DE102007035911A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp - Google Patents

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Andreas Prof. Dr. Tünnermann
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Matthias Heinrich
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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Gitters mit Chirp, bei dem eine Gitterstruktur in einen Träger eingeschrieben wird, indem der Träger in einem Beugungsfeld eines Beugungsgitters (3) belichtet wird, wobei das Beugungsgitter (3) zum Belichten des Trägers in einen Zustand mit ortsabhängiger relativer Längenänderung deformiert wird. Die Erfindung betrifft ferner eine entsprechende Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Gitters mit Chirp nach dem Oberbegriff des Hauptanspruchs sowie eine Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp nach dem Oberbegriff des Nebenanspruchs.
  • Ein Gitter bezeichnet man als gechirpt oder mit Chirp, wenn es eine längs des Gitters variierende Periode aufweist. Ein Beispiel für gechirpte Gitter bilden Fasergitter mit Chirp. Fasergitter sind faserinterne diffraktive Elemente, die einem Faserkern mit einem periodisch modulierten Brechungsindex aufweisen. Gechirpte Fasergitter werden unter anderem zur Dispersionskontrolle, als Pulskompressoren oder als Breitbandreflektoren verwendet.
  • Bekannte Verfahren zum Herstellen von Gittern sehen vor, dass eine Gitterstruktur in einen Träger einge schrieben wird, indem der Träger in einem Beugungsfeld eines Beugungsgitters belichtet wird. So kann beispielsweise ein Fasergitter in eine Faser eingeschrieben werden, indem die Faser einem Interferenzmuster eines breit ausgeleuchteten Transmissionsgitters einer Periode d ausgesetzt wird. Das so entstehende Fasergitter hat dann eine Periode Λ, für die Λ = d2m gilt, wobei m die verwendete Beugungsordnung des Beugungsgitters bezeichnet. Das typischerweise als Phasenmaske ausgeführte Transmissionsgitter wird dabei üblicherweise mit Elektronenstrahl-Lithografie hergestellt. Dabei ist es herkömmlicherweise nur möglich, die Periode der Phasenmaske segmentweise zu ändern, so dass man bestenfalls stufenweise gechirpte Beugungsgitter als Hilfsmittel zur Herstellung des eigentlichen Gitters erhält.
  • Der damit skizzierte Stand der Technik ist also mit dem Nachteil verbunden, dass man entweder nur stufenweise gechirpte Gitter herstellen kann oder den Träger des herzustellenden Gitters beim Einschreiben der Gitterstruktur in aufwendiger Weise biegen oder strecken muss.
  • Der Erfindung liegt also die Aufgabe zugrunde, ein entsprechendes Verfahren zum Herstellen eines Gitters vorzuschlagen, mit dem sich mit geringem Aufwand Gitter mit weitgehend beliebigem Chirp und insbesondere kontinuierlich gechirpte Gitter herstellen lassen. Der Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, eine entsprechende Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters zu entwickeln, die eine unkomplizierte Herstellung kontinuierlich gechirpter Gitter erlaubt.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren mit den kennzeichnenden Merkmalen des Hauptanspruchs in Verbindung mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Hauptanspruchs sowie durch eine Vorrichtung mit den kennzeichnenden Merkmalen des Nebenanspruchs in Verbindung mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Nebenanspruchs.
  • Das Gitter wird also dadurch mit einem Chirp realisiert, dass das Beugungsgitter zum Belichten des Trägers in einen Zustand mit ortsabhängiger relativer Längenänderung deformiert wird, bevor die Gitterstruktur in den Träger eingeschrieben wird, indem der Träger im Beugungsfeld des Beugungsgitters belichtet wird. So kann insbesondere auch ein kontinuierlich gechirptes Gitters problemlos hergestellt werden. Der hier verwendete Begriff "belichten" soll dabei nicht implizieren, dass notwendigerweise sichtbares Licht verwendet wird. Vielmehr kann das Gitter auch mit nicht sichtbarer elektromagnetischer Strahlung in den Träger eingeschrieben werden. Als Strahlungsquelle kann dabei beispielsweise ein Laser dienen, der sich zum Erzeugen von Interferenzmustern besonders gut eignet. Die genannte ortsabhängige relative Längenänderung bezeichnet eine Längenänderung gegenüber einem Ausgangszustand des Beugungsgitters.
  • Im Gegensatz zu den erwähnten bekannten Verfahren, den Träger – beispielsweise eine Faser – zum Einschreiben des Gitters zu dehnen oder zu biegen, gewährleistet das hier vorgeschlagene Verfahren eine gute und genaue Reproduzierbarkeit des Chirps. Außerdem ermöglicht dieses Verfahren, mit einem einzigen Beugungsgitter, also beispielsweise mit einer Phasenmaske, verschiedene Chirps bei verschiedenen Wellenlängen nur durch unterschiedliches Deformieren zu realisieren. Das Verfahren ist damit sehr flexibel.
  • Eine zur Durchführung des geschilderten Verfahrens geeignete Vorrichtung umfasst eine Strahlungsquelle, beispielsweise einen Laser, ein mit der Strahlungsquelle vorzugsweise breit ausleuchtbares Beugungsgitter und eine Haltevorrichtung, mit der der Träger des herzustellenden Gitters im Beugungsfeld des Beugungsgitters gehalten werden kann, wobei ferner eine Einrichtung zum ortsabhängigen Deformieren des Beugungsgitters vorgesehen ist. Um beim Ausleuchten des Beugungsgitters und damit bei der Länge des einzuschreibenden Gitters im Träger nicht auf die Breite der Strahlungsquelle beschränkt zu sein, kann man Träger und Beugungsgitter zugleich senkrecht zur Beleuchtungsrichtung bewegen. Das Gitter kann so durch ein Scannen des Trägers mit einem Belichtungsstrahl eingeschrieben werden.
