EP2485042A1 (en) 2012-08-08
IN2012DE00181A (ru) 2015-08-21
CN102628668A (zh) 2012-08-08
US8692564B2 (en) 2014-04-08
CA2765640C (en) 2020-01-14
JP6188117B2 (ja) 2017-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012103469A (ru) Cистема и способ определения толщины исследуемого слоя в многослойной структуре
US10631368B2 (en) Micro-electromechanical temperature control system with thermal reservoir
CN102297877B (zh) 一种薄膜热电性能参数的测量装置和方法
JP5943085B2 (ja) ガスクロマトグラフ装置
EP2339334A3 (en) Thermal gas sensor
JP2005040784A5 (ru)
IN2014DN05780A (ru)
GB201204037D0 (en) Temperature assessment
WO2012078186A3 (en) System for verifying temperature measurement
JP2012163557A5 (ru)
JP2016521857A (ja) 温度検出手段及び温度検出手段を含むバイオリアクタシステム
KR20110012750A (ko) 열전도계수 측정장치
CN104502400A (zh) 一种隔热材料高温热导率平面热源测试系统及方法
CN108918976B (zh) 一种多通道高温介电温谱测试装置
WO2006005332A3 (de) Festelektrolyt-gassenor mit heizelement
RU2012100470A (ru) Способ определения коэффициента эффективности сверхтонких теплоизоляционных покрытий
JP2008002896A5 (ru)
WO2012157937A3 (ko) 써미스터를 이용한 온도 측정 방법
CN205003246U (zh) 可变温测量薄膜电击穿性能的电极装置
RU51229U1 (ru) Устройство для контроля удельного объемного электрического сопротивления композиционных электропроводящих материалов
RU148273U1 (ru) Устройство для контроля теплопроводности пластин из алюмонитридной керамики
TW200627001A (en) Method of detecting liquid crystal array and equipment thereof
KR20190010705A (ko) 초박형 열 시트의 열전도도 측정 장치 및 방법
RU2006100448A (ru) Способ комплексного анализа параметров живых клеток, устройство для его осуществления и его вариант
KR20180130835A (ko) 초박형 열 시트의 열전도도 측정 장치 및 방법