KR100258968B1 - 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치 - Google Patents

진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100258968B1
KR100258968B1 KR1019970034112A KR19970034112A KR100258968B1 KR 100258968 B1 KR100258968 B1 KR 100258968B1 KR 1019970034112 A KR1019970034112 A KR 1019970034112A KR 19970034112 A KR19970034112 A KR 19970034112A KR 100258968 B1 KR100258968 B1 KR 100258968B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
amplitude mask
laser light
period
region
period grating
Prior art date
Application number
KR1019970034112A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990011141A (ko
Inventor
장주녕
곽경호
최보훈
Original Assignee
윤종용
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019970034112A priority Critical patent/KR100258968B1/ko
Priority to JP20519498A priority patent/JP3165113B2/ja
Priority to CN98103044A priority patent/CN1120991C/zh
Priority to US09/119,783 priority patent/US6004703A/en
Publication of KR19990011141A publication Critical patent/KR19990011141A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100258968B1 publication Critical patent/KR100258968B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
    • G02B6/02085—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response characterised by the grating profile, e.g. chirped, apodised, tilted, helical
    • G02B6/02095—Long period gratings, i.e. transmission gratings coupling light between core and cladding modes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02142—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating based on illuminating or irradiating an amplitude mask, i.e. a mask having a repetitive intensity modulating pattern
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)

Abstract

본 발명의 장주기 격자 필터 제조장치에 사용되는 진폭 마스크는 레이저광을 선택적으로 통과시킬 수 있도록 일정한 주기를 갖는 통과영역과 상기 레이저광이 통과하지 않는 비통과영역으로 구성되는 금속 기판과, 상기 금속 기판의 비통과영역 상에 형성되어 상기 통과영역의 주기를 변경시킬 수 있는 압전 소자를 포함하여 구성된다. 상기 통과영역은 상기 금속 기판의 중앙부에 형성되어 있고, 상기 압전 소자는 상기 통과영역의 상하부에 형성되어 있다. 상기 압전소자는 상기 비통과영역 상에 복수개 형성되어 있어 상기 통과영역의 주기를 다양하게 변경시킬 수 있다.