  • Typische Ausführungen des vorgeschlagenen Verfahrens sehen vor, dass ein optisches Element als Träger verwendet wird, in den das Gitter eingeschrieben wird. Bei dem hergestellten Gitter handelt es sich dann um ein optisches Gitter. Dieses optische Gitter kann je nach Träger beispielsweise ein Volumen-Bragg-Gitter oder ein Faser-Bragg-Gitter sein.
  • Bei einer bevorzugten Ausführung des vorgeschlagenen Verfahrens wird das Gitter in einen Lichtleiter eingeschrieben, bei dem es sich um ein integriertes optisches Element oder eine Lichtleitfaser handeln kann. In letztgenanntem Fall wird eine Lichtleitfaser als Träger verwendet, so dass das hergestellte Gitter ein Fasergitter ist. Für eine derartige Herstellung gechirpter Fasergitter können verschiedene Fasern verwendet werden, insbesondere Standard-Telekommu nikationsfasern, LMA-Fasern, PCF-Fasern, polarisationserhaltende Fasern, dotierte Fasern oder aktive bzw. aktiv dotierte Fasern. LMA steht dabei für Large Mode Area und betrifft Fasern oder genauer Stufenindexfasern mit einem Kerndurchmesser von mehr als etwa 10 μm. Die Abkürzung PCF bezeichnet mikrostrukturierte Fasern (Photonic Crystal Fibres). Dies sind Glasfasern, die sich durch zusätzlich periodisch im Mantel und Kern angeordnete dünne Luftlöcher auszeichnen, die die gesamte Faser entlang laufen.
  • Da der Chirp des Gitters durch ein Deformieren des zum Einschreiben verwendeten Beugungsgitters realisiert wird, kann das Beugungsgitter so ausgeführt sein, dass es in einem Ausgangszustand eine konstante Gitterperiode hat. Das erlaubt eine einfache Herstellung des Beugungsgitters, beispielsweise durch Elektronenstrahl-Lithographie. Dabei ist es jetzt unerheblich, wenn ein zur Elektronenstrahl-Lithographie verwendetes Gerät aufgrund einer Rasterung keine Herstellung kontinuierlich sich ändernder Gitterperioden erlaubt. Der oben genannte Ausgangszustand des Beugungsgitters kann beispielsweise dadurch definiert sein, dass das Beugungsgitter im Ausgangszustand spannungsfrei ist oder eine über eine Länge des Beugungsgitters konstante Temperatur hat.
  • Bei einer besonders bevorzugten Ausführung des Verfahrens wird das Beugungsgitter unter Ausnutzung einer Wärmeausdehnung des Beugungsgitters deformiert, indem es zum Belichten des Trägers auf eine ortsabhängige Temperatur mit einem längs des Beugungsgitters verlaufenden Temperaturgradienten gebracht wird. Dazu kann es kontrolliert lokal erwärmt und/oder gekühlt werden. Dementsprechend kann die verwendete Vorrichtung als Einrichtung zum ortsabhängigen Defor mieren des Beugungsgitters eine Temperiervorrichtung aufweisen, mit der das Beugungsgitter ortsabhängig geheizt und/oder gekühlt werden kann. Bei dieser Ausführung der Erfindung kann das Gitter besonders einfach mit einem in weiten Grenzen beliebigen Chirp hergestellt werden, wobei in vorteilhafter Weise durch unterschiedliche Temperaturverläufe in ein- und demselben Beugungsgitter Gitter mit unterschiedlichen, frei wählbaren Chirps erzeugt werden können.
  • Eine andere Ausführung der Erfindung sieht vor, dass das Beugungsgitter durch mechanische Spannung deformiert wird. Unter Umständen kann das Beugungsgitter dazu plastisch verformt werden, zu bevorzugen ist jedoch eine elastische Verformung, mit der eine Wiederverwendung des Beugungsgitters mit einem abweichenden Chirp möglich wird.
  • Eine ortsabhängige, also nicht konstante relative Längenänderung des Beugungsgitters durch mechanische Spannung lässt sich besonders einfach dann realisieren, wenn das Beugungsgitter eine ortsabhängige Stärke hat, also eine Materialstärke, die sich längs des Beugungsgitters, also quer zu einer Spaltrichtung, ändert. Einen Chirp erhält man dann bei einer Dehnung oder Stauchung des Beugungsgitters auch dann, wenn das Beugungsgitter einer längs des Beugungsgitters konstanten Zug- oder Druckkraft ausgesetzt wird, beispielsweise durch ein Einspannen des Beugungsgitters zwischen nur zwei Angriffspunkten.
  • Es ist jedoch auch möglich, dass das Beugungsgitter zum Deformieren an einer Mehrzahl von längs des Beugungsgitters verteilten Angriffspunkten, beispielsweise Bohrungen, gehalten wird. Dann kann das Beugungsgitter einer ortsabhängigen Zug- oder Druckspan nung ausgesetzt werden, die eine nicht konstante relative Längenänderung zur Folge hat.
  • Wieder eine andere Ausführung der Erfindung sieht vor, dass das Beugungsgitter durch in das Beugungsgitter integrierte Piezoelemente verformt wird. Eine entsprechende Einrichtung zum ortsabhängigen Deformieren des Beugungsgitters kann also insbesondere in das Beugungsgitter integrