RU2008140134A - Интерферометрическая оптическая система отображения с широкодиапазонными характеристиками - Google Patents
Интерферометрическая оптическая система отображения с широкодиапазонными характеристиками Download PDFInfo
- Publication number
- RU2008140134A RU2008140134A RU2008140134/28A RU2008140134A RU2008140134A RU 2008140134 A RU2008140134 A RU 2008140134A RU 2008140134/28 A RU2008140134/28 A RU 2008140134/28A RU 2008140134 A RU2008140134 A RU 2008140134A RU 2008140134 A RU2008140134 A RU 2008140134A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- light
- clause
- specified
- reflective layer
- display
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/001—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on interference in an adjustable optical cavity
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
Abstract
1. Способ изготовления дисплея на основе микроэлектромеханических систем для использования с широкодиапазонным белым светом, согласно которому ! берут прозрачную подложку и ! формируют на ней матрицу интерферометрических модуляторов, при этом ! по меньшей мере на часть прозрачной подложки осаждают поглощающее вещество, причем коэффициент поглощения (k) указанного поглощающего вещества ниже порогового значения для длин световых волн в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора, и ! формируют на указанном поглощающем веществе отражающий слой. ! 2. Способ по п.1, при котором указанное пороговое значение составляет примерно 2,5. ! 3. Способ по п.1, согласно которому ! между поглощающим веществом и отражающим слоем дополнительно формируют временный слой и ! удаляют по меньшей мере часть временного слоя, посредством чего формируют зазор между поглощающим веществом и отражающим слоем. ! 4. Способ по п.1, согласно которому между подложкой и отражающим слоем дополнительно формируют прозрачный проводящий материал. ! 5. Способ по п.1, согласно которому между подложкой и отражающим слоем дополнительно осаждают диэлектрический слой. ! 6. Способ по п.5, согласно которому указанное поглощающее вещество включают в состав указанного диэлектрического слоя. ! 7. Способ по п.1, согласно которому дополнительно в состав прозрачной подложки включают поглощающее вещество. !8. Способ по п.1, согласно которому дополнительно формируют слой преломляющего материала, прилегающий к поглощающему веществу. ! 9. Способ по п.1, при котором по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрическ
Claims (48)
1. Способ изготовления дисплея на основе микроэлектромеханических систем для использования с широкодиапазонным белым светом, согласно которому
берут прозрачную подложку и
формируют на ней матрицу интерферометрических модуляторов, при этом
по меньшей мере на часть прозрачной подложки осаждают поглощающее вещество, причем коэффициент поглощения (k) указанного поглощающего вещества ниже порогового значения для длин световых волн в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора, и
формируют на указанном поглощающем веществе отражающий слой.
2. Способ по п.1, при котором указанное пороговое значение составляет примерно 2,5.
3. Способ по п.1, согласно которому
между поглощающим веществом и отражающим слоем дополнительно формируют временный слой и
удаляют по меньшей мере часть временного слоя, посредством чего формируют зазор между поглощающим веществом и отражающим слоем.
4. Способ по п.1, согласно которому между подложкой и отражающим слоем дополнительно формируют прозрачный проводящий материал.
5. Способ по п.1, согласно которому между подложкой и отражающим слоем дополнительно осаждают диэлектрический слой.
6. Способ по п.5, согласно которому указанное поглощающее вещество включают в состав указанного диэлектрического слоя.
7. Способ по п.1, согласно которому дополнительно в состав прозрачной подложки включают поглощающее вещество.
8. Способ по п.1, согласно которому дополнительно формируют слой преломляющего материала, прилегающий к поглощающему веществу.
9. Способ по п.1, при котором по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора указанный коэффициент поглощения (k) уменьшается или остается практическим неизменным.
10. Способ по п.1, при котором показатель преломления (n) указанного поглощающего вещества возрастает по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора.
11. Способ по п.10, при котором отношение показателя преломления (n) указанного вещества к коэффициенту поглощения (k) указанного вещества составляет примерно от 2,5 до 6.
12. Способ по п.1, согласно которому указанное поглощающее вещество содержит германий или германийсодержащий сплав.
13. Способ по п.1, при котором указанный рабочий оптический диапазон составляет примерно от 400 до 700 нм.
14. Дисплей на основе микроэлектромеханических систем, изготовленный способом по любому из пп.1-13.
15. Интерферометрический модуляционный дисплей, содержащий
средства пропускания света и
средства обеспечения интерференции при отражении света, пропущенного через указанные средства пропускания света, причем указанные средства обеспечения интерференции при отражении света содержат поглощающее вещество, расположенное на части средств пропускания света, и отражающий слой, расположенный на поглощающем веществе, при этом коэффициент поглощения (k) поглощающего вещества ниже порогового значения для длин световых волн в рабочем оптическом диапазоне средств обеспечения интерференции при отражении света, а средства обеспечения интерференции при отражении света выполнены с возможностью отражения широкодиапазонного белого света в рабочем оптическом диапазоне.
16. Дисплей по п.15, в котором между поглощающим веществом и отражающим слоем имеется зазор.
17. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что отражающий слой выполнен подвижным.
18. Дисплей по п.15, дополнительно содержащий временный слой между поглощающим веществом и отражающим слоем, причем временный слой содержит материал, испаряемый при нагреве, или поликарбонат, деполимеризуемый при нагреве.
19. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что указанное пороговое значение составляет примерно 2,5.
20. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что для отображения белого цвета средства обеспечения интерференции при отражении света выполнены с возможностью отражения света при значении коэффициента отражения, превышающем его пороговое значение в рабочем оптическом диапазоне.
21. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что значение коэффициента отражения широкодиапазонного белого света составляет примерно от 30 до 70% в рабочем оптическом диапазоне.
22. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что указанное поглощающее вещество включено в указанные средства пропускания света.
23. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что указанные средства пропускания света содержат прозрачную подложку.
24. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора указанный коэффициент поглощения (k) уменьшается или остается практически неизменным.
25. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что показатель преломления (n) указанного поглощающего вещества возрастает по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора.
26. Дисплей по п.25, отличающийся тем, что отношение показателя преломления (n) к коэффициенту поглощения (k) указанного поглощающего вещества составляет примерно от 2,5 до 6.
27. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что указанное поглощающее вещество содержит германий или германийсодержащий сплав.
28. Дисплей по п.15, отличающийся тем, что отражающий слой содержит алюминий или алюминийсодержащий сплав.
29. Оптическое устройство, содержащее
подложку, на рабочую поверхность которой поступает падающий свет и
на которой сформирована матрица интерферометрических модуляторов, причем указанная матрица интерферометрических модуляторов содержит
отражающий слой, размещенный на указанной подложке, и
поглощающее вещество между отражающим слоем и подложкой, при этом коэффициент поглощения (k) поглащающего вещества ниже порогового значения для длин световых волн в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора, причем
матрица интерферометрических модуляторов выполнена с возможностью отражения широкодиапазонного белого света в рабочем оптическом диапазоне.
30. Устройство по п.29, в котором между поглощающим веществом и отражающим слоем имеется зазор.
31. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанный отражающий слой выполнен подвижным.
32. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанное пороговое значение составляет примерно 2,5.
33. Устройство по п.29, отличающееся тем, что для отображения белого цвета матрица интерферометрических модуляторов выполнена с возможностью отражения света при значении коэффициента отражения, превышающем его пороговое значение в рабочем оптическом диапазоне.
34. Устройство по п.29, отличающееся тем, что значение коэффициента отражения широкодиапазонного белого света составляет примерно от 30 до 70% в рабочем оптическом диапазоне.
35. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанное поглощающее вещество включено в состав прозрачной подложки.
36. Устройство по п.29, отличающееся тем, что по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора указанный коэффициент поглощения (k) уменьшается или остается практически неизменным.
37. Устройство п.29, отличающееся тем, что показатель преломления (n) указанного преломляющего вещества возрастает по мере увеличения длины световой волны в рабочем оптическом диапазоне интерферометрического модулятора.
38. Устройство по п.37, отличающееся тем, что отношение показателя преломления (n) к коэффициенту поглощения (k) указанного поглощающего вещества составляет примерно от 2,5 до 6.
39. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанное поглощающее вещество содержит германий или германийсодержащий сплав.
40. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанный отражающий слой содержит алюминий или алюминийсодержащий сплав.
41. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанный рабочий оптический диапазон составляет примерно от 400 до 700 нм.
42. Устройство по п.29, отличающееся тем, что указанное устройство на основе микроэлектромеханических систем содержит сотовый телефон.
43. Устройство по п.29, дополнительно содержащее
процессор, выполненный с возможностью обработки видеоданных и электрически взаимодействующий с матрицей, и
запоминающее устройство, электрически взаимодействующее с процессором.
44. Устройство по п.43, дополнительно содержащее схему формирования, выполненную с возможностью подачи по меньшей мере одного сигнала на матрицу.
45. Устройство по п.44, дополнительно содержащее контроллер, выполненный с возможностью передачи по меньшей мере части видеоданных на схему формирования.
46. Устройство по п.43, дополнительно содержащее модуль видеоисточника, выполненный с возможностью передачи видеоданных на процессор.
47. Устройство по п.46, отличающееся тем, что модуль видеоисточника содержит по меньшей мере один из следующих компонентов: приемник, приемопередатчик и передатчик.
48. Устройство по п.43, дополнительно содержащее устройство ввода, выполненное с возможностью приема входных данных и передачи их на процессор.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/401,023 | 2006-04-10 | ||
US11/401,023 US7643203B2 (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Interferometric optical display system with broadband characteristics |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012101843/28A Division RU2012101843A (ru) | 2006-04-10 | 2012-01-19 | Интерферометрическая оптическая дисплейная система с широкодиапазонными характеристиками |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2008140134A true RU2008140134A (ru) | 2010-05-20 |
RU2452987C2 RU2452987C2 (ru) | 2012-06-10 |
Family
ID=38515534
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2008140134/28A RU2452987C2 (ru) | 2006-04-10 | 2007-04-02 | Интерферометрическая оптическая дисплейная система с широкодиапазонными характеристиками |
RU2012101843/28A RU2012101843A (ru) | 2006-04-10 | 2012-01-19 | Интерферометрическая оптическая дисплейная система с широкодиапазонными характеристиками |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012101843/28A RU2012101843A (ru) | 2006-04-10 | 2012-01-19 | Интерферометрическая оптическая дисплейная система с широкодиапазонными характеристиками |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7643203B2 (ru) |
EP (1) | EP2005237A1 (ru) |
JP (2) | JP4723670B2 (ru) |
KR (1) | KR101344484B1 (ru) |
CN (2) | CN101443691B (ru) |
BR (1) | BRPI0710270A2 (ru) |
CA (1) | CA2647634A1 (ru) |
RU (2) | RU2452987C2 (ru) |
TW (1) | TWI443372B (ru) |
WO (1) | WO2007120464A1 (ru) |
Families Citing this family (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7907319B2 (en) | 1995-11-06 | 2011-03-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light with optical compensation |
KR100703140B1 (ko) | 1998-04-08 | 2007-04-05 | 이리다임 디스플레이 코포레이션 | 간섭 변조기 및 그 제조 방법 |
US8928967B2 (en) | 1998-04-08 | 2015-01-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
WO2003007049A1 (en) * | 1999-10-05 | 2003-01-23 | Iridigm Display Corporation | Photonic mems and structures |
TWI289708B (en) * | 2002-12-25 | 2007-11-11 | Qualcomm Mems Technologies Inc | Optical interference type color display |
US7342705B2 (en) | 2004-02-03 | 2008-03-11 | Idc, Llc | Spatial light modulator with integrated optical compensation structure |
US7855824B2 (en) * | 2004-03-06 | 2010-12-21 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for color optimization in a display |
US7710636B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods using interferometric optical modulators and diffusers |
US20060066586A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Gally Brian J | Touchscreens for displays |
US8004504B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-08-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Reduced capacitance display element |
US7508571B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-03-24 | Idc, Llc | Optical films for controlling angular characteristics of displays |
US7630123B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-12-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for compensating for color shift as a function of angle of view |
US20060132383A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-06-22 | Idc, Llc | System and method for illuminating interferometric modulator display |
US7813026B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-10-12 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of reducing color shift in a display |
US8478081B2 (en) | 2005-06-30 | 2013-07-02 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Monolithic image perception device and method |
RU2444059C2 (ru) * | 2005-06-30 | 2012-02-27 | Эй-Джи-Си Флэт Гласс Норт Америкэ, Инк. | Интегральное устройство и способ восприятия образов |
US7916980B2 (en) | 2006-01-13 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interconnect structure for MEMS device |
US7643203B2 (en) * | 2006-04-10 | 2010-01-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric optical display system with broadband characteristics |
US7369292B2 (en) | 2006-05-03 | 2008-05-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electrode and interconnect materials for MEMS devices |
EP2069838A2 (en) | 2006-10-06 | 2009-06-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Illumination device with built-in light coupler |
CN103558686B (zh) * | 2006-10-06 | 2017-03-01 | 追踪有限公司 | 集成于显示器的照明设备中的光学损失结构 |
EP1943551A2 (en) * | 2006-10-06 | 2008-07-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Light guide |
EP1971884A2 (en) * | 2006-10-06 | 2008-09-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Thin light bar and method of manufacturing |
EP1958010A2 (en) * | 2006-10-10 | 2008-08-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc | Display device with diffractive optics |
WO2008088892A2 (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Pixtronix, Inc. | Sensor-based feedback for display apparatus |
US7733552B2 (en) | 2007-03-21 | 2010-06-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc | MEMS cavity-coating layers and methods |
US7719752B2 (en) | 2007-05-11 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same |
US8929741B2 (en) * | 2007-07-30 | 2015-01-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical interconnect |
US8072402B2 (en) * | 2007-08-29 | 2011-12-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric optical modulator with broadband reflection characteristics |
KR20100090257A (ko) * | 2007-10-19 | 2010-08-13 | 퀄컴 엠이엠스 테크놀로지스, 인크. | 광기전력 소자가 통합된 디스플레이 |
US7949213B2 (en) * | 2007-12-07 | 2011-05-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Light illumination of displays with front light guide and coupling elements |
