RU2008107990A - Способ нанесения слоя, устойчивого к царапанью - Google Patents

Способ нанесения слоя, устойчивого к царапанью Download PDF

Info

Publication number
RU2008107990A
RU2008107990A RU2008107990/02A RU2008107990A RU2008107990A RU 2008107990 A RU2008107990 A RU 2008107990A RU 2008107990/02 A RU2008107990/02 A RU 2008107990/02A RU 2008107990 A RU2008107990 A RU 2008107990A RU 2008107990 A RU2008107990 A RU 2008107990A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
nitride
boron
target
ion
Prior art date
Application number
RU2008107990/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Николя НАДО (FR)
Николя Надо
Андрей ХАРЧЕНКО (FR)
Андрей Харченко
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr)
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr), Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr)
Publication of RU2008107990A publication Critical patent/RU2008107990A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/46—Sputtering by ion beam produced by an external ion source
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/225—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
    • C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C23C14/0647—Boron nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/067—Borides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/28—Other inorganic materials
    • C03C2217/281—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/28—Other inorganic materials
    • C03C2217/283—Borides, phosphides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering

Abstract

1. Способ вакуумного осаждения по меньшей мере одного тонкого слоя на основе бора на подложку, отличающийся тем, что ! выбирают по меньшей мере один агент распыления, химически активный или неактивный к бору, ! создают, с помощью по меньшей мере одного линейного источника ионов, находящегося внутри установки, имеющей промышленные размеры, коллимированный пучок ионов, содержащий в основном указанный агент распыления, ! направляют указанный пучок по меньшей мере на одну мишень на основе бора, ! помещают по меньшей мере часть поверхности указанной подложки напротив указанной мишени так, чтобы указанный материал, распыленный ионной бомбардировкой мишени, или материал, получающийся в результате реакции указанного распыленного материала по меньшей мере с одним из агентов распыления, осаждался на указанной части поверхности. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что производят относительное перемещение между источником ионного осаждения и подложкой. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что линейный источник ионов создает коллимированный пучок ионов с энергией, составляющей от 0,2 до 10 кэв, предпочтительно от 1 до 5 кэв, в частности около 1,5 кэв. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в установке создается давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр. ! 5. Способ по п.1, отличающийся тем, что пучок ионов и мишень образуют угол α, составляющий от 90 до 30°, предпочтительно от 60 до 45°. ! 6. Способ по п.1, отличающийся тем, что распыляемый материал осаждают с помощью по меньшей мере указанного линейного источника ионного осаждения одновременно или последовательно на две разные части поверхности подложки. ! 7. Способ по п.1, отличающийся тем, что расп

Claims (19)

1. Способ вакуумного осаждения по меньшей мере одного тонкого слоя на основе бора на подложку, отличающийся тем, что
выбирают по меньшей мере один агент распыления, химически активный или неактивный к бору,
создают, с помощью по меньшей мере одного линейного источника ионов, находящегося внутри установки, имеющей промышленные размеры, коллимированный пучок ионов, содержащий в основном указанный агент распыления,
направляют указанный пучок по меньшей мере на одну мишень на основе бора,
помещают по меньшей мере часть поверхности указанной подложки напротив указанной мишени так, чтобы указанный материал, распыленный ионной бомбардировкой мишени, или материал, получающийся в результате реакции указанного распыленного материала по меньшей мере с одним из агентов распыления, осаждался на указанной части поверхности.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что производят относительное перемещение между источником ионного осаждения и подложкой.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что линейный источник ионов создает коллимированный пучок ионов с энергией, составляющей от 0,2 до 10 кэв, предпочтительно от 1 до 5 кэв, в частности около 1,5 кэв.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в установке создается давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что пучок ионов и мишень образуют угол α, составляющий от 90 до 30°, предпочтительно от 60 до 45°.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что распыляемый материал осаждают с помощью по меньшей мере указанного линейного источника ионного осаждения одновременно или последовательно на две разные части поверхности подложки.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что распыленный материал осаждают с помощью по меньшей мере указанного линейного источника ионного осаждения по меньшей мере на часть не содержащей покрытия поверхности подложки.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что распыленный материал осаждают с помощью по меньшей мере указанного линейного источника ионного осаждения по меньшей мере на часть подложки, по меньшей мере частично покрытой по меньшей мере одним другим слоем.
9. Способ по п.1, отличающийся тем, что помимо указанного агента распыления вводят дополнительный агент, причем указанный дополнительный агент является химически активным к указанному распыленному материалу, и этот дополнительный агент получен путем инжекции газа, включающего указанный дополнительный агент, например, вблизи подложки.
10. Способ по п.9, отличающийся тем, что введенный дополнительный агент содержит азот, аргон, использующийся один или в смеси, возможно с неосновной фракцией CH4 и/или с H2.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют мишень, содержащую материал, выбранный из семейства аморфного бора, бора с кубической кристаллической решеткой, бора с гексагональной кристаллической решеткой, алюминия, кремния, аморфного нитрида бора, нитрида бора с гексагональной кристаллической решеткой, нитрида бора с кубической кристаллической решеткой, нитрида кремния, нитрида алюминия, смешанного нитрида по меньшей мере этих веществ, причем этот материал используется один или в смеси.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что мишень поляризуют, чтобы направить энергию агента распыления на цель.
13. Способ по любому из п.11 или 12, отличающийся тем, что поляризованная мишень закрепляется на катоде магнетрона.
14. Способ по п.12, отличающийся тем, что поблизости помещают устройство нейтрализации ионов, при необходимости образованное катодом магнетрона, расположенным вблизи.
15. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют второй источник ионов, пучок ионов которого направлен на подложку.
16. Подложка, в частности стеклянная, покрытая по меньшей мере на части поверхности блоком тонких слоев, содержащим поочередно n функциональных слоев A, обладающих способностью отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, в частности, на основе серебра, и (n+1) покрытий B (n≥1), причем указанные покрытия B содержат слой или суперпозицию слоев из диэлектрического материала, в частности, на основе нитрида кремния или смеси кремния и алюминия, или оксинитрида кремния, или оксида цинка, или оксида олова, или оксида титана, так, что каждый из функциональных слоев A находится между двумя покрытиями B, причем блок содержит также по меньшей мере один металлический слой C, отражающий в видимой области, в частности, на основе титана, нихрома, циркония, возможно, азотированного или оксидированного, расположенный выше и/или ниже функционального слоя, отличающаяся тем, что последний слой блока покрыт по меньшей мере одним завершающим слоем на основе материала, выбранного из семейства аморфного нитрида бора, нитрида бора с гексагональной кристаллической решеткой, нитрида бора с кубической кристаллической решеткой, нитрида кремния, нитрида алюминия, смешанного нитрида по меньшей мере этих веществ, причем этот материал используется один или в смеси, а этот завершающий слой осаждается способом по любому из пп.1-15.
17. Подложка, в частности стеклянная, покрытая по меньшей мере на части поверхности покрытием, являющимся противоотражательным или зеркальным в области видимого света или инфракрасного солнечного излучения, сделанным из блока тонких слоев (A) из диэлектрического материала с коэффициентами отражения поочередно высоким и низким, отличающаяся тем, что последний слой блока покрыт по меньшей мере одним завершающим слоем на основе материала, выбранного из семейства аморфного нитрида бора, нитрида бора с гексагональной кристаллической решеткой, нитрида бора с кубической кристаллической решеткой, нитрида кремния, нитрида алюминия, смешанного нитрида по меньшей мере этих веществ, причем этот материал используется один или в смеси, и этот завершающий слой осажден способом по любому из пп.1-15.
18. Подложка, в частности стеклянная, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один слой на основе материала, выбранного из семейства аморфного нитрида бора, нитрида бора с гексагональной кристаллической решеткой, нитрида бора с кубической кристаллической решеткой, нитрида кремния, нитрида алюминия, смешанного нитрида по меньшей мере этих веществ, причем этот материал используется один или в смеси, а этот завершающий слой осажден способом по любому из пп.1-15.
19. Подложка по любому из пп.16-18, отличающаяся тем, что она предназначена для автомобильной промышленности, в частности для окон в крыше автомобиля, боковых стекол, ветрового стекла, заднего стекла, зеркала заднего вида, или для простого остекления или двойного стеклопакета, предназначенного для зданий, в частности для внутреннего или наружного остекления зданий, прилавков, витрин магазина, которые могут быть гнутыми, для защитного остекления объектов типа панелей, противоослепляющих экранов компьютеров, оборудования из стекла, в том числе фотогальванических систем, экранов для визуального отображения информации, для подоконных стен, самоочищающихся систем.
RU2008107990/02A 2005-08-01 2006-07-26 Способ нанесения слоя, устойчивого к царапанью RU2008107990A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0552404A FR2889202B1 (fr) 2005-08-01 2005-08-01 Procede de depot d'une couche anti-rayure
FR0552404 2005-08-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2008107990A true RU2008107990A (ru) 2009-09-10

Family

ID=36129801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008107990/02A RU2008107990A (ru) 2005-08-01 2006-07-26 Способ нанесения слоя, устойчивого к царапанью

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20090017314A1 (ru)
EP (1) EP1913170A2 (ru)
JP (1) JP2009503268A (ru)
KR (1) KR20080032132A (ru)
CN (1) CN101233259A (ru)
FR (1) FR2889202B1 (ru)
RU (1) RU2008107990A (ru)
WO (1) WO2007015023A2 (ru)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2950878B1 (fr) 2009-10-01 2011-10-21 Saint Gobain Procede de depot de couche mince
KR101366042B1 (ko) * 2012-04-24 2014-02-24 (주)뉴옵틱스 폴 타입 안테나가 포함된 이온빔 소스의 위치제어를 이용한 이온 처리 장치
US20180085995A1 (en) * 2013-01-04 2018-03-29 New York University 3d manufacturing using multiple material deposition and/or fusion sources simultaneously with single or multi-flute helical build surfaces
CN103147055A (zh) * 2013-03-04 2013-06-12 电子科技大学 一种直列多靶磁控溅射镀膜装置
US20160018367A1 (en) * 2013-03-12 2016-01-21 Waters Technologies Corporation Matching thermally modulated variable restrictors to chromatography separation columns
US9359261B2 (en) 2013-05-07 2016-06-07 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9684097B2 (en) 2013-05-07 2017-06-20 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9110230B2 (en) 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9703011B2 (en) 2013-05-07 2017-07-11 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with a gradient layer
US10160688B2 (en) 2013-09-13 2018-12-25 Corning Incorporated Fracture-resistant layered-substrates and articles including the same
CN103540900B (zh) * 2013-10-22 2016-01-13 中国科学院金属研究所 一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
DE102014104799B4 (de) * 2014-04-03 2021-03-18 Schott Ag Substrat mit einer Beschichtung zur Erhöhung der Kratzfestigkeit, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
US9335444B2 (en) 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
EA034838B1 (ru) * 2014-10-24 2020-03-26 Агк Гласс Юроп Применение имплантированной ионами стеклянной подложки
EP3770649A1 (en) 2015-09-14 2021-01-27 Corning Incorporated High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles
DE102015116644B4 (de) 2015-10-01 2022-05-25 Schott Ag Substrate mit kratzfesten Beschichtungen mit verbesserter Reinigungsfähigkeit, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
CN108399350A (zh) * 2017-02-04 2018-08-14 上海箩箕技术有限公司 指纹成像模组和电子设备
CH713453A1 (de) * 2017-02-13 2018-08-15 Evatec Ag Verfahren zur Herstellung eines Substrates mit einer bordotierten Oberfläche.
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
CN114085038A (zh) 2018-08-17 2022-02-25 康宁股份有限公司 具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品
US20220009824A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering
KR20220076179A (ko) * 2020-11-30 2022-06-08 삼성전자주식회사 비정질 질화 붕소막 및 이를 포함하는 반사 방지 코팅 구조체
CN113274559A (zh) * 2021-05-16 2021-08-20 王燕 一种检验科用抑菌注射器针头及其表面处理方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0610338B2 (ja) * 1985-08-30 1994-02-09 日本電信電話株式会社 ホウ素薄膜の形成方法
JPH01136963A (ja) * 1987-11-20 1989-05-30 Olympus Optical Co Ltd 窒化ホウ素薄膜の形成方法
JPH0397847A (ja) * 1989-09-07 1991-04-23 Nissin Electric Co Ltd 窒化ホウ素膜の形成方法
US5637353A (en) * 1990-09-27 1997-06-10 Monsanto Company Abrasion wear resistant coated substrate product
FR2728559B1 (fr) * 1994-12-23 1997-01-31 Saint Gobain Vitrage Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire

Also Published As

Publication number Publication date
CN101233259A (zh) 2008-07-30
WO2007015023A3 (fr) 2007-03-22
EP1913170A2 (fr) 2008-04-23
FR2889202B1 (fr) 2007-09-14
FR2889202A1 (fr) 2007-02-02
WO2007015023A2 (fr) 2007-02-08
JP2009503268A (ja) 2009-01-29
KR20080032132A (ko) 2008-04-14
US20090017314A1 (en) 2009-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008107990A (ru) Способ нанесения слоя, устойчивого к царапанью
RU2008120706A (ru) Способ обработки подложки
RU2006130800A (ru) Способ очистки подложки
KR101167369B1 (ko) 브러슁된 금속 외관을 가진 코팅된 비금속성 시트, 및 이를 위한 코팅 및 이의 제조 방법
CA2648686C (en) Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties
Jamali Investigation and review of mirrors reflectance in parabolic trough solar collectors (PTSCs)
KR101860282B1 (ko) 적외선 반사 필름
US5563734A (en) Durable low-emissivity solar control thin film coating
EP0341844A2 (en) Protected silvered substrates and mirrors containing the same
EP3356306B1 (en) Near infrared reflective coated articles
RU2004136588A (ru) Изделие из стекла с отражающим солнцезащитным покрытием
KR20020005038A (ko) 기판용 경화성 긁힘 방지 코팅
RU2006141003A (ru) Способ вакуумного напыления
CN105584158A (zh) 电磁辐射屏蔽装置
CA2132951A1 (en) Improved high transmittance, low emissivity coatings for substrates
EA028233B1 (ru) Солнцезащитное остекление
WO2006041924A3 (en) Thin film coating and temporary protection technology, insulating glazing units, and associated methods
AU2003274021A1 (en) Method for vapor-depositing strip-shaped substrates with a transparent barrier layer made of aluminum oxide
MY148663A (en) Glass article having a zinc oxide coating and method for making same
WO2016171620A1 (en) A multilayer coating
EP1865344A1 (en) High reflection mirror and process for producing the same
KR20150030366A (ko) 폴리카보네이트의 내마모성 및 자외선에 대한 내후성 향상을 위한 코팅막 증착 방법 및 이 방법에 의한 코팅막이 증착된 폴리카보네이트
KR101796382B1 (ko) 플라스틱 소재의 내스크래치 특성 향상 및 자외선 차단을 위한 고경도 투명 코팅막
JPH01299029A (ja) 熱線反射膜

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20101214