RU2005113246A - Способ микроструктурирования посредством местного избирательного сублимирования - Google Patents
Способ микроструктурирования посредством местного избирательного сублимирования Download PDFInfo
- Publication number
- RU2005113246A RU2005113246A RU2005113246/12A RU2005113246A RU2005113246A RU 2005113246 A RU2005113246 A RU 2005113246A RU 2005113246/12 A RU2005113246/12 A RU 2005113246/12A RU 2005113246 A RU2005113246 A RU 2005113246A RU 2005113246 A RU2005113246 A RU 2005113246A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- carrier
- substrate
- coated
- molecular weight
- low molecular
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/18—Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/321—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3]
- H10K85/324—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3] comprising aluminium, e.g. Alq3
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
Claims (5)
1. Способ микроструктурирования посредством местного избирательного сублимирования, при котором для изготовления узоров или картинок из органических электоролюминесцентных компонентов присутствующий на носителе низкомолекулярный излучающий материал благодаря сублимации наносят на места на подложке, которые соответствуют созданному узору или картине, при этом сначала носитель (1) из термостойкого материала ровно покрывают излучающим материалом, затем покрытый носитель (1) и подложку (3) располагают в вакуумной камере (4) напротив и близко друг к другу, причем покрытую сторону носителя (1) обращают к подложке (3), а после этого носитель (1) с непокрытой стороны локально и кратковременно нагревают в местах, соответствующих производимому на подложке узору или картинке, до достаточной для сублимации излучающего материала температуры, отличающийся тем, что в качестве излучающего материала используется низкомолекулярный излучающий материал, при этом носитель (1) покрыт по меньшей мере двумя следующими друг за другом слоями различных низкомолекулярных материалов, причем различные материалы слоев не смешаны, при этом в процессе сублимирования различные материалы образуют смешанный слой на подложке (3).
2. Способ по п.2, отличающийся тем, что в качестве носителя (1) используют полиимидную фольгу.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что для локального нагревания носителя (1) используют структурированный электрический нагревательный элемент.
4. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что для локального нагревания носителя (1) используют лазерное излучение или излучение лампы при соответствующей оптике.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве низкомолекулрных материалов используют материалы, которые улучшают инжекцию носителей заряда.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10246425A DE10246425A1 (de) | 2002-10-04 | 2002-10-04 | Verfahren zur Mikrostrukturierung mittels ortsselektiver Sublimation |
DE10246425.1 | 2002-10-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2005113246A true RU2005113246A (ru) | 2005-10-10 |
Family
ID=32010244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2005113246/12A RU2005113246A (ru) | 2002-10-04 | 2003-10-01 | Способ микроструктурирования посредством местного избирательного сублимирования |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060127565A1 (ru) |
EP (1) | EP1545895B1 (ru) |
JP (1) | JP2006502543A (ru) |
KR (1) | KR20050083708A (ru) |
CN (1) | CN1703323A (ru) |
AT (1) | ATE322990T1 (ru) |
AU (1) | AU2003276013A1 (ru) |
DE (2) | DE10246425A1 (ru) |
PL (1) | PL374763A1 (ru) |
RU (1) | RU2005113246A (ru) |
WO (1) | WO2004033223A1 (ru) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100699993B1 (ko) * | 2004-08-30 | 2007-03-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레이저 열전사 방법 |
JP2008174783A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | パターン状の蒸着膜の製造方法 |
TW201431155A (zh) * | 2013-01-23 | 2014-08-01 | Au Optronics Corp | 形成圖案化結構層之方法 |
KR102065763B1 (ko) * | 2013-03-27 | 2020-01-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 승화형 열전사 방법을 이용하는 유기 전계 발광 표시 장치의 유기 발광 패턴 형성 방법 및 유기 발광 패턴 형성 장치 |
CN105633302B (zh) * | 2015-12-29 | 2017-08-04 | 昆山国显光电有限公司 | 一种图形化有机功能层的制备方法及应用 |
CN108944110B (zh) * | 2018-07-05 | 2020-02-07 | 浙江大学 | 高速高分辨率的选择性转移印刷方法 |
CN112553930B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-04-07 | 濮阳圣恺环保新材料科技股份有限公司 | 一种利用可控温激光照射进行分散染料印花染色的工艺 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5688551A (en) * | 1995-11-13 | 1997-11-18 | Eastman Kodak Company | Method of forming an organic electroluminescent display panel |
US5756240A (en) * | 1997-01-24 | 1998-05-26 | Eastman Kodak Company | Method of making color filter arrays by transferring colorant material |
US5904961A (en) * | 1997-01-24 | 1999-05-18 | Eastman Kodak Company | Method of depositing organic layers in organic light emitting devices |
US5937272A (en) * | 1997-06-06 | 1999-08-10 | Eastman Kodak Company | Patterned organic layers in a full-color organic electroluminescent display array on a thin film transistor array substrate |
JP2918037B1 (ja) * | 1998-06-18 | 1999-07-12 | 日本電気株式会社 | カラー有機elディスプレイとその製造方法 |
JP2000195665A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Toyota Motor Corp | 有機膜の形成方法 |
JP2000192231A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜パタ―ン形成方法及び有機elディスプレイの製造方法 |
EP1144197B1 (en) * | 1999-01-15 | 2003-06-11 | 3M Innovative Properties Company | Thermal Transfer Method. |
JP2001196166A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-07-19 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント基板およびエレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
US6855384B1 (en) * | 2000-09-15 | 2005-02-15 | 3M Innovative Properties Company | Selective thermal transfer of light emitting polymer blends |
US6358664B1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-03-19 | 3M Innovative Properties Company | Electronically active primer layers for thermal patterning of materials for electronic devices |
JP2002222694A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Sharp Corp | レーザー加工装置及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示パネル |
-
2002
- 2002-10-04 DE DE10246425A patent/DE10246425A1/de not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-10-01 US US10/530,255 patent/US20060127565A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-01 AT AT03807828T patent/ATE322990T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-10-01 WO PCT/EP2003/010863 patent/WO2004033223A1/de active IP Right Grant
- 2003-10-01 KR KR1020057005630A patent/KR20050083708A/ko not_active Application Discontinuation
- 2003-10-01 PL PL03374763A patent/PL374763A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2003-10-01 RU RU2005113246/12A patent/RU2005113246A/ru not_active Application Discontinuation
- 2003-10-01 AU AU2003276013A patent/AU2003276013A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-01 EP EP03807828A patent/EP1545895B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-01 DE DE50302969T patent/DE50302969D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-01 JP JP2004542390A patent/JP2006502543A/ja active Pending
- 2003-10-01 CN CNA2003801008462A patent/CN1703323A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10246425A1 (de) | 2004-04-15 |
EP1545895B1 (de) | 2006-04-12 |
JP2006502543A (ja) | 2006-01-19 |
ATE322990T1 (de) | 2006-04-15 |
CN1703323A (zh) | 2005-11-30 |
EP1545895A1 (de) | 2005-06-29 |
WO2004033223A1 (de) | 2004-04-22 |
AU2003276013A1 (en) | 2004-05-04 |
US20060127565A1 (en) | 2006-06-15 |
DE50302969D1 (de) | 2006-05-24 |
PL374763A1 (en) | 2005-10-31 |
KR20050083708A (ko) | 2005-08-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100952464B1 (ko) | 감습성 또는 산소-민감성인 유기발광 다이오드(oled)장치의 동일반응계 제조방법 | |
CA2832543C (en) | Method for drying thin films in an energy efficient manner | |
TWI295857B (en) | In situ vacuum method for making oled devices | |
DE60143926D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Vakuum-Ausdampfen | |
JP2004527075A5 (ru) | ||
CN1838843A (zh) | 用于制作图案化的有机电致发光器件的方法 | |
JP2000195665A (ja) | 有機膜の形成方法 | |
ATE540437T1 (de) | Herstellungsverfahren einer organischen dünnschicht-vorrichtung | |
TW200302679A (en) | Making electroluminescent display devices | |
RU2005113246A (ru) | Способ микроструктурирования посредством местного избирательного сублимирования | |
WO2006015328A3 (en) | Pulse thermal processing of functional materials using directed plasma arc | |
JP4941297B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2009211890A (ja) | 有機el表示装置 | |
US10011104B2 (en) | Method for performing delamination of a polymer film | |
ATE141306T1 (de) | Beschichtungsverfahren | |
EP1162673B1 (en) | Method of making an emissive layer for an organic light-emitting device | |
US4686114A (en) | Selective electroless plating | |
JP5715802B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP6830279B2 (ja) | ポリマーフィルムの剥離を実施するための方法 | |
JPH03174307A (ja) | 酸化物超電導体の製造方法 | |
KR100905282B1 (ko) | 반도체 및/또는 전계발광 디스플레이 유기층 구조의생산을 위한 방법 및 장치 | |
JP2020192815A (ja) | ポリマーフィルムの剥離を実施するための方法 | |
TW200926476A (en) | Light- emitting component with wavelength converter and manufacturing method thereof | |
JPS63245920A (ja) | 半導体アニ−ル方法 | |
NL1023125C2 (nl) | Methode voor het bewerkstelligen van een gestructureerde polymere halfgeleider, en een lichtemitterende diode, transistor, fotodiode of sensor omvattende een gestructureerde polymere halfgeleider zoals verkregen met de methode. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20070301 |