US8068710B2 (en) | 2007-12-07 | 2011-11-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Decoupled holographic film and diffuser |
WO2009102733A2 (en) * | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Integrated front light diffuser for reflective displays |
WO2009102670A1 (en) * | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Dual layer thin film holographic solar concentrator/ collector |
WO2009102731A2 (en) * | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Devices and methods for enhancing brightness of displays using angle conversion layers |
US8049951B2 (en) | 2008-04-15 | 2011-11-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Light with bi-directional propagation |
US20090323144A1 (en) * | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Illumination device with holographic light guide |
EP2340567A2 (en) * | 2008-09-18 | 2011-07-06 | QUALCOMM MEMS Technologies, Inc. | Increasing the angular range of light collection in solar collectors/concentrators |
US8730218B2 (en) * | 2010-02-12 | 2014-05-20 | Blackberry Limited | Ambient light-compensated reflective display devices and methods related thereto |
MX2012012034A (es) | 2010-04-16 | 2013-05-30 | Flex Lighting Ii Llc | Dispositivo de iluminacion frontal que comprende una guia de luz a base de pelicula. |
JP2013525955A (ja) | 2010-04-16 | 2013-06-20 | フレックス ライティング 2,エルエルシー | フィルムベースのライトガイドを備える照明デバイス |
US8902484B2 (en) | 2010-12-15 | 2014-12-02 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Holographic brightness enhancement film |
US20120236042A1 (en) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | White point tuning for a display |
US8643936B2 (en) | 2011-05-04 | 2014-02-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Devices and methods for achieving non-contacting white state in interferometric modulators |
US8760751B2 (en) * | 2012-01-26 | 2014-06-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog IMOD having a color notch filter |
US9780335B2 (en) * | 2012-07-20 | 2017-10-03 | 3M Innovative Properties Company | Structured lamination transfer films and methods |
US9183812B2 (en) | 2013-01-29 | 2015-11-10 | Pixtronix, Inc. | Ambient light aware display apparatus |
US9024925B2 (en) * | 2013-03-13 | 2015-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Color performance of IMODs |
EP3096945B1 (en) * | 2014-01-20 | 2019-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Lamination transfer films for forming reentrant structures |
EP3729020A4 (en) * | 2017-12-19 | 2022-04-13 | The University of British Columbia | LAYER STRUCTURE AND MANUFACTURING PROCESS THEREOF |
TWI706194B (zh) * | 2019-09-06 | 2020-10-01 | 友達光電股份有限公司 | 液晶面板及其製作方法 |
Family Cites Families (295)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2534846A (en) | 1946-06-20 | 1950-12-19 | Emi Ltd | Color filter |
DE1288651B (de) | 1963-06-28 | 1969-02-06 | Siemens Ag | Anordnung elektrischer Dipole fuer Wellenlaengen unterhalb 1 mm und Verfahren zur Herstellung einer derartigen Anordnung |
US3616312A (en) * | 1966-04-15 | 1971-10-26 | Ionics | Hydrazine manufacture |
FR1603131A (ru) | 1968-07-05 | 1971-03-22 | ||
US3653741A (en) | 1970-02-16 | 1972-04-04 | Alvin M Marks | Electro-optical dipolar material |
US3813265A (en) | 1970-02-16 | 1974-05-28 | A Marks | Electro-optical dipolar material |
US3725868A (en) | 1970-10-19 | 1973-04-03 | Burroughs Corp | Small reconfigurable processor for a variety of data processing applications |
DE2336930A1 (de) | 1973-07-20 | 1975-02-06 | Battelle Institut E V | Infrarot-modulator (ii.) |
US4099854A (en) | 1976-10-12 | 1978-07-11 | The Unites States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Optical notch filter utilizing electric dipole resonance absorption |
US4196396A (en) | 1976-10-15 | 1980-04-01 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Interferometer apparatus using electro-optic material with feedback |
US4389096A (en) | 1977-12-27 | 1983-06-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Image display apparatus of liquid crystal valve projection type |
US4663083A (en) | 1978-05-26 | 1987-05-05 | Marks Alvin M | Electro-optical dipole suspension with reflective-absorptive-transmissive characteristics |
US4445050A (en) | 1981-12-15 | 1984-04-24 | Marks Alvin M | Device for conversion of light power to electric power |
US4228437A (en) | 1979-06-26 | 1980-10-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Wideband polarization-transforming electromagnetic mirror |
NL8001281A (nl) | 1980-03-04 | 1981-10-01 | Philips Nv | Weergeefinrichting. |
DE3012253A1 (de) * | 1980-03-28 | 1981-10-15 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zum sichtbarmaschen von ladungsbildern und eine hierfuer geeignete vorichtung |
US4377324A (en) | 1980-08-04 | 1983-03-22 | Honeywell Inc. | Graded index Fabry-Perot optical filter device |
US4441791A (en) | 1980-09-02 | 1984-04-10 | Texas Instruments Incorporated | Deformable mirror light modulator |
FR2506026A1 (fr) | 1981-05-18 | 1982-11-19 | Radant Etudes | Procede et dispositif pour l'analyse d'un faisceau de rayonnement d'ondes electromagnetiques hyperfrequence |
NL8103377A (nl) | 1981-07-16 | 1983-02-16 | Philips Nv | Weergeefinrichting. |
US4571603A (en) | 1981-11-03 | 1986-02-18 | Texas Instruments Incorporated | Deformable mirror electrostatic printer |
NL8200354A (nl) | 1982-02-01 | 1983-09-01 | Philips Nv | Passieve weergeefinrichting. |
US4500171A (en) | 1982-06-02 | 1985-02-19 | Texas Instruments Incorporated | Process for plastic LCD fill hole sealing |
US4482213A (en) | 1982-11-23 | 1984-11-13 | Texas Instruments Incorporated | Perimeter seal reinforcement holes for plastic LCDs |
US4863245A (en) * | 1984-02-28 | 1989-09-05 | Exxon Research And Engineering Company | Superlattice electrooptic devices |
US4710732A (en) | 1984-07-31 | 1987-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4566935A (en) | 1984-07-31 | 1986-01-28 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4596992A (en) | 1984-08-31 | 1986-06-24 | Texas Instruments Incorporated | Linear spatial light modulator and printer |
US5061049A (en) | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4662746A (en) | 1985-10-30 | 1987-05-05 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US5096279A (en) | 1984-08-31 | 1992-03-17 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4615595A (en) | 1984-10-10 | 1986-10-07 | Texas Instruments Incorporated | Frame addressed spatial light modulator |
US4617608A (en) * | 1984-12-28 | 1986-10-14 | At&T Bell Laboratories | Variable gap device and method of manufacture |
US5172262A (en) | 1985-10-30 | 1992-12-15 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4859060A (en) * | 1985-11-26 | 1989-08-22 | 501 Sharp Kabushiki Kaisha | Variable interferometric device and a process for the production of the same |
GB8610129D0 (en) | 1986-04-25 | 1986-05-29 | Secr Defence | Electro-optical device |
US4748366A (en) | 1986-09-02 | 1988-05-31 | Taylor George W | Novel uses of piezoelectric materials for creating optical effects |
US4786128A (en) | 1986-12-02 | 1988-11-22 | Quantum Diagnostics, Ltd. | Device for modulating and reflecting electromagnetic radiation employing electro-optic layer having a variable index of refraction |
NL8701138A (nl) * | 1987-05-13 | 1988-12-01 | Philips Nv | Electroscopische beeldweergeefinrichting. |
DE3716485C1 (de) | 1987-05-16 | 1988-11-24 | Heraeus Gmbh W C | Xenon-Kurzbogen-Entladungslampe |