Description

진폭 마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치
본 발명은 광 수동소자에 관한 것으로, 특히 짙폭 마스크 및 이를 이용한 장 주기 격자 필터(long period grating filter) 제조 장치에 관한 것이다.
최근에, 광통신 발달과 더불어 광 수동 소자로써 장 주기 격자 필터(long period grating filter)가 큰 관심을 끌고 있다. 상기 장주기 격자 필터는 광섬유의 코아로 진행하는 코아 모드(core mode)를 클래딩 모드(cladding mode)로 커플링시키는 소자로 자외선에 민감(sensitive)한 광섬유의 코아에 주기적으로 굴절율 변화를 주어 제작한다. 즉 광에 노출된 부분은 굴절율이 증가하고 그렇지 않는 부분은 변화가 없어 주기적인 굴절율 변화가 발생한다. 그리고, 상기 코아 모드를 클래딩 모드(cladding mode)로 커플링시키기 위하여는 다음의 수학식 1을 만족하여야 한다.
Figure 1019970034112_B1_M0001
상기 수학식 1에서, 상기 βco는 코아 모드의 전달 상수(propagation constant)이고, βcl n 는 n차 클래딩 모드의 전달 상수(propagation constant)이고, Λ는 격자 주기(grating period)이다.
그런데, 상기 수학식 1에서 β= 2πn/λ(여기서, n은 굴절율)을 대입하면 상기 수학식 1은 nco- ncl= λ/Λ가 된다. 따라서, 어떤 파장을 클래딩 모드로 변경시키기 위하여는 주기(Λ)와 굴절율차(nco- ncl)을 정하면 된다. 상기 굴절율차는 자외선에 민감한 광섬유에 자외선 레이저를 적절히 감광시켜 얻을 수 있다.
여기서, 자외선 레이저를 조사하여 장 주기 격자 필터를 제조하는 장주기 격자 필터 제조장치를 설명한다.
도 1은 종래의 장 주기 격자 필터 제조 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
구체적으로, 종래의 장주기 격자 필터 제조장치는 자외선 레이저를 조사할 수 있는 고출력의 엑시머(excimer) 레이저 광원(1)과, 상기 액시머 레이저 광원(1)에서 방출된 레이저 광의 경로(2)를 변경하는 미러(3)와, 상기 미러(3)에 의하여 광이 변경된 레이저 광의 초점을 조절하는 렌즈(5)와, 상기 렌즈를 통과한 레이저 광을 선택적으로 통과시키는 실리카 마스크(7)와, 상기 실리카 마스크(7)를 통과한 레이저 광이 조사되어 코아에 장주기 격자가 형성되는 광섬유(9)로 구성된다.
도 1에 도시한 장 주기 격자 제조장치를 이용하여 장 주기 격자 필터를 제작하는 과정은 레이저 광을 렌즈(5)를 통과하여 실리카 마스크(5)와 접촉되어 있는 광섬유(9)에 조사되도록 한다. 이때, 광섬유(9)에는 레이저광이 조사되어 굴절율이 다른 장 주기 격자가 형성되는데, 광섬유(9)에 광소스(11)를 이용하여 광을 통과시켜 검출기(13)로 광을 검출하여 원하는 장 주기 격자 필터를 얻을 수 있다.
그런데, 상기 장 주기 격자 필터 제조장치에 있어서, 상기 실리카 마스크(7)는 실리카 기판 상에 크롬을 도포한 후 패터닝하여 얻어진 크롬 패턴으로 구성되어 있다. 따라서, 상기 크롬 패턴으로 인하여 레이저 광이 선택적으로 통과된다. 그러나, 상기 크롬 패턴은 손상 한계(damage threshold)가 100mJ/cm2로 낮아 고출력의 엑서머 레이저 광을 효율적으로 이용할 수 없는 단점이 있다. 더욱이, 상기 실리카 마스크는 실리카 기판 상에 크롬 패턴을 형성하여 제조하기 때문에 하나의 주기밖에 가지지 못하는 단점이 있다.
따라서, 본 발명의 기술적 과제는 상술한 실리카 마스크의 문제점을 해결할 수 있는 새로운 마스크를 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 기술적 과제는 상기 새로운 마스크를 이용한 장 주기 격자 필터 제조 장치를 제공하는 데 있다.
