RU2008145741A - Устройство и способ электроосаждения для покрытия пеноматериала - Google Patents

Устройство и способ электроосаждения для покрытия пеноматериала Download PDF

Info

Publication number
RU2008145741A
RU2008145741A RU2008145741/02A RU2008145741A RU2008145741A RU 2008145741 A RU2008145741 A RU 2008145741A RU 2008145741/02 A RU2008145741/02 A RU 2008145741/02A RU 2008145741 A RU2008145741 A RU 2008145741A RU 2008145741 A RU2008145741 A RU 2008145741A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
anode
cathode
coating
foam
foam according
Prior art date
Application number
RU2008145741/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2400572C2 (ru
Inventor
Виктор Александр ЭТТЕЛЬ (CA)
Виктор Александр ЭТТЕЛЬ
Original Assignee
Вейл Инко Лимитед (Ca)
Вейл Инко Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Вейл Инко Лимитед (Ca), Вейл Инко Лимитед filed Critical Вейл Инко Лимитед (Ca)
Publication of RU2008145741A publication Critical patent/RU2008145741A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2400572C2 publication Critical patent/RU2400572C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06—Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614—Strips or foils
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54—Electroplating of non-metallic surfaces
    • C25D5/56—Electroplating of non-metallic surfaces of plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/08—Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/008—Current shielding devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/04—Electroplating with moving electrodes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06—Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614—Strips or foils
    • C25D7/0642—Anodes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

1. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала, содержащее резервуар, анод и катод, причем анод и катод размешены в резервуаре, при этом анод включает, по меньшей мере, один металл для нанесения покрытия на катод, катод включает полимерный пеноматериал, содержащий электропроводящий материал, причем катод ориентирован под углом от около 1 до около 45° относительно вертикали. ! 2. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором катодом является непрерывная полоса пеноматериала, которая посредством одного или более направляющих устройств подается в резервуар, пропускается мимо анода и выводится из резервуара. ! 3. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, дополнительно содержащее второй анод, при этом пеноматериал помещен между первым и вторым анодами. ! 4. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод и катод являются, по существу, параллельными. ! 5. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод ориентирован, по существу, вертикально в резервуаре. ! 6. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод и катод имеют соответствующие концы, к которым подводится электрический ток, и расстояние между катодом и анодом больше на концах, где подводится электрический ток, чем на противоположных концах, где ток не подводится. ! 7. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.3, в котором аноды и катод имеют соответствующие концы, к которым подводится электрический ток, и расстояние между катодом и, по меньшей мере, одним из анодов больше на концах, где подводится элек

Claims (33)

1. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала, содержащее резервуар, анод и катод, причем анод и катод размешены в резервуаре, при этом анод включает, по меньшей мере, один металл для нанесения покрытия на катод, катод включает полимерный пеноматериал, содержащий электропроводящий материал, причем катод ориентирован под углом от около 1 до около 45° относительно вертикали.
2. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором катодом является непрерывная полоса пеноматериала, которая посредством одного или более направляющих устройств подается в резервуар, пропускается мимо анода и выводится из резервуара.
3. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, дополнительно содержащее второй анод, при этом пеноматериал помещен между первым и вторым анодами.
4. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод и катод являются, по существу, параллельными.
5. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод ориентирован, по существу, вертикально в резервуаре.
6. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод и катод имеют соответствующие концы, к которым подводится электрический ток, и расстояние между катодом и анодом больше на концах, где подводится электрический ток, чем на противоположных концах, где ток не подводится.
7. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.3, в котором аноды и катод имеют соответствующие концы, к которым подводится электрический ток, и расстояние между катодом и, по меньшей мере, одним из анодов больше на концах, где подводится электрический ток, чем на противоположных концах, где ток не подводится.
8. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, дополнительно содержащее раствор электролита.
9. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.8, в котором раствор электролита содержит никель.
10. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод представляет собой корзину, содержащую никель.
11. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.6, в котором анод имеет треугольный профиль.
12. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.7, в котором второй анод является скошенным, чтобы образовать большее расстояние.
13. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.3, в котором первый анод помещен на более близком расстоянии к катоду, чем второй анод, для того, чтобы увеличить плотность тока на верхней поверхности пеноматериала относительно нижней поверхности пеноматериала.
14. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.3, в котором второй анод помещен на более близком расстоянии к катоду, чем первый анод, для того, чтобы увеличить плотность тока на нижней поверхности пеноматериала относительно верхней поверхности пеноматериала.
15. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.1, в котором анод и катод имеют соответствующие концы, к которым подводится электрический ток, и пористый непроводящий барьер размещен между анодом и катодом для уменьшения плотности тока между анодом и катодом.
16. Устройство электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.15, в котором барьер перекрывает меньше чем около 75% длины анода.
17. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала, характеризующийся тем, что обеспечивают резервуар, анод, катод из полимерного пеноматериала, который включает электропроводящий материал, и раствор, содержащий электролит, при этом катод размещают в резервуаре таким образом, чтобы при подведении электрического тока к аноду и катоду ориентация катода вызывала диагональное конвекционное движение электролита через пеноматериал; и подают электрический ток к аноду и катоду для покрытия пеноматериала методом электроосаждения.
18. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором анод ориентируют, по существу, вертикально, а катод ориентируют под углом от около 1 до около 45° относительно вертикали.
19. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором анод и катод, по существу, параллельны.
20. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором катодом является непрерывная полоса пеноматериала, которую подают в резервуар, пропускают мимо анода и выводят из резервуара посредством одного или более направляющих устройств.
21. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, характеризующийся тем, что обеспечивают второй анод, при этом пеноматериал размещают между первым и вторым анодами.
22. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором анод и катод имеют соответствующие концы, к которым подводят электрический ток, и расстояние между катодом и анодом больше на концах, где подводят электрический ток, чем на противоположных концах, где ток не подводят.
23. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.21, в котором аноды и катод имеют соответствующие концы, в которым подводят электрический ток, и расстояние между катодом и, по меньшей мере, одним из анодов больше на концах, где подводят электрический ток, чем на противоположных концах, где ток не подводят.
24. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором раствор электролита содержит никель.
25. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором анодом является корзина, содержащая никель.
26. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором анод имеет треугольный профиль.
27. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.23, в котором второй анод является скошенным, чтобы образовать большее расстояние.
28. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.21, в котором первый анод помещают на более близком расстоянии к катоду, чем второй анод, для того, чтобы увеличить плотность тока на верхней поверхности пеноматериала относительно нижней поверхности пеноматериала.
29. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.28, в котором увеличенная плотность тока на верхней поверхности пеноматериала вызывает увеличенное количество осажденного металла в окрестности верхней поверхности по сравнению с нижней поверхностью.
30. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.21, в котором второй анод размещают на более близком расстоянии к катоду, чем первый анод, для того, чтобы увеличить плотность тока на нижней поверхности пеноматериала относительно верхней поверхности пеноматериала.
31. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.30, в котором увеличенная плотность тока на нижней поверхности пеноматериала вызывает увеличенное количество осажденного металла в окрестности нижней поверхности по сравнению с верхней поверхностью.
32. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.17, в котором анод и катод имеют соответствующие концы, к которым подводят электрический ток, и пористый непроводящий барьер помещают между анодом и катодом для уменьшения плотности тока между анодом и катодом.
33. Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала по п.32, в котором барьер перекрывает меньше чем около 75% длины анода.
RU2008145741/02A 2006-04-20 2006-11-03 Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала RU2400572C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/407,655 2006-04-20
US11/407,655 US8110076B2 (en) 2006-04-20 2006-04-20 Apparatus and foam electroplating process

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008145741A true RU2008145741A (ru) 2010-05-27
RU2400572C2 RU2400572C2 (ru) 2010-09-27

Family

ID=38624485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008145741/02A RU2400572C2 (ru) 2006-04-20 2006-11-03 Способ электроосаждения для покрытия пеноматериала