US4900136A (en) * | 1987-08-11 | 1990-02-13 | North American Philips Corporation | Method of metallizing silica-containing gel and solid state light modulator incorporating the metallized gel |
US4956619A (en) | 1988-02-19 | 1990-09-11 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator |
US4856863A (en) | 1988-06-22 | 1989-08-15 | Texas Instruments Incorporated | Optical fiber interconnection network including spatial light modulator |
US5028939A (en) | 1988-08-23 | 1991-07-02 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator system |
US4925259A (en) * | 1988-10-20 | 1990-05-15 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Multilayer optical dielectric coating |
JP2700903B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1998-01-21 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
US4982184A (en) | 1989-01-03 | 1991-01-01 | General Electric Company | Electrocrystallochromic display and element |
US5192946A (en) | 1989-02-27 | 1993-03-09 | Texas Instruments Incorporated | Digitized color video display system |
US5162787A (en) | 1989-02-27 | 1992-11-10 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus and method for digitized video system utilizing a moving display surface |
US5287096A (en) | 1989-02-27 | 1994-02-15 | Texas Instruments Incorporated | Variable luminosity display system |
US5214419A (en) | 1989-02-27 | 1993-05-25 | Texas Instruments Incorporated | Planarized true three dimensional display |
US5170156A (en) | 1989-02-27 | 1992-12-08 | Texas Instruments Incorporated | Multi-frequency two dimensional display system |
US5079544A (en) | 1989-02-27 | 1992-01-07 | Texas Instruments Incorporated | Standard independent digitized video system |
US5206629A (en) | 1989-02-27 | 1993-04-27 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and memory for digitized video display |
US5272473A (en) | 1989-02-27 | 1993-12-21 | Texas Instruments Incorporated | Reduced-speckle display system |
US5214420A (en) | 1989-02-27 | 1993-05-25 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator projection system with random polarity light |
US5218472A (en) | 1989-03-22 | 1993-06-08 | Alcan International Limited | Optical interference structures incorporating porous films |
US4900395A (en) * | 1989-04-07 | 1990-02-13 | Fsi International, Inc. | HF gas etching of wafers in an acid processor |
US5022745A (en) | 1989-09-07 | 1991-06-11 | Massachusetts Institute Of Technology | Electrostatically deformable single crystal dielectrically coated mirror |
US4954789A (en) | 1989-09-28 | 1990-09-04 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator |
US5124834A (en) | 1989-11-16 | 1992-06-23 | General Electric Company | Transferrable, self-supporting pellicle for elastomer light valve displays and method for making the same |
US5037173A (en) | 1989-11-22 | 1991-08-06 | Texas Instruments Incorporated | Optical interconnection network |
JP2910114B2 (ja) * | 1990-01-20 | 1999-06-23 | ソニー株式会社 | 電子機器 |
CH682523A5 (fr) | 1990-04-20 | 1993-09-30 | Suisse Electronique Microtech | Dispositif de modulation de lumière à adressage matriciel. |
GB9012099D0 (en) | 1990-05-31 | 1990-07-18 | Kodak Ltd | Optical article for multicolour imaging |
EP0467048B1 (en) | 1990-06-29 | 1995-09-20 | Texas Instruments Incorporated | Field-updated deformable mirror device |
US5018256A (en) | 1990-06-29 | 1991-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates |
US5142405A (en) | 1990-06-29 | 1992-08-25 | Texas Instruments Incorporated | Bistable dmd addressing circuit and method |
US5083857A (en) | 1990-06-29 | 1992-01-28 | Texas Instruments Incorporated | Multi-level deformable mirror device |
US5099353A (en) | 1990-06-29 | 1992-03-24 | Texas Instruments Incorporated | Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates |
US5216537A (en) | 1990-06-29 | 1993-06-01 | Texas Instruments Incorporated | Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates |
US5153771A (en) | 1990-07-18 | 1992-10-06 | Northrop Corporation | Coherent light modulation and detector |
US5192395A (en) | 1990-10-12 | 1993-03-09 | Texas Instruments Incorporated | Method of making a digital flexure beam accelerometer |
US5526688A (en) * | 1990-10-12 | 1996-06-18 | Texas Instruments Incorporated | Digital flexure beam accelerometer and method |
US5044736A (en) | 1990-11-06 | 1991-09-03 | Motorola, Inc. | Configurable optical filter or display |
US5602671A (en) * | 1990-11-13 | 1997-02-11 | Texas Instruments Incorporated | Low surface energy passivation layer for micromechanical devices |
FR2669466B1 (fr) * | 1990-11-16 | 1997-11-07 | Michel Haond | Procede de gravure de couches de circuit integre a profondeur fixee et circuit integre correspondant. |
US5233459A (en) * | 1991-03-06 | 1993-08-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Electric display device |
US5136669A (en) | 1991-03-15 | 1992-08-04 | Sperry Marine Inc. | Variable ratio fiber optic coupler optical signal processing element |
CA2063744C (en) | 1991-04-01 | 2002-10-08 | Paul M. Urbanus | Digital micromirror device architecture and timing for use in a pulse-width modulated display system |
US5142414A (en) | 1991-04-22 | 1992-08-25 | Koehler Dale R | Electrically actuatable temporal tristimulus-color device |
US5226099A (en) | 1991-04-26 | 1993-07-06 | Texas Instruments Incorporated | Digital micromirror shutter device |
FR2679057B1 (fr) | 1991-07-11 | 1995-10-20 | Morin Francois | Structure d'ecran a cristal liquide, a matrice active et a haute definition. |
US5179274A (en) | 1991-07-12 | 1993-01-12 | Texas Instruments Incorporated | Method for controlling operation of optical systems and devices |
US5168406A (en) | 1991-07-31 | 1992-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Color deformable mirror device and method for manufacture |
US5254980A (en) | 1991-09-06 | 1993-10-19 | Texas Instruments Incorporated | DMD display system controller |
CH680534A5 (en) | 1991-09-16 | 1992-09-15 | Landis & Gyr Betriebs Ag | Fabry=perot sensor for optical parameter measurement - uses two opposing mirrors respectively attached to deflected measuring membrane and transparent plate |
US5358601A (en) * | 1991-09-24 | 1994-10-25 | Micron Technology, Inc. | Process for isotropically etching semiconductor devices |
US5233385A (en) | 1991-12-18 | 1993-08-03 | Texas Instruments Incorporated | White light enhanced color field sequential projection |
US5233456A (en) | 1991-12-20 | 1993-08-03 | Texas Instruments Incorporated | Resonant mirror and method of manufacture |
US5228013A (en) | 1992-01-10 | 1993-07-13 | Bik Russell J | Clock-painting device and method for indicating the time-of-day with a non-traditional, now analog artistic panel of digital electronic visual displays |
US5296950A (en) | 1992-01-31 | 1994-03-22 | Texas Instruments Incorporated | Optical signal free-space conversion board |
US5231532A (en) | 1992-02-05 | 1993-07-27 | Texas Instruments Incorporated | Switchable resonant filter for optical radiation |
US5212582A (en) * | 1992-03-04 | 1993-05-18 | Texas Instruments Incorporated | Electrostatically controlled beam steering device and method |
EP0562424B1 (en) | 1992-03-25 | 1997-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Embedded optical calibration system |
US5312513A (en) | 1992-04-03 | 1994-05-17 | Texas Instruments Incorporated | Methods of forming multiple phase light modulators |
US5311360A (en) | 1992-04-28 | 1994-05-10 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for modulating a light beam |
TW245772B (ru) * | 1992-05-19 | 1995-04-21 | Akzo Nv | |