도 1은 종래의 장 주기 격자 필터 제조 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명에 의한 장 주기 격자 필터 제조 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3은 도 2의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 의하여 제조된 장 주기 격자 필터를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4은 도 2의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 적용할 수 있는 진폭 마스크의 일예를 확대하여 도시한 평면도이다.
도 5는 도 2의 장 주기 격자 필터의 투과 스펙트럼을 도시한 그래프이다.
도 6은 도 2의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 적용할 수 있는 진폭 마스크의 다른 예를 확대하여 도시한 평면도이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 장주기 격자 필터 제조장치에 사용되는 진폭 마스크는 레이저광을 선택적으로 통과시킬 수 있도록 일정한 주기를 갖는 통과영역과 상기 레이저광이 통과하지 않는 비통과영역으로 구성되는 금속 기판과, 상기 금속 기판의 비통과영역 상에 형성되어 상기 통과영역의 주기를 변경시킬 수 있는 압전 소자를 포함하여 구성된다. 상기 통과영역은 상기 금속 기판의 중앙부에 형성되어 있고, 상기 압전 소자는 상기 통과영역의 상하부에 형성되어 있다. 상기 압전소자는 상기 비통과영역 상에 복수개 형성되어 있어 상기 통과영역의 주기를 다양하게 변경시킬 수 있다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 레이저 광원, 상기 레이저 광원에서 방출된 레이저 광의 초점을 조절하는 렌즈와, 상기 렌즈를 통과한 레이저 광을 장주기 격자가 형성되는 광섬유에 선택적으로 조사하는 진폭 마스크를 구비한 장주기 격자 필터 제조장치에 있어서, 상기 진폭 마스크는 금속 기판 상에 상기 레이저광을 선택적으로 통과시킬 수 있도록 일정한 주기를 갖는 통과영역과 상기 레이저광이 통과하지 않는 비통과영역으로 구성되며, 상기 비통과영역 상에 압전소자가 형성되어 상기 통과영역의 주기를 변경시킬 수 있다. 상기 통과영역은 상기 금속 기판의 중앙부에 형성되어 있고, 상기 압전 소자는 상기 통과영역의 상하부에 형성되어 있다. 상기 압전소자는 상기 비통과영역 상에 복수개 형성되어 있어 상기 통과영역의 주기를 다양하게 변경시킬 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 의한 장 주기 격자 필터 제조 장치를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 3은 도 2의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 의하여 제조된 장 주기 격자 필터를 개략적으로 도시한 도면이다.
구체적으로, 본 발명의 장주기 격자 필터 제조장치는 엑시머(excimer) 레이저 광원(21)과, 상기 액시머 레이저 광원(21)에서 방출된 레이저 광의 경로(22)를 변경하는 미러(23)와, 상기 미러(23)에 의하여 광이 변경된 레이저 광의 초점을 조절하는 렌즈(25)와, 상기 렌즈(25)를 통과한 레이저 광을 선택적으로 통과시키는 진폭 마스크(27)와, 상기 진폭 마스크(27)를 통과한 레이저 광이 조사되어 코아에 장주기 격자가 형성되는 광섬유(29)로 구성된다. 상기 엑서머 레이저(21)는 자외선 영역의 광을 방출하며, 상기 광섬유(29)는 상기 자외선 영역의 광에 민감한 광섬유이다.
도 2에 도시한 도 2에 도시한 장 주기 격자 필터 제조장치를 이용하여 장 주기 격자 필터를 제작하는 과정은 레이저 광을 렌즈(25)를 통과하여 금속 마스크(27)와 접촉되어 있는 광섬유(29)에 조사되도록 한다. 이때, 광섬유(29)에는 레이저 광이 조사되어 도 3에 도시한 바와 같이 굴절율이 다르고 임의의 주기를 갖는 장 주기 격자가 코아층(29a)에 형성된다. 도 3에서, 참조번호 29b는 클래드층을 나타내며, 참조번호 30a는 레이저 광이 조사된 영역을 나타내며, 참조번호 30b는 레이저 광이 조사되지 않은 영역을 나탄낸다.