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8110076B2 (ru)
JP (1) JP5075910B2 (ru)
KR (1) KR101082156B1 (ru)
CN (1) CN101421440A (ru)
BR (1) BRPI0621567A2 (ru)
CA (1) CA2648020C (ru)
RU (1) RU2400572C2 (ru)
TW (1) TWI359883B (ru)
WO (1) WO2007121549A1 (ru)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007021980A2 (en) 2005-08-12 2007-02-22 Isotron Corporation Compositionally modulated composite materials and methods for making the same
WO2009134732A2 (en) * 2008-04-29 2009-11-05 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. Open pore ceramic matrix foams coated with metal or metal alloys and methods of making same
BR122013014464B1 (pt) 2009-06-08 2020-10-20 Modumetal, Inc revestimento de multicamadas resistente à corrosão em um substrato e método de eletrodepósito para produção de um revestimento
EP2261398B1 (en) * 2009-06-10 2018-12-05 Universität des Saarlandes Metal foams
JP5663938B2 (ja) * 2010-04-22 2015-02-04 住友電気工業株式会社 アルミニウム構造体の製造方法およびアルミニウム構造体
JP2012033423A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Sumitomo Electric Ind Ltd 金属多孔体およびその製造方法、それを用いた電池
CN102453939B (zh) * 2010-10-25 2014-06-25 嘉联益科技股份有限公司 用于卷对卷输送选择性电镀软性电路板的机台及其制程
JP2012144763A (ja) * 2011-01-11 2012-08-02 Sumitomo Electric Ind Ltd アルミニウム構造体の製造方法およびアルミニウム構造体
CN102142561A (zh) * 2011-01-25 2011-08-03 深圳市量能科技有限公司 镍电极的发泡镍基体、镍电池及其制作方法
JP5648588B2 (ja) * 2011-06-03 2015-01-07 住友電気工業株式会社 アルミニウム構造体の製造方法およびアルミニウム構造体
CN102230207A (zh) * 2011-06-21 2011-11-02 华映光电股份有限公司 电泳沉积装置及电泳沉积方法
JP2014173175A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 溶融塩電解めっき装置及びアルミニウム膜の製造方法
JP2014173176A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 溶融塩電解めっき装置及びアルミニウム膜の製造方法
CN105283587B (zh) 2013-03-15 2019-05-10 莫杜美拓有限公司 纳米叠层涂层
US10472727B2 (en) 2013-03-15 2019-11-12 Modumetal, Inc. Method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings
WO2014145771A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Modumetal, Inc. Electrodeposited compositions and nanolaminated alloys for articles prepared by additive manufacturing processes
BR112015022078B1 (pt) * 2013-03-15 2022-05-17 Modumetal, Inc Aparelho e método para eletrodepositar um revestimento nanolaminado
EA201500949A1 (ru) 2013-03-15 2016-02-29 Модьюметл, Инк. Способ формирования многослойного покрытия, покрытие, сформированное вышеуказанным способом, и многослойное покрытие
US9520643B2 (en) * 2013-04-10 2016-12-13 Apple Inc. Electronic device with foam antenna carrier
KR101664540B1 (ko) * 2014-04-02 2016-10-25 오씨아이 주식회사 전해 도금용 전극 및 이를 포함하는 전해 도금 장치
AR102068A1 (es) 2014-09-18 2017-02-01 Modumetal Inc Métodos de preparación de artículos por electrodeposición y procesos de fabricación aditiva
EA201790643A1 (ru) 2014-09-18 2017-08-31 Модьюметал, Инк. Способ и устройство для непрерывного нанесения нанослоистых металлических покрытий
CN105088296B (zh) * 2015-08-26 2018-01-02 深圳市深联发科技有限公司 泡沫金属的电镀工艺
EP3425089B1 (en) * 2016-03-03 2022-05-25 Nippon Steel Corporation Electroplating apparatus
BR112019004508A2 (pt) 2016-09-08 2019-06-04 Modumetal Inc métodos para a obtenção de revestimentos laminados em peças de trabalho, e artigos feitos a partir dos mesmos
EP3601641A1 (en) 2017-03-24 2020-02-05 Modumetal, Inc. Lift plungers with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same
CN107012491B (zh) * 2017-04-01 2020-04-07 河北民族师范学院 一种Co纳米层/Co纳米线/多孔氧化铝复合薄膜及其制备方法
CA3060619A1 (en) 2017-04-21 2018-10-25 Modumetal, Inc. Tubular articles with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same
US10858748B2 (en) 2017-06-30 2020-12-08 Apollo Energy Systems, Inc. Method of manufacturing hybrid metal foams
EP3728486A1 (en) 2017-12-20 2020-10-28 PPG Industries Ohio, Inc. Electrodepositable coating compositions and electrically conductive coatings resulting therefrom
CN112272717B (zh) 2018-04-27 2024-01-05 莫杜美拓有限公司 用于使用旋转生产具有纳米层压物涂层的多个制品的设备、系统和方法
WO2021023778A1 (de) * 2019-08-05 2021-02-11 Sms Group Gmbh Verfahren und anlage zum elektrolytischen beschichten eines stahlbandes mittels pulstechnik
KR20220023516A (ko) * 2020-08-21 2022-03-02 주식회사 엘지에너지솔루션 음극의 전리튬화 장치 및 음극의 전리튬화 방법
CN112481670B (zh) * 2020-11-27 2023-11-03 常德力元新材料有限责任公司 一种泡沫金属电镀装置和电镀方法
CN113337872B (zh) * 2021-08-06 2022-01-04 深圳先进储能材料国家工程研究中心有限公司 双面电沉积设备、双面电沉积方法及制得的产品