US5347377A (en) * | 1992-06-17 | 1994-09-13 | Eastman Kodak Company | Planar waveguide liquid crystal variable retarder |
US5818095A (en) | 1992-08-11 | 1998-10-06 | Texas Instruments Incorporated | High-yield spatial light modulator with light blocking layer |
US5293272A (en) * | 1992-08-24 | 1994-03-08 | Physical Optics Corporation | High finesse holographic fabry-perot etalon and method of fabricating |
US5737050A (en) * | 1992-08-25 | 1998-04-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light valve having reduced reflected light, high brightness and high contrast |
US5327286A (en) | 1992-08-31 | 1994-07-05 | Texas Instruments Incorporated | Real time optical correlation system |
US5325116A (en) | 1992-09-18 | 1994-06-28 | Texas Instruments Incorporated | Device for writing to and reading from optical storage media |
US5296775A (en) | 1992-09-24 | 1994-03-22 | International Business Machines Corporation | Cooling microfan arrangements and process |
US5488505A (en) * | 1992-10-01 | 1996-01-30 | Engle; Craig D. | Enhanced electrostatic shutter mosaic modulator |
US5312512A (en) * | 1992-10-23 | 1994-05-17 | Ncr Corporation | Global planarization using SOG and CMP |
US6674562B1 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-06 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
US5324683A (en) | 1993-06-02 | 1994-06-28 | Motorola, Inc. | Method of forming a semiconductor structure having an air region |
WO1995012774A1 (fr) * | 1993-11-05 | 1995-05-11 | Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | Procede de commande de changement de vitesse destine a une transmission automatique |
US5500761A (en) | 1994-01-27 | 1996-03-19 | At&T Corp. | Micromechanical modulator |
JPH07253594A (ja) * | 1994-03-15 | 1995-10-03 | Fujitsu Ltd | 表示装置 |
US5665997A (en) | 1994-03-31 | 1997-09-09 | Texas Instruments Incorporated | Grated landing area to eliminate sticking of micro-mechanical devices |
US6680792B2 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-20 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
US7776631B2 (en) | 1994-05-05 | 2010-08-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device and method of forming a MEMS device |
US7297471B1 (en) * | 2003-04-15 | 2007-11-20 | Idc, Llc | Method for manufacturing an array of interferometric modulators |
US6040937A (en) * | 1994-05-05 | 2000-03-21 | Etalon, Inc. | Interferometric modulation |
US6710908B2 (en) * | 1994-05-05 | 2004-03-23 | Iridigm Display Corporation | Controlling micro-electro-mechanical cavities |
US7123216B1 (en) | 1994-05-05 | 2006-10-17 | Idc, Llc | Photonic MEMS and structures |
US7550794B2 (en) * | 2002-09-20 | 2009-06-23 | Idc, Llc | Micromechanical systems device comprising a displaceable electrode and a charge-trapping layer |
KR0135391B1 (ko) | 1994-05-28 | 1998-04-22 | 김광호 | 자기정렬된 액정표시장치용 박막트랜지스터 및 제조방법 |
JPH0822024A (ja) * | 1994-07-05 | 1996-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | アクティブマトリクス基板およびその製法 |
US6053617A (en) | 1994-09-23 | 2000-04-25 | Texas Instruments Incorporated | Manufacture method for micromechanical devices |
JP3435850B2 (ja) | 1994-10-28 | 2003-08-11 | 株式会社デンソー | 半導体力学量センサ及びその製造方法 |
US5474865A (en) * | 1994-11-21 | 1995-12-12 | Sematech, Inc. | Globally planarized binary optical mask using buried absorbers |
US6849471B2 (en) | 2003-03-28 | 2005-02-01 | Reflectivity, Inc. | Barrier layers for microelectromechanical systems |
US6969635B2 (en) * | 2000-12-07 | 2005-11-29 | Reflectivity, Inc. | Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates |
US6046840A (en) * | 1995-06-19 | 2000-04-04 | Reflectivity, Inc. | Double substrate reflective spatial light modulator with self-limiting micro-mechanical elements |
US5835256A (en) | 1995-06-19 | 1998-11-10 | Reflectivity, Inc. | Reflective spatial light modulator with encapsulated micro-mechanical elements |
US5578976A (en) | 1995-06-22 | 1996-11-26 | Rockwell International Corporation | Micro electromechanical RF switch |
JP3489273B2 (ja) * | 1995-06-27 | 2004-01-19 | 株式会社デンソー | 半導体力学量センサの製造方法 |
JP3234854B2 (ja) * | 1995-08-28 | 2001-12-04 | アルプス電気株式会社 | 多層膜フィルタ及びその製造方法 |
US6324192B1 (en) * | 1995-09-29 | 2001-11-27 | Coretek, Inc. | Electrically tunable fabry-perot structure utilizing a deformable multi-layer mirror and method of making the same |
GB9522135D0 (en) * | 1995-10-30 | 1996-01-03 | John Mcgavigan Holdings Limite | Display panels |
US5771321A (en) * | 1996-01-04 | 1998-06-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Micromechanical optical switch and flat panel display |
US5967163A (en) | 1996-01-30 | 1999-10-19 | Abbott Laboratories | Actuator and method |
US6624944B1 (en) | 1996-03-29 | 2003-09-23 | Texas Instruments Incorporated | Fluorinated coating for an optical element |
US5838484A (en) * | 1996-08-19 | 1998-11-17 | Lucent Technologies Inc. | Micromechanical optical modulator with linear operating characteristic |
US5884083A (en) * | 1996-09-20 | 1999-03-16 | Royce; Robert | Computer system to compile non-incremental computer source code to execute within an incremental type computer system |
JPH10260641A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Nec Corp | フラットパネル型表示装置用ドライバicの実装構造 |
US5867302A (en) * | 1997-08-07 | 1999-02-02 | Sandia Corporation | Bistable microelectromechanical actuator |
US6031653A (en) * | 1997-08-28 | 2000-02-29 | California Institute Of Technology | Low-cost thin-metal-film interference filters |
US5994174A (en) * | 1997-09-29 | 1999-11-30 | The Regents Of The University Of California | Method of fabrication of display pixels driven by silicon thin film transistors |
US6333556B1 (en) | 1997-10-09 | 2001-12-25 | Micron Technology, Inc. | Insulating materials |
US5822170A (en) * | 1997-10-09 | 1998-10-13 | Honeywell Inc. | Hydrophobic coating for reducing humidity effect in electrostatic actuators |
WO1999023832A1 (en) * | 1997-10-31 | 1999-05-14 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing thin film actuated mirror array in an optical projection system |
US5945980A (en) * | 1997-11-14 | 1999-08-31 | Logitech, Inc. | Touchpad with active plane for pen detection |
KR100253378B1 (ko) * | 1997-12-15 | 2000-04-15 | 김영환 | 주문형반도체의외부표시장치 |
US6016693A (en) * | 1998-02-09 | 2000-01-25 | The Regents Of The University Of California | Microfabrication of cantilevers using sacrificial templates |
US6660656B2 (en) | 1998-02-11 | 2003-12-09 | Applied Materials Inc. | Plasma processes for depositing low dielectric constant films |
US6340435B1 (en) * | 1998-02-11 | 2002-01-22 | Applied Materials, Inc. | Integrated low K dielectrics and etch stops |
US6610440B1 (en) * | 1998-03-10 | 2003-08-26 | Bipolar Technologies, Inc | Microscopic batteries for MEMS systems |
US6097145A (en) * | 1998-04-27 | 2000-08-01 | Copytele, Inc. | Aerogel-based phase transition flat panel display |
US6160833A (en) | 1998-05-06 | 2000-12-12 | Xerox Corporation | Blue vertical cavity surface emitting laser |
US6166422A (en) * | 1998-05-13 | 2000-12-26 | Lsi Logic Corporation | Inductor with cobalt/nickel core for integrated circuit structure with high inductance and high Q-factor |
US6282010B1 (en) | 1998-05-14 | 2001-08-28 | Texas Instruments Incorporated | Anti-reflective coatings for spatial light modulators |
US6858080B2 (en) * | 1998-05-15 | 2005-02-22 | Apollo Diamond, Inc. | Tunable CVD diamond structures |
US6323982B1 (en) | 1998-05-22 | 2001-11-27 | Texas Instruments Incorporated | Yield superstructure for digital micromirror device |