한편, 상기 장 주기 격자의 주기를 Λ라 하고 λ1이 nco- ncl= λ1/Λ 조건을 만족한다고 할 때 λ1, λ2, λ3.....의 입력에 따라서 λ1', λ2, λ3.....의 출력이 나타난다 (여기서, λ1에서 λ1'으로 변경은 출력이 달라짐을 의미한다). 그러므로, 상기 광섬유(29)에 광소스(31)를 이용하여 광을 통과시켜 검출기(33)로 광을 검출하여 원하는 장 주기 격자 필터를 얻을 수 있다.
도 4은 도 2의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 적용할 수 있는 진폭 마스크의 일예를 확대하여 도시한 평면도이다.
구체적으로, 상기 진폭 마스크(27)는 금속 기판, 예컨대 스테인레스 기판으로 구성되며 상기 금속 기판은 수백 ㎛, 예컨대 200 ∼500㎛의 주기(Λ)로 광을 통과시킬 수 있는 통과영역(27a)과 그 외의 비통과영역(27b)으로 구성된다. 상기 통과영역(27a)은 이산화탄소 레이저를 이용하여 가공하였다. 또한, 상기 통과영역(27a)의 상하부의 비통과영역(27b) 상에 압전 소자(35)를 구비한다. 상기 압전 소자(35)는 양측에 전압을 인가할 수 있어 상기 진폭 마스크의 주기를 조절할 수 있다.
여기서, 상기 압전 소자에 전압을 걸었을때와 그렇치 않을 경우의 주기 변경에 따른 투과 스펙트럼을 설명한다.
도 5는 도 2의 장 주기 격자 필터의 투과 스펙트럼을 도시한 그래프이다.
먼저, 압전 소자에 전압을 걸어주지 않았을 때 주기를 Λ라 하면 커플링되는 파장은 위에서 설명한 바와 같이 조건, 즉 nco- ncl= λ/Λ을 만족해야 한다. 다시 말하면, ncl은 n1 cl, n2 cl, n3 cl...... 값을 가지므로 커플링되는 파장은 λ1, λ2,λ3...,값을 가지게 되어 투과 스펙트럼은 참조부호 "a"와 같이 나타난다.
다음에, 압전 소자에 전압을 걸어주어 주기를 ΔΛ만큼 바꿔주면 커플링되는 파장은 상술한 바와 같은 조건, 즉 nco- ncl= λ'/(Λ + ΔΛ)을 만족한다. 다시 말하면, 파장 λ'은 λ에 비해 Δλ(nco- ncl)값 만큼 이동되어 투과 스펙트럼은 참조부호 "b"와 같이 나타난다. 이와 같이 본 발명의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 사용되는 진폭 마스크는 커필링 시키고자 하는 파장을 임의로 선택할 수 있다.
도 6은 도 2의 장 주기 격자 필터 제조 장치에 적용할 수 있는 진폭 마스크의 다른 예를 확대하여 도시한 평면도이다. 도 6에 있어서, 상기 도 4와 동일한 참조번호는 동일한 부재를 나타낸다.
구체적으로, 도 6에 도시한 진폭 마스크(27)는 도 4와 동일한데, 다만 상기 통과영역(27a)의 상하부의 비통과영역(27b) 상에 형성되는 압전 소자(25)를 복수개(n개) 구비한다. 이렇게 압전 소자를 복수개 구비하고 이를 연결하면 다양한 주기를 갖는 진폭 마스크를 얻을 수 있다. 다시 말하면, n개의 압전 소자(35)를 연결하여 각각의 압전 소자에 전압을 걸어줌으로써 하나의 마스크로 다른 주기를 갖는 진폭 마스크를 얻을 수 있다.
한편, 본 발명의 진폭 마스크는 EDFA(Erbium-doped Fiber Amplifier)의 ASE(Amplified spontaneous Emission) 스펙트럼은 파장에 대해 변동(fluctuation)을 보여 다중채널통신에의 응용에 있어서 단점을 보이는 데, 이에 이용될 수 있다. 다시 말하면, 본 발명의 진폭 마스크의 하나의 압전소자에 V1의 전압을 걸고, 다른 하나의 압전소자에 V2의 전압을 걸어줌으로써 Λ1, Λ2의 주기를 갖게 해서 하나의 진폭 마스크를 이용하여 두 파장의 커플링을 가능하게 할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 명백하다.
상술한 바와 같이 본 발명의 장 주기 격자 필터 제조장치는 하나의 주기만을 갖는 실리카 마스크 대신에 금속 기판 상에 압전소자가 장착된 진폭 마스크를 채용하였다. 이에 따라, 본 발명의 장 주기 격자 필터 제조 장치는 진폭 마스크의 주기를 임의로 조절할 수 있다. 더욱이, 본 발명의 장 주기 격자 필터 제조 장치는 상기 금속 기판 상에 장착되는 압전소자를 복수개 형성된 진폭마스크를 채용함으로써 다른 주기를 갖는 마스크를 동시에 이용할 수 있다.

