RU2000114832A - Амплитудная маска и устройство и способ изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом, использующего такую амплитудную маску - Google Patents

Claims (9)

1. Амплитудная маска для периодического пропускания лазерного излучения к оптическому волокну, в котором решетка с протяженным периодом изготавливается за счет избирательного пропускания лазерного излучения к оптическому волокну, содержащая две маски, имеющие периодически чередующиеся области пропускания для прохождения лазерного излучения и области, не пропускающие излучение, для предотвращения прохождения лазерного излучения, в которой две маски непрерывно вращаются в противоположных направлениях, и период области пропускания, таким образом, непрерывно изменяется.

2. Амплитудная маска по п. 1, в которой подложка маски формируется из металла.

3. Амплитудная маска по п. 1, в которой период (Λ) амплитудной маски определяется следующим образом

где Λ₀ - период маски, и α - угол поворота двух масок.

4. Устройство для изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом, содержащее лазерный оптический источник для создания лазерного излучения, часть с амплитудной маской, период которой регулируется за счет перекрытия двух масок, каждая из которых имеет заданный период, и поворота двух перекрываемых масок на заданный угол, и которая избирательно пропускает лазерное излучение к оптическому волокну, в котором должна формироваться решетка с протяженным периодом в соответствии с регулируемым периодом, и вращающее устройство для поворота двух масок на заданный угол в противоположных направлениях.

5. Устройство для изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом по п. 4, дополнительно содержащее второй оптический источник, детектор для обнаружения пика взаимодействия фильтра на основе решетки с протяженным периодом, с одного конца оптического волокна, в котором была сформирована решетка с протяженным периодом, когда световое излучение, генерированное вторым оптическим источником, попадает на другой конец оптического волокна, в котором была сформирована решетка с протяженным периодом, и регулятор для регулировки вращающего устройства для получения требуемой длины пика волны взаимодействия за счет приема длины волны на пике взаимодействия от детектора.

6. Устройство для изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом по п. 4, в котором материал подложки маски представляет собой металл.

7. Устройство для изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом по п. 5, где период (Λ) амплитудной маски определяется следующим образом

где Λ₀ - период маски, и α - угол поворота двух масок.

8. Устройство для изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом, содержащее лазерный оптический источник, зеркало для изменения пути лазерного излучения, создаваемого лазерным оптическим источником, линзу для настройки фокуса лазерного излучения, путь которого был изменен, часть с амплитудной маской, период которой регулируется за счет перекрытия двух масок, каждая из которых имеет заданный период, и поворота двух перекрываемых масок на заданный угол, и которая избирательно пропускает лазерное излучение, прошедшее через линзу, к оптическому волокну, в котором должна быть сформирована решетка с протяженным периодом в соответствии с регулируемым периодом, детектор для обнаружения пика взаимодействия фильтра на основе решетки с протяженным периодом, сформированного на оптическом волокне, и регулятор для регулировки периода амплитудной маски для получения требуемой длины волны пика взаимодействия за счет приема длины волны на пике взаимодействия от детектора.

9. Способ изготовления фильтра на основе решетки с протяженным периодом, включающий этапы перекрытия двух масок, в каждой из которых области, которые пропускают лазерное излучение, чередуются с областями, которые не пропускают лазерное излучение, и поворота двух масок в противоположных направлениях, облучения лазерным излучением оптического волокна через области, пропускающие излучение, сформированные с заданными периодами на двух повернутых масках и формирования решетки с протяженным периодом на оптическом волокне, и измерения пика взаимодействия, определяемого решеткой с протяженным периодом, за счет прохождения излучения через оптическое волокно, на котором сформирована решетка с протяженным периодом, и регулировки угла поворота, на который поворачиваются две маски таким образом, что измеряемый пик взаимодействия достигается на требуемой длине волны.