RU2006141003A - Способ вакуумного напыления - Google Patents

Способ вакуумного напыления Download PDF

Info

Publication number
RU2006141003A
RU2006141003A RU2006141003/02A RU2006141003A RU2006141003A RU 2006141003 A RU2006141003 A RU 2006141003A RU 2006141003/02 A RU2006141003/02 A RU 2006141003/02A RU 2006141003 A RU2006141003 A RU 2006141003A RU 2006141003 A RU2006141003 A RU 2006141003A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
ion source
directed
substrate
sputtering
Prior art date
Application number
RU2006141003/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Никол НАДО (FR)
Николя Надо
Эрик МАТТМАН (FR)
Эрик Маттман
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr)
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr), Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr)
Publication of RU2006141003A publication Critical patent/RU2006141003A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/46—Sputtering by ion beam produced by an external ion source
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036—Reactive sputtering
    • C23C14/0047—Activation or excitation of reactive gases outside the coating chamber
    • C23C14/0052—Bombardment of substrates by reactive ion beams
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Claims (50)

1. Способ вакуумного напыления по меньшей мере одного тонкого слоя на подложку, в частности стеклянную подложку, отличающийся тем, что выбирают по меньшей мере одно газообразное распыляющее вещество, являющееся химически неактивным или активным по отношению к распыляемому материалу; создают коллимированный пучок ионов, содержащий преимущественно упомянутое распыляющее вещество, с помощью по меньшей мере одного линейного ионного источника, размещенного внутри установки промышленного размера; направляют упомянутый пучок на по меньшей мере одну мишень на основе распыляемого материала; и размещают по меньшей мере один участок поверхности упомянутой подложки напротив упомянутой мишени таким образом, что упомянутый материал, распыляемый при ионной бомбардировке мишени, или материал, получаемый в результате реакции упомянутого распыляемого материала с по меньшей мере одним из распыляющих веществ, осаждается на упомянутый участок поверхности.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что осуществляют относительное перемещение ионного источника напыления и подложки.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что линейный ионный источник создает коллимированный пучок ионов с энергией в диапазоне от 0,2 до 10 кэВ, предпочтительно от 1 до 5 кэВ, в частности вблизи 1,5 кэВ.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что линейный ионный источник создает коллимированный пучок ионов с энергией в диапазоне от 0,2 до 10 кэВ, предпочтительно от 1 до 5 кэВ, в частности вблизи 1,5 кэВ.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что в установке создают давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр.
6. Способ по п.2, отличающийся тем, что в установке создают давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр.
7. Способ по п.3, отличающийся тем, что в установке создают давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр.
8. Способ по п.4, отличающийся тем, что в установке создают давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр.
9. Способ по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что пучок ионов и мишень образуют угол α в диапазоне от 90° до 30°, предпочтительно от 60° до 45°.
10. Способ по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что напыление осуществляют одновременно или последовательно на два различных участка поверхности подложки с помощью, по меньшей мере, упомянутого линейного ионного источника напыления.
11. Способ по п.9, отличающийся тем, что напыление осуществляют одновременно или последовательно на два различных участка поверхности подложки с помощью, по меньшей мере, упомянутого линейного ионного источника напыления.
12. Способ по любому из пп.1-8, 11, отличающийся тем, что в дополнение к упомянутому распыляющему веществу вводят вспомогательное вещество, которое является химически активным по отношению к упомянутому распыляемому материалу.
13. Способ по п.9, отличающийся тем, что в дополнение к упомянутому распыляющему веществу вводят вспомогательное вещество, которое является химически активным по отношению к упомянутому распыляемому материалу.
14. Способ по п.10, отличающийся тем, что в дополнение к упомянутому распыляющему веществу вводят вспомогательное вещество, которое является химически активным по отношению к упомянутому распыляемому материалу.
15. Способ по п.12, отличающийся тем, что упомянутое вспомогательное вещество получают в результате подачи газа, содержащего это вспомогательное вещество, например, в непосредственной близости от подложки.
16. Способ по п.13, отличающийся тем, что упомянутое вспомогательное вещество получают в результате подачи газа, содержащего это вспомогательное вещество, например, в непосредственной близости от подложки.
17. Способ по п.14, отличающийся тем, что упомянутое вспомогательное вещество получают в результате подачи газа, содержащего это вспомогательное вещество, например, в непосредственной близости от подложки.
18. Способ по любому из пп.1-8, 11, 13-17, отличающийся тем, что на мишень подают напряжение смещения с тем, чтобы регулировать энергию распыляющего вещества.
19. Способ по п.9, отличающийся тем, что на мишень подают напряжение смещения с тем, чтобы регулировать энергию распыляющего вещества.
20. Способ по п.10, отличающийся тем, что на мишень подают напряжение смещения с тем, чтобы регулировать энергию распыляющего вещества.
21. Способ по п.12, отличающийся тем, что на мишень подают напряжение смещения с тем, чтобы регулировать энергию распыляющего вещества.
22. Способ по любому из пп.1-8, 11, 13-17, 19-21, отличающийся тем, что в непосредственной близости от ионного источника напыления размещают устройство-нейтрализатор ионов, необязательно образованное близлежащим катодом магнетрона.
23. Способ по п.9, отличающийся тем, что в непосредственной близости от ионного источника напыления размещают устройство-нейтрализатор ионов, необязательно образованное близлежащим катодом магнетрона.
24. Способ по п.10, отличающийся тем, что в непосредственной близости от ионного источника напыления размещают устройство-нейтрализатор ионов, необязательно образованное близлежащим катодом магнетрона.
25. Способ по п.12, отличающийся тем, что в непосредственной близости от ионного источника напыления размещают устройство-нейтрализатор ионов, необязательно образованное близлежащим катодом магнетрона.