KR100301803B1 (ko) | 1998-06-05 | 2001-09-22 | 김영환 | 박막트랜지스터 및 그의 제조방법 |
JP4177557B2 (ja) * | 1998-06-08 | 2008-11-05 | 株式会社カネカ | 液晶表示装置に使用するための抵抗膜方式のタッチパネルおよびこれを備えた液晶表示装置 |
US5976902A (en) | 1998-08-03 | 1999-11-02 | Industrial Technology Research Institute | Method of fabricating a fully self-aligned TFT-LCD |
US5943155A (en) * | 1998-08-12 | 1999-08-24 | Lucent Techonolgies Inc. | Mars optical modulators |
US6057903A (en) * | 1998-08-18 | 2000-05-02 | International Business Machines Corporation | Liquid crystal display device employing a guard plane between a layer for measuring touch position and common electrode layer |
US6249039B1 (en) * | 1998-09-10 | 2001-06-19 | Bourns, Inc. | Integrated inductive components and method of fabricating such components |
JP3919954B2 (ja) * | 1998-10-16 | 2007-05-30 | 富士フイルム株式会社 | アレイ型光変調素子及び平面ディスプレイの駆動方法 |
US6171945B1 (en) * | 1998-10-22 | 2001-01-09 | Applied Materials, Inc. | CVD nanoporous silica low dielectric constant films |
US6115326A (en) * | 1998-10-22 | 2000-09-05 | Integrated Medical Systems, Inc. | Ultrasonic micro-machined selectable transducer array |
US6288824B1 (en) * | 1998-11-03 | 2001-09-11 | Alex Kastalsky | Display device based on grating electromechanical shutter |
US6391675B1 (en) * | 1998-11-25 | 2002-05-21 | Raytheon Company | Method and apparatus for switching high frequency signals |
US6194323B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-02-27 | Lucent Technologies Inc. | Deep sub-micron metal etch with in-situ hard mask etch |
US6335831B2 (en) * | 1998-12-18 | 2002-01-01 | Eastman Kodak Company | Multilevel mechanical grating device |
JP2000214804A (ja) * | 1999-01-20 | 2000-08-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光変調素子及び露光装置並びに平面表示装置 |
US6537427B1 (en) * | 1999-02-04 | 2003-03-25 | Micron Technology, Inc. | Deposition of smooth aluminum films |
US6449084B1 (en) * | 1999-05-10 | 2002-09-10 | Yanping Guo | Optical deflector |
JP3592136B2 (ja) * | 1999-06-04 | 2004-11-24 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法と微小電気機械装置の製造方法 |
US6201633B1 (en) * | 1999-06-07 | 2001-03-13 | Xerox Corporation | Micro-electromechanical based bistable color display sheets |
US6322712B1 (en) * | 1999-09-01 | 2001-11-27 | Micron Technology, Inc. | Buffer layer in flat panel display |
KR100333482B1 (ko) * | 1999-09-15 | 2002-04-25 | 오길록 | 초고속 반도체 광변조기 및 그 제조방법 |
WO2003007049A1 (en) | 1999-10-05 | 2003-01-23 | Iridigm Display Corporation | Photonic mems and structures |
US6351329B1 (en) * | 1999-10-08 | 2002-02-26 | Lucent Technologies Inc. | Optical attenuator |
US6552840B2 (en) * | 1999-12-03 | 2003-04-22 | Texas Instruments Incorporated | Electrostatic efficiency of micromechanical devices |
WO2001063588A1 (en) | 2000-02-24 | 2001-08-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Display device comprising a light guide |
US6531945B1 (en) * | 2000-03-10 | 2003-03-11 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductor with a magnetic core |
US6329297B1 (en) * | 2000-04-21 | 2001-12-11 | Applied Materials, Inc. | Dilute remote plasma clean |
JP2001356701A (ja) | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学素子、光源ユニットおよび表示装置 |
US6452465B1 (en) | 2000-06-27 | 2002-09-17 | M-Squared Filters, Llc | High quality-factor tunable resonator |
WO2002001584A1 (en) | 2000-06-28 | 2002-01-03 | The Regents Of The University Of California | Capacitive microelectromechanical switches |
TW535024B (en) * | 2000-06-30 | 2003-06-01 | Minolta Co Ltd | Liquid display element and method of producing the same |
JP4830183B2 (ja) * | 2000-07-19 | 2011-12-07 | ソニー株式会社 | 光学多層構造体および光スイッチング素子、並びに画像表示装置 |
JP2002023070A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-23 | Sony Corp | 光学多層構造体および光スイッチング素子、並びに画像表示装置 |
KR100840827B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2008-06-23 | 소니 가부시끼 가이샤 | 광학 다층 구조체, 광학 절환 장치 및 화상 디스플레이 |
JP4614027B2 (ja) * | 2000-07-03 | 2011-01-19 | ソニー株式会社 | 光学多層構造体および光スイッチング素子、並びに画像表示装置 |
EP1172681A3 (en) * | 2000-07-13 | 2004-06-09 | Creo IL. Ltd. | Blazed micro-mechanical light modulator and array thereof |
US6795605B1 (en) * | 2000-08-01 | 2004-09-21 | Cheetah Omni, Llc | Micromechanical optical switch |
US6376787B1 (en) * | 2000-08-24 | 2002-04-23 | Texas Instruments Incorporated | Microelectromechanical switch with fixed metal electrode/dielectric interface with a protective cap layer |
US6466354B1 (en) | 2000-09-19 | 2002-10-15 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for interferometric modulation of light |
US6522801B1 (en) * | 2000-10-10 | 2003-02-18 | Agere Systems Inc. | Micro-electro-optical mechanical device having an implanted dopant included therein and a method of manufacture therefor |
KR100381011B1 (ko) * | 2000-11-13 | 2003-04-26 | 한국전자통신연구원 | 멤즈소자 제조용 미세구조체를 고착없이 띄우는 방법 |
US6906847B2 (en) * | 2000-12-07 | 2005-06-14 | Reflectivity, Inc | Spatial light modulators with light blocking/absorbing areas |
WO2002056061A2 (en) * | 2000-12-19 | 2002-07-18 | Coventor, Incorporated | Optical mems device and package having a light-transmissive opening or window |
DE10063991B4 (de) * | 2000-12-21 | 2005-06-02 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung von mikromechanischen Bauelementen |
US6947195B2 (en) | 2001-01-18 | 2005-09-20 | Ricoh Company, Ltd. | Optical modulator, optical modulator manufacturing method, light information processing apparatus including optical modulator, image formation apparatus including optical modulator, and image projection and display apparatus including optical modulator |
CN100504496C (zh) * | 2001-01-30 | 2009-06-24 | 松下电器产业株式会社 | 可形变镜子和备有该可形变镜子的信息装置 |
FR2820513B1 (fr) * | 2001-02-05 | 2004-05-21 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif optoelectronique a filtrage de longueur d'onde par couplage de cavites |
US20020167072A1 (en) * | 2001-03-16 | 2002-11-14 | Andosca Robert George | Electrostatically actuated micro-electro-mechanical devices and method of manufacture |
US6465856B2 (en) | 2001-03-19 | 2002-10-15 | Xerox Corporation | Micro-fabricated shielded conductors |
US20020171610A1 (en) * | 2001-04-04 | 2002-11-21 | Eastman Kodak Company | Organic electroluminescent display with integrated touch-screen |
US6525396B2 (en) | 2001-04-17 | 2003-02-25 | Texas Instruments Incorporated | Selection of materials and dimensions for a micro-electromechanical switch for use in the RF regime |
US20020149850A1 (en) * | 2001-04-17 | 2002-10-17 | E-Tek Dynamics, Inc. | Tunable optical filter |
US6424094B1 (en) * | 2001-05-15 | 2002-07-23 | Eastman Kodak Company | Organic electroluminescent display with integrated resistive touch screen |
US7106307B2 (en) | 2001-05-24 | 2006-09-12 | Eastman Kodak Company | Touch screen for use with an OLED display |
US6803534B1 (en) * | 2001-05-25 | 2004-10-12 | Raytheon Company | Membrane for micro-electro-mechanical switch, and methods of making and using it |
US6639724B2 (en) | 2001-06-05 | 2003-10-28 | Lucent Technologies Inc. | Device having a barrier layer located therein and a method of manufacture therefor |
KR100437825B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2004-06-26 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 어레이기판 |
JP3852306B2 (ja) * | 2001-07-06 | 2006-11-29 | ソニー株式会社 | Mems素子の製造方法、glvデバイスの製造方法、及びレーザディスプレイの製造方法 |
JP2003059905A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-28 | Applied Materials Inc | エッチング方法、キャパシタの製造方法、および半導体装置 |
US6600201B2 (en) * | 2001-08-03 | 2003-07-29 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Systems with high density packing of micromachines |
US6577785B1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-06-10 | Sandia Corporation | Compound semiconductor optical waveguide switch |
US6842009B2 (en) * | 2001-09-13 | 2005-01-11 | Nth Tech Corporation | Biohazard sensing system and methods thereof |
US6717488B2 (en) * | 2001-09-13 | 2004-04-06 | Nth Tech Corporation | Resonator with a member having an embedded charge and a method of making thereof |
US20030053078A1 (en) * | 2001-09-17 | 2003-03-20 | Mark Missey | Microelectromechanical tunable fabry-perot wavelength monitor with thermal actuators |
US6866669B2 (en) * | 2001-10-12 | 2005-03-15 | Cordis Corporation | Locking handle deployment mechanism for medical device and method |
JP4045090B2 (ja) * | 2001-11-06 | 2008-02-13 | オムロン株式会社 | 静電アクチュエータの調整方法 |
US6803160B2 (en) * | 2001-12-13 | 2004-10-12 | Dupont Photomasks, Inc. | Multi-tone photomask and method for manufacturing the same |
JP3893421B2 (ja) | 2001-12-27 | 2007-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 光変調素子及び光変調素子アレイ並びにそれを用いた露光装置 |
KR100439423B1 (ko) * | 2002-01-16 | 2004-07-09 | 한국전자통신연구원 | 마이크로전자기계 액튜에이터 |
US6915046B2 (en) * | 2002-01-22 | 2005-07-05 | Agere Sysems, Inc. | Optical systems comprising curved MEMs mirrors and methods for making same |
US6608268B1 (en) | 2002-02-05 | 2003-08-19 | Memtronics, A Division Of Cogent Solutions, Inc. | Proximity micro-electro-mechanical system |
US6794119B2 (en) * | 2002-02-12 | 2004-09-21 | Iridigm Display Corporation | Method for fabricating a structure for a microelectromechanical systems (MEMS) device |
JP3558066B2 (ja) | 2002-02-19 | 2004-08-25 | ソニー株式会社 | Mems素子とその製造方法、光変調素子、glvデバイスとその製造方法、及びレーザディスプレイ |
US6574033B1 (en) * | 2002-02-27 | 2003-06-03 | Iridigm Display Corporation | Microelectromechanical systems device and method for fabricating same |
US6791441B2 (en) * | 2002-05-07 | 2004-09-14 | Raytheon Company | Micro-electro-mechanical switch, and methods of making and using it |
US6741377B2 (en) * | 2002-07-02 | 2004-05-25 | Iridigm Display Corporation | Device having a light-absorbing mask and a method for fabricating same |
US20040058531A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-03-25 | United Microelectronics Corp. | Method for preventing metal extrusion in a semiconductor structure. |
US6674033B1 (en) * | 2002-08-21 | 2004-01-06 | Ming-Shan Wang | Press button type safety switch |
TW544787B (en) * | 2002-09-18 | 2003-08-01 | Promos Technologies Inc | Method of forming self-aligned contact structure with locally etched gate conductive layer |
US7781850B2 (en) | 2002-09-20 | 2010-08-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Controlling electromechanical behavior of structures within a microelectromechanical systems device |
KR100512960B1 (ko) * | 2002-09-26 | 2005-09-07 | 삼성전자주식회사 | 플렉서블 mems 트랜스듀서와 그 제조방법 및 이를채용한 플렉서블 mems 무선 마이크로폰 |
KR100454136B1 (ko) * | 2002-10-23 | 2004-10-26 | 삼성전자주식회사 | 플로팅 게이트의 전하 손실을 막을 수 있는 비휘발성메모리 장치 및 그 제조방법 |
FR2846318B1 (fr) * | 2002-10-24 | 2005-01-07 | Commissariat Energie Atomique | Microstructure electromecanique integree comportant des moyens de reglage de la pression dans une cavite scellee et procede de reglage de la pression |
US6747785B2 (en) * | 2002-10-24 | 2004-06-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | MEMS-actuated color light modulator and methods |
US7370185B2 (en) | 2003-04-30 | 2008-05-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Self-packaged optical interference display device having anti-stiction bumps, integral micro-lens, and reflection-absorbing layers |
US6909589B2 (en) * | 2002-11-20 | 2005-06-21 | Corporation For National Research Initiatives | MEMS-based variable capacitor |
US6844959B2 (en) * | 2002-11-26 | 2005-01-18 | Reflectivity, Inc | Spatial light modulators with light absorbing areas |
US6958846B2 (en) * | 2002-11-26 | 2005-10-25 | Reflectivity, Inc | Spatial light modulators with light absorbing areas |
US7553686B2 (en) * | 2002-12-17 | 2009-06-30 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Al2O3 atomic layer deposition to enhance the deposition of hydrophobic or hydrophilic coatings on micro-electromechanical devices |
US6944008B2 (en) * | 2002-12-18 | 2005-09-13 | Lucent Technologies Inc. | Charge dissipation in electrostatically driven devices |
TWI289708B (en) * | 2002-12-25 | 2007-11-11 | Qualcomm Mems Technologies Inc | Optical interference type color display |
TW594155B (en) * | 2002-12-27 | 2004-06-21 | Prime View Int Corp Ltd | Optical interference type color display and optical interference modulator |
TW559686B (en) * | 2002-12-27 | 2003-11-01 | Prime View Int Co Ltd | Optical interference type panel and the manufacturing method thereof |
TW557395B (en) * | 2003-01-29 | 2003-10-11 | Yen Sun Technology Corp | Optical interference type reflection panel and the manufacturing method thereof |
TW200413810A (en) * | 2003-01-29 | 2004-08-01 | Prime View Int Co Ltd | Light interference display panel and its manufacturing method |
US20040157426A1 (en) | 2003-02-07 | 2004-08-12 | Luc Ouellet | Fabrication of advanced silicon-based MEMS devices |
TW200417806A (en) | 2003-03-05 | 2004-09-16 | Prime View Int Corp Ltd | A structure of a light-incidence electrode of an optical interference display plate |
US7289404B2 (en) * | 2003-03-13 | 2007-10-30 | Lg Electronics Inc. | Write-once recording medium and defective area management method and apparatus for write-once recording medium |
US6720267B1 (en) * | 2003-03-19 | 2004-04-13 | United Microelectronics Corp. | Method for forming a cantilever beam model micro-electromechanical system |
TW567355B (en) * | 2003-04-21 | 2003-12-21 | Prime View Int Co Ltd | An interference display cell and fabrication method thereof |
US7218438B2 (en) * | 2003-04-30 | 2007-05-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical electronic device with partial reflector layer |
US7072093B2 (en) * | 2003-04-30 | 2006-07-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical interference pixel display with charge control |
US6819469B1 (en) | 2003-05-05 | 2004-11-16 | Igor M. Koba | High-resolution spatial light modulator for 3-dimensional holographic display |
TW570896B (en) * | 2003-05-26 | 2004-01-11 | Prime View Int Co Ltd | A method for fabricating an interference display cell |
US20040258415A1 (en) * | 2003-06-18 | 2004-12-23 | Boone Bradley G. | Techniques for secure free space laser communications |
FR2857953B1 (fr) | 2003-07-21 | 2006-01-13 | Commissariat Energie Atomique | Structure empilee, et procede pour la fabriquer |
TWI251712B (en) * | 2003-08-15 | 2006-03-21 | Prime View Int Corp Ltd | Interference display plate |
TWI305599B (en) * | 2003-08-15 | 2009-01-21 | Qualcomm Mems Technologies Inc | Interference display panel and method thereof |
TWI230801B (en) | 2003-08-29 | 2005-04-11 | Prime View Int Co Ltd | Reflective display unit using interferometric modulation and manufacturing method thereof |
JP3979982B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2007-09-19 | シャープ株式会社 | 干渉性変調器および表示装置 |
TWI232333B (en) * | 2003-09-03 | 2005-05-11 | Prime View Int Co Ltd | Display unit using interferometric modulation and manufacturing method thereof |
TW593126B (en) | 2003-09-30 | 2004-06-21 | Prime View Int Co Ltd | A structure of a micro electro mechanical system and manufacturing the same |
JP4464971B2 (ja) * | 2003-12-11 | 2010-05-19 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 加工物にパターン形成するための方法及び装置、並びにその製造方法 |
US7323217B2 (en) * | 2004-01-08 | 2008-01-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method for making an optical interference type reflective panel |
TWI235345B (en) | 2004-01-20 | 2005-07-01 | Prime View Int Co Ltd | A structure of an optical interference display unit |
US7119945B2 (en) * | 2004-03-03 | 2006-10-10 | Idc, Llc | Altering temporal response of microelectromechanical elements |
TWI261683B (en) | 2004-03-10 | 2006-09-11 | Qualcomm Mems Technologies Inc | Interference reflective element and repairing method thereof |
US7476327B2 (en) | 2004-05-04 | 2009-01-13 | Idc, Llc | Method of manufacture for microelectromechanical devices |
US7612759B2 (en) * | 2004-05-12 | 2009-11-03 | Shimano Inc. | Cycle computer display apparatus |
WO2006014929A1 (en) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Idc, Llc | System and method for micro-electromechanical operating of an interferometric modulator |
JP4852835B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2012-01-11 | ソニー株式会社 | 回折格子−光変調装置集合体 |
US7161730B2 (en) * | 2004-09-27 | 2007-01-09 | Idc, Llc | System and method for providing thermal compensation for an interferometric modulator display |
US7710636B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods using interferometric optical modulators and diffusers |
US7327510B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-02-05 | Idc, Llc | Process for modifying offset voltage characteristics of an interferometric modulator |
US7373026B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | MEMS device fabricated on a pre-patterned substrate |
US7692839B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-04-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of providing MEMS device with anti-stiction coating |
US20060066932A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Clarence Chui | Method of selective etching using etch stop layer |
US7446926B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-11-04 | Idc, Llc | System and method of providing a regenerating protective coating in a MEMS device |
US7369296B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | Device and method for modifying actuation voltage thresholds of a deformable membrane in an interferometric modulator |
US7502155B2 (en) | 2005-03-15 | 2009-03-10 | Texas Instruments Incorporated | Antireflective coating for semiconductor devices and method for the same |
WO2007041302A2 (en) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Mems device and interconnects for same |
US7652814B2 (en) * | 2006-01-27 | 2010-01-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device with integrated optical element |
US7450295B2 (en) | 2006-03-02 | 2008-11-11 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers |
US7643203B2 (en) * | 2006-04-10 | 2010-01-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric optical display system with broadband characteristics |
US7417784B2 (en) * | 2006-04-19 | 2008-08-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device and method utilizing a porous surface |
US7369292B2 (en) * | 2006-05-03 | 2008-05-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electrode and interconnect materials for MEMS devices |
US20080013159A1 (en) * | 2006-06-26 | 2008-01-17 | The Arizona Bd Of Reg On Behalf Of The Univ Of Az | Low cost vertical fabry-perot polymer/sol-gel electro-optic modulators |
US7566664B2 (en) * | 2006-08-02 | 2009-07-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Selective etching of MEMS using gaseous halides and reactive co-etchants |
-
2006
- 2006-04-10 US US11/401,023 patent/US7643203B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-04-02 RU RU2008140134/28A patent/RU2452987C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2007-04-02 BR BRPI0710270-4A patent/BRPI0710270A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-04-02 CN CN2007800128681A patent/CN101443691B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-04-02 CA CA002647634A patent/CA2647634A1/en not_active Abandoned
- 2007-04-02 CN CN2012102420681A patent/CN102759794A/zh active Pending
- 2007-04-02 EP EP07754589A patent/EP2005237A1/en not_active Withdrawn
- 2007-04-02 JP JP2009505386A patent/JP4723670B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-04-02 WO PCT/US2007/008089 patent/WO2007120464A1/en active Application Filing
- 2007-04-10 TW TW096112556A patent/TWI443372B/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-11-05 KR KR1020087027146A patent/KR101344484B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-12-09 US US12/634,576 patent/US8077379B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-06 JP JP2011084387A patent/JP5215431B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-08 US US13/314,448 patent/US20120075313A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-01-19 RU RU2012101843/28A patent/RU2012101843A/ru not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2452987C2 (ru) | 2012-06-10 |
JP4723670B2 (ja) | 2011-07-13 |
RU2012101843A (ru) | 2013-07-27 |
JP5215431B2 (ja) | 2013-06-19 |
CN101443691B (zh) | 2012-09-05 |
EP2005237A1 (en) | 2008-12-24 |
KR101344484B1 (ko) | 2013-12-23 |
TW200827768A (en) | 2008-07-01 |
JP2011180604A (ja) | 2011-09-15 |
WO2007120464A8 (en) | 2007-12-27 |
CN101443691A (zh) | 2009-05-27 |
US20120075313A1 (en) | 2012-03-29 |
TWI443372B (zh) | 2014-07-01 |
JP2009533712A (ja) | 2009-09-17 |
BRPI0710270A2 (pt) | 2011-08-09 |
US7643203B2 (en) | 2010-01-05 |
US20070236774A1 (en) | 2007-10-11 |
KR20090033171A (ko) | 2009-04-01 |
CA2647634A1 (en) | 2007-10-25 |
CN102759794A (zh) | 2012-10-31 |
US8077379B2 (en) | 2011-12-13 |
US20100128339A1 (en) | 2010-05-27 |
WO2007120464A1 (en) | 2007-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2008140134A (ru) | Интерферометрическая оптическая система отображения с широкодиапазонными характеристиками | |
JP6852085B2 (ja) | 分布型レーザー及び複数のセンサー・ヘッドを備える光検出及び測距システム、並びに、光検出及び測距システムのパルス・レーザー | |
US20200271973A1 (en) | Holographic Polymer Dispersed Liquid Crystal Mixtures with High Diffraction Efficiency and Low Haze | |
RU2005129901A (ru) | Способ и столбиковые структуры для интерферометрической модуляции | |
US20100046060A1 (en) | Tunable plasmonic filter | |
US9223152B1 (en) | Ambient light optics for head mounted display | |
RU2010134759A (ru) | Интерферометрический модулятор в режиме пропускания | |
RU2005129914A (ru) | Система и способ для освещения дисплея с интерференционными модуляторами | |
JP2006099061A5 (ru) | ||
Lee | The current trends of optics and photonics | |
CA2572952A1 (en) | Display capable electrowetting light valve | |
CN1559000A (zh) | 波导、边缘发光照明装置和包含这种装置的显示器 | |
JPH1073815A (ja) | 反射型液晶表示装置 | |
JP2002500382A (ja) | ディスプレイ・デバイス上の赤外ローディングを低減する方法および装置 | |
GB0615919D0 (en) | Photonic crystal security device | |
WO2009120721A3 (en) | Plasmostor: a-metal-oxide-si field effect plasmonic modulator | |
CN103472516A (zh) | 反射式滤光片及其制备方法、显示装置 | |
CN114467050A (zh) | 用于偏振加扰的光导光学元件 | |
FR2908523A1 (fr) | Structure diffusante plane, son procede de fabrication et ses applications. | |
CN108508602A (zh) | 太阳能负荷管理抬头显示系统和装置 | |
Rashed et al. | Visible-light wireless communication system performance signature improvement for high bit rate transmission system | |
TW200612163A (en) | Cholesteric liquid crystal light control film | |
WO2010071350A3 (ko) | 액정 표시 장치 | |
US9594265B2 (en) | Optical absorber | |
Matusevich et al. | A transparent optical sensor for moisture detection integrated in a pq-pmma medium |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20150403 |