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL287699A (ru) * 1962-01-12
CA971505A (en) 1970-09-04 1975-07-22 International Nickel Company Of Canada Electrowinning metal utilizing higher current densities on upper surfaces
JPS53128544A (en) * 1977-04-15 1978-11-09 Sumitomo Electric Ind Ltd Continuous method of preventing corrosion of metallic porous structure
US4326931A (en) * 1978-10-12 1982-04-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Process for continuous production of porous metal
AU525633B2 (en) * 1980-03-07 1982-11-18 Nippon Steel Corporation Metal strip treated by moving electrolyte
US4609449A (en) * 1982-03-16 1986-09-02 American Cyanamid Company Apparatus for the production of continuous yarns or tows comprising high strength metal coated fibers
US4551210A (en) * 1984-11-13 1985-11-05 Olin Corporation Dendritic treatment of metallic surfaces for improving adhesive bonding
JPS61198277U (ru) * 1985-05-24 1986-12-11
JPS62110975A (ja) * 1985-11-07 1987-05-22 株式会社中央製作所 炭素繊維束のメツキ処理方法
JPH0723553B2 (ja) * 1986-10-02 1995-03-15 住友電気工業株式会社 三次元網状構造体のメッキ方法
US4978431A (en) * 1989-08-07 1990-12-18 Eltech Systems Corporation Continuous electroplating of conductive foams
JPH04107296A (ja) * 1990-08-27 1992-04-08 Nippon Steel Corp 鋼帯の連続電気メッキ装置
US6149781A (en) 1994-01-10 2000-11-21 Forand; James L. Method and apparatus for electrochemical processing
JPH08337895A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Achilles Corp 金属多孔体の製造方法とその装置
US5804053A (en) * 1995-12-07 1998-09-08 Eltech Systems Corporation Continuously electroplated foam of improved weight distribution
US6190530B1 (en) * 1999-04-12 2001-02-20 International Business Machines Corporation Anode container, electroplating system, method and plated object
LU90640B1 (en) * 2000-09-18 2002-05-23 Circuit Foil Luxembourg Trading Sarl Method for electroplating a strip of foam
AU2002321778B9 (en) 2001-09-07 2008-06-12 Rio Tinto Alcan International Limited Aluminium electrowinning cells with inclined cathodes
US6991717B2 (en) * 2002-04-05 2006-01-31 3M Innovative Properties Company Web processing method and apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
BRPI0621567A2 (pt) 2011-12-13
KR20090008245A (ko) 2009-01-21
KR101082156B1 (ko) 2011-11-09
CA2648020C (en) 2012-01-10
TW200741039A (en) 2007-11-01
WO2007121549A1 (en) 2007-11-01
TWI359883B (en) 2012-03-11
JP5075910B2 (ja) 2012-11-21
US20070278105A1 (en) 2007-12-06
CA2648020A1 (en) 2007-11-01
JP2009533557A (ja) 2009-09-17
RU2400572C2 (ru) 2010-09-27
CN101421440A (zh) 2009-04-29
US8110076B2 (en) 2012-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008145741A (ru) Устройство и способ электроосаждения для покрытия пеноматериала
US8177945B2 (en) Multi-anode system for uniform plating of alloys
JP2006214006A (ja) 通過設備内で構成部品を電気化学的に処理する方法および装置
CN201753369U (zh) 电镀装置
CN106167913B (zh) 电镀槽装置
CN105088323B (zh) 板式电镀挂具
CN105189825B (zh) 用于金属电解提取的电解槽
JP2015092012A (ja) 成膜用ニッケル溶液およびこれを用いた成膜方法
CA1223840A (en) Process of continuously electrodepositing on strip metal on one or both sides
KR101623869B1 (ko) 수평셀 전기도금장치
CN102534733A (zh) 电镀装置以及电镀方法
MY169602A (en) Method for eliminating horizontal electrical current in aluminium liquid in aluminium electrolysis reduction cell
JPS5841358B2 (ja) メツキ装置
CN201924097U (zh) 电镀装置
JP2010265519A (ja) 錫イオンの供給装置
Lei et al. Electrochemical mechanism of tin membrane electro‐deposition in chloride solutions
KR100748791B1 (ko) 수직 도금 장치 및 도금 방법
JP5114271B2 (ja) めっきつきまわり評価装置および評価方法
US9809897B2 (en) Metal plating apparatus and method using solenoid coil
CN205529104U (zh) 一种电镀装置
JP5898346B2 (ja) 陽極および電解槽の運転方法
US11926912B2 (en) Electrode assembly for electrochemical processes
CN209227084U (zh) 电解铜箔电沉积装置及电解铜箔制造装置
CN203021667U (zh) 电化学加工装置
KR101421783B1 (ko) 가상전극을 이용한 전기 도금 장치

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20151104