26. Способ по п.18, отличающийся тем, что в непосредственной близости от ионного источника напыления размещают устройство-нейтрализатор ионов, необязательно образованное близлежащим катодом магнетрона.
27. Способ по п.22, отличающийся тем, что находящуюся под напряжением смещения мишень прикрепляют к катоду магнетрона.
28. Способ по любому из пп.23-26, отличающийся тем, что находящуюся под напряжением смещения мишень прикрепляют к катоду магнетрона.
29. Способ по любому из пп.1-8, 11, 13-17, 19-21, 23-27, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
30. Способ по п.9, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
31. Способ по п.10, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
32. Способ по п.12, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
33. Способ по п.18, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
34. Способ по п.22, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
35. Способ по п.28, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют по меньшей мере один линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и по меньшей мере один катод магнетрона.
36. Способ по любому из пп.1-8, 11, 13-17, 19-21, 23-27, 30-35, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
37. Способ по п.9, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
38. Способ по п.10, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
39. Способ по п.12, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
40. Способ по п.18, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
41. Способ по п.22, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
42. Способ по п.28, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
43. Способ по п.29, отличающийся тем, что в одном и том же отделении камеры напыления объединяют линейный ионный источник, пучок ионов которого направлен на мишень, и другой ионный источник, пучок которого направлен на слой, получаемый в результате распыления мишени.
44. Подложка, в частности, стеклянная подложка, по меньшей мере один участок поверхности которой покрыт пакетом тонких слоев, содержащим чередование n функциональных слоев А со свойствами отражения в инфракрасном диапазоне и/или диапазоне солнечного излучения на основе, в частности, серебра и (n+1) покрытий В при n≥1, причем упомянутые покрытия В содержат слой или совокупность расположенных поверх друг друга слоев из диэлектрического материала на основе, в частности, нитрида кремния или смеси кремния и алюминия, либо оксинитрида кремния, либо оксида цинка, либо оксида олова, либо оксида титана, так что каждый функциональный слой А размещен между двумя покрытиями В, отличающаяся тем, что по меньшей мере один из слоев покрытия В напылен способом по любому из пп.1-43.
45. Подложка, в частности, стеклянная подложка, по меньшей мере один участок поверхности которой покрыт пакетом тонких слоев, содержащим чередование n функциональных слоев А со свойствами отражения в инфракрасном диапазоне и/или диапазоне солнечного излучения на основе, в частности, серебра и (n+1) покрытий В при n≥1, причем упомянутые покрытия В содержат слой или совокупность расположенных друг поверх друга слоев из диэлектрического материала, так что каждый функциональный слой А размещен между двумя покрытиями В, отличающаяся тем, что по меньшей мере один из слоев покрытия А напылен способом по любому из пп.1-43.
46. Подложка, в частности, стеклянная подложка, по меньшей мере один участок поверхности которой покрыт пакетом тонких слоев, содержащим чередование n функциональных слоев А со свойствами отражения в инфракрасном диапазоне и/или диапазоне солнечного излучения на основе, в частности, серебра и (n+1) покрытий В при n≥1, причем упомянутые покрытия В содержат слой или совокупность расположенных друг поверх друга слоев из диэлектрического материала на основе, в частности, нитрида кремния или смеси кремния и алюминия, либо оксинитрида кремния, либо оксида цинка, либо оксида олова, либо оксида титана, так что каждый функциональный слой А размещен между двумя покрытиями В, отличающаяся тем, что пакет также содержит по меньшей мере один металлический слой С в видимом диапазоне, в частности, на основе титана, никеля-хрома, циркония, необязательно азотированный или оксидированный, расположенный выше и/или ниже функционального слоя, причем упомянутый слой С напылен способом по любому из пп.1-43.
47. Подложка, в частности, стеклянная подложка, имеющая на по меньшей мере одной из своих лицевых поверхностей зеркальное или антиотражательное покрытие в видимом диапазоне или инфракрасном диапазоне солнечного излучения, образованное пакетом (А) тонких слоев из диэлектрических материалов с чередующимися высоким и низким показателями преломления, отличающаяся тем, что по меньшей мере один из этих слоев напылен способом по любому из пп.1-43.
48. Подложка, в частности, стеклянная подложка, имеющая на по меньшей мере одной из своих лицевых поверхностей пакет тонких слоев, содержащий по меньшей мере один слой, который напылен способом по любому из пп.1-43 и у которого шероховатость/напряжения/плотность дефектов/степень кристалличности/принцип рассеяния света был(а)/были изменен(а)/изменены относительно пакета, содержащего только слои, напыленные магнетронным распылением.
49. Подложка, в частности, стеклянная подложка, имеющая на по меньшей мере одной из своих лицевых поверхностей пакет тонких слоев, содержащий по меньшей мере один крайний слой, назначением которого является изменение поверхностной энергии или изменение коэффициента трения, отличающаяся тем, что упомянутый крайний слой напылен способом по любому из пп.1-43.
50. Подложка по любому из пп.44-49, отличающаяся тем, что она представляет собой подложку, предназначенную для автомобильной промышленности, в частности, прозрачный люк в крыше автомобиля, боковое стекло, ветровое стекло, заднее стекло, зеркало заднего вида, или предназначенное для зданий одинарное или двойное остекление, в частности внутреннее или наружное остекление для зданий, витрина, магазинный прилавок, который может быть изогнутым, остекление для защиты объекта типа картины, антибликовый экран, стеклянная мебель, необязательно содержащая фотоэлектрическую систему, экран визуализации, подоконная стенка, противообрастающая система.
RU2006141003/02A 2004-04-21 2005-04-15 Способ вакуумного напыления RU2006141003A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0404204A FR2869324B1 (fr) 2004-04-21 2004-04-21 Procede de depot sous vide
FR0404204 2004-04-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2006141003A true RU2006141003A (ru) 2008-05-27

Family

ID=34944951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006141003/02A RU2006141003A (ru) 2004-04-21 2005-04-15 Способ вакуумного напыления

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20090226735A1 (ru)
EP (1) EP1743048A2 (ru)
JP (1) JP2007533856A (ru)
KR (1) KR20070004042A (ru)
CN (1) CN1950540A (ru)
AR (1) AR049884A1 (ru)
FR (1) FR2869324B1 (ru)
RU (1) RU2006141003A (ru)
WO (1) WO2005106070A2 (ru)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2950878B1 (fr) 2009-10-01 2011-10-21 Saint Gobain Procede de depot de couche mince
JP2011100111A (ja) * 2009-10-09 2011-05-19 Seiko Epson Corp 光学物品、光学物品の製造方法、電子機器
US8758580B2 (en) * 2010-08-23 2014-06-24 Vaeco Inc. Deposition system with a rotating drum
US9365450B2 (en) * 2012-12-27 2016-06-14 Intermolecular, Inc. Base-layer consisting of two materials layer with extreme high/low index in low-e coating to improve the neutral color and transmittance performance
US20150364626A1 (en) * 2014-06-11 2015-12-17 Electronics And Telecommunications Research Institute Transparent electrode and solar cell including the same
US10544499B1 (en) * 2018-08-13 2020-01-28 Valeo North America, Inc. Reflector for vehicle lighting
CN112745038B (zh) * 2019-10-30 2022-12-06 传奇视界有限公司 电控变色玻璃制备方法
FR3133057B1 (fr) * 2022-02-25 2024-05-24 Saint Gobain Matériau comprenant un revêtement contrôle solaire