Claims (6)

  1. 장주기 격자 필터 제조장치에 사용되는 진폭 마스크에 있어서,
    상기 진폭 마스크는 레이저광을 선택적으로 통과시킬 수 있도록 일정한 주기를 갖는 통과영역과 상기 레이저광이 통과하지 않는 비통과영역으로 구성되는 금속 기판과, 상기 금속 기판의 비통과영역 상에 형성되어 상기 통과영역의 주기를 변경시킬 수 있는 압전 소자를 포함하여 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 진폭 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 통과영역은 상기 금속 기판의 중앙부에 형성되어 있고, 상기 압전 소자는 상기 통과영역의 상하부에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진폭 마스크.
  3. 제2항에 있어서, 상기 압전소자는 상기 비통과영역 상에 복수개 형성되어 있어 상기 통과영역의 주기를 다양하게 변경시킬 수 있는 특징으로 하는 진폭 마스크.
  4. 레이저 광원, 상기 레이저 광원에서 방출된 레이저 광의 초점을 조절하는 렌즈와, 상기 렌즈를 통과한 레이저 광을 장주기 격자가 형성되는 광섬유에 선택적으로 조사하는 진폭 마스크를 구비한 장주기 격자 필터 제조장치에 있어서,
    상기 진폭 마스크는 금속 기판 상에 상기 레이저광을 선택적으로 통과시킬 수 있도록 일정한 주기를 갖는 통과영역과 상기 레이저광이 통과하지 않는 비통과영역으로 구성되며, 상기 비통과영역 상에 압전소자가 형성되어 상기 통과영역의 주기를 변경시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 장 주기 격자 필터 제조장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 통과영역은 상기 금속 기판의 중앙부에 형성되어 있고, 상기 압전 소자는 상기 통과영역의 상하부에 형성되어 있는 것을 특징으로 장 주기 격자 필터 제조 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 압전소자는 상기 비통과영역 상에 복수개 형성되어 있어 상기 통과영역의 주기를 다양하게 변경시킬 수 있는 특징으로 하는 장 주기 격자 필터 제조 장치.
KR1019970034112A 1997-07-21 1997-07-21 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치 KR100258968B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970034112A KR100258968B1 (ko) 1997-07-21 1997-07-21 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치
JP20519498A JP3165113B2 (ja) 1997-07-21 1998-07-21 振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置
CN98103044A CN1120991C (zh) 1997-07-21 1998-07-21 振幅掩模和用其制作长周期光栅滤波器的装置
US09/119,783 US6004703A (en) 1997-07-21 1998-07-21 Amplitude mask and apparatus for manufacturing long period grating filter using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970034112A KR100258968B1 (ko) 1997-07-21 1997-07-21 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990011141A KR19990011141A (ko) 1999-02-18
KR100258968B1 true KR100258968B1 (ko) 2000-06-15