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4250009A (en) * 1979-05-18 1981-02-10 International Business Machines Corporation Energetic particle beam deposition system
JPH0626877B2 (ja) * 1988-06-14 1994-04-13 旭硝子株式会社 熱線遮断ガラス
AU616736B2 (en) * 1988-03-03 1991-11-07 Asahi Glass Company Limited Amorphous oxide film and article having such film thereon
DE3880135T2 (de) * 1988-09-08 1993-09-16 Joshin Uramoto Zerstaeubungsverfahren mittels eines bandfoermigen plasmaflusses und geraet zur handhabung dieses verfahrens.
DE3834318A1 (de) * 1988-10-08 1990-04-12 Leybold Ag Vorrichtung zum aufbringen dielektrischer oder metallischer werkstoffe
DE3904991A1 (de) * 1989-02-18 1990-08-23 Leybold Ag Kathodenzerstaeubungsvorrichtung
JP2896193B2 (ja) * 1989-07-27 1999-05-31 株式会社東芝 酸化物結晶配向膜の製造方法及び酸化物結晶配向膜並びに光磁気記録媒体
DE4324576C1 (de) * 1993-07-22 1995-01-26 Ver Glaswerke Gmbh Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe
US6416880B1 (en) * 1993-12-09 2002-07-09 Seagate Technology, Llc Amorphous permalloy films and method of preparing the same
JPH08127869A (ja) * 1994-10-27 1996-05-21 Japan Aviation Electron Ind Ltd イオンビームスパッタリング装置
JP4370650B2 (ja) * 1998-12-28 2009-11-25 旭硝子株式会社 積層体およびその製造方法
WO2000040402A1 (fr) * 1998-12-28 2000-07-13 Asahi Glass Company, Limited Produit en couches
US6214183B1 (en) * 1999-01-30 2001-04-10 Advanced Ion Technology, Inc. Combined ion-source and target-sputtering magnetron and a method for sputtering conductive and nonconductive materials

Also Published As

Publication number Publication date
CN1950540A (zh) 2007-04-18
WO2005106070A2 (fr) 2005-11-10
FR2869324B1 (fr) 2007-08-10
AR049884A1 (es) 2006-09-13
KR20070004042A (ko) 2007-01-05
FR2869324A1 (fr) 2005-10-28
WO2005106070A3 (fr) 2005-12-29
US20090226735A1 (en) 2009-09-10
EP1743048A2 (fr) 2007-01-17
JP2007533856A (ja) 2007-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2006141003A (ru) Способ вакуумного напыления
RU2008107990A (ru) Способ нанесения слоя, устойчивого к царапанью
KR101167369B1 (ko) 브러슁된 금속 외관을 가진 코팅된 비금속성 시트, 및 이를 위한 코팅 및 이의 제조 방법
RU2006130800A (ru) Способ очистки подложки
FI74697C (fi) Foerfarande foer belaeggning av ett genomskinligt substrat.
EP0655974B1 (en) Antireflection coatings
CA2586842C (en) Methods and equipment for depositing coatings having sequenced structures
CN101296876B (zh) 处理基底的方法
US20060029813A1 (en) Coated substrates that include an undercoating
CA2482528A1 (en) Coatings having low emissivity and low solar reflectance
RU2004136588A (ru) Изделие из стекла с отражающим солнцезащитным покрытием
LU88645A1 (fr) Substrat portant un revêtement et son procédé de fabrication
US20100035036A1 (en) Durable antireflective multispectral infrared coatings
RU2695203C2 (ru) Солнцезащитное стекло, имеющее тонкопленочные покрытия
CN106201045A (zh) 触摸屏结构及触摸屏结构的制造方法
JP2007533856A5 (ru)
EP0798572A1 (en) Coatings
JPH08291380A (ja) 透明な薄手コーティングの耐磨耗性および化学的慣性の改良法
KR920007956B1 (ko) 헤이즈가 없는 투명한 산화주석코팅막의 제조방법
US20130135712A1 (en) Yttrium oxide coated optical elements with improved mid-infrared performance
Yate et al. Control of the bias voltage in dc PVD processes on insulator substrates
US20220389560A1 (en) Method for Producing a Coating
JPS63205609A (ja) 熱線反射膜
KR20200129619A (ko) 진공증착을 이용한 효과적인 보호막 코팅방법
Fu et al. Study of infrared AR and protection coating on MgF 2

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20091116