Family

ID=19515219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970034112A KR100258968B1 (ko) 1997-07-21 1997-07-21 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6004703A (ko)
JP (1) JP3165113B2 (ko)
KR (1) KR100258968B1 (ko)
CN (1) CN1120991C (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100265794B1 (ko) * 1997-12-08 2000-09-15 윤종용 주기가 조절가능한 진폭 마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치
CN1092338C (zh) * 1999-03-12 2002-10-09 清华大学 采用莫尔条纹振幅模板制造光纤光栅的方法
KR100318903B1 (ko) * 2000-01-14 2001-12-29 윤종용 장주기 광섬유 격자
US6832023B1 (en) 2000-05-19 2004-12-14 Georgia Tech Research Corporation Optical fiber gratings with azimuthal refractive index perturbation, method of fabrication, and devices for tuning, attenuating, switching, and modulating optical signals
CA2354211A1 (en) * 2001-07-26 2003-01-26 Paul Lefebvre Reel to reel manufacturing line
US6556729B2 (en) * 2001-07-27 2003-04-29 The United States Of America As Represented By The National Security Agency Acousto-optic bandpass filter
AU2002215768A1 (en) * 2001-12-13 2003-07-09 Institut National D'optique Tunable phase mask assembly
US7362939B2 (en) 2001-12-13 2008-04-22 The Furukawa Electric Co., Ltd. Optical fiber for long period grating, long period grating component and manufacturing method of the same
US6643066B2 (en) 2001-12-13 2003-11-04 Institut National D'optique Tunable phase mask assembly
US7277604B2 (en) * 2003-12-12 2007-10-02 Lxsix Photonics Inc. Method and apparatus for inducing an index of refraction change on a substrate sensitive to electromagnetic radiation
DE102007035911A1 (de) * 2007-07-27 2009-01-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp
CN101706429B (zh) * 2009-11-02 2012-07-11 浙江大学 基于长周期光栅的玻璃基光传感器
CN110542946B (zh) * 2018-05-28 2022-07-22 福州高意光学有限公司 一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0191063B1 (en) * 1984-08-13 1992-05-13 United Technologies Corporation Method for impressing grating within fiber optics
US5007705A (en) * 1989-12-26 1991-04-16 United Technologies Corporation Variable optical fiber Bragg filter arrangement
US5133990A (en) * 1990-04-05 1992-07-28 Crystal Technology, Inc. Technique for mass production of coded surface acoustic wave devices
JPH06230298A (ja) * 1993-02-02 1994-08-19 Olympus Optical Co Ltd 回折光学素子
US5620495A (en) * 1995-08-16 1997-04-15 Lucent Technologies Inc. Formation of gratings in polymer-coated optical fibers

Also Published As

Publication number Publication date
CN1120991C (zh) 2003-09-10
CN1206117A (zh) 1999-01-27
JP3165113B2 (ja) 2001-05-14
US6004703A (en) 1999-12-21
KR19990011141A (ko) 1999-02-18
JPH11133221A (ja) 1999-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100258968B1 (ko) 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치
KR100425568B1 (ko) 광회절격자
KR100282993B1 (ko) 복잡한 스펙트럼 성형 응용을 위한 광신호 성형 장치
EP0821251B1 (en) Variable optical waveguide attenuator
CA2311586C (en) Amplitude mask, and apparatus and method for manufacturing long period grating filter using the same
TWI362195B (en) Method of filtering optical signals with a capillary waveguide tunable optical device
KR100283953B1 (ko) 장주기 광섬유 격자 제작 장치
AU5306499A (en) Apparatus for manufacturing long-period fiber gratings and apparatus for manufacturing two-band long-period fiber gratings using the same
US7409133B2 (en) Capillary waveguide tunable optical device
JP2002539495A (ja) 温度補償長周期光ファイバ格子フィルタ
JPH1184152A (ja) 位相マスクを用いた短周期反射ブラッグ回析格子の書き込み法
JPH11119040A (ja) 長周期格子フィルター製造のためのジグ、これを用いた長周期格子フィルターの製造装置及び方法
US6275631B1 (en) Apparatus for manufacturing long-period optical fiber grating
KR100445824B1 (ko) 광 손실 필터의 제조 방법 및 광 손실 필터
KR20020085909A (ko) 광 부호 분할 다중화 방식에 사용하기 위한 광섬유 격자부호화기와 그 제조방법 및 장치
KR100306165B1 (ko) 장주기 광섬유 격자 제조 장치
KR100294537B1 (ko) 장주기격자필터제조장치
KR100342493B1 (ko) 회절 효과를 최소화하기 위한 광섬유 격자 제작장치
KR100267516B1 (ko) 진폭 마스크를 이용한 제파 필터 제조 방법 및 장치
KR100382661B1 (ko) 아크로 제작된 광섬유의 장주기 격자 제조 방법
KR20000008018A (ko) 장주기 격자 필터 제작 방법 및 그에 따라 제작된 장주기 격자필터
AU2002301376B2 (en) Apparatus for manufacturing two-band long-period fiber gratings using the same
JPH10123346A (ja) 長周期グレーティングの作成方法及び光導波路

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080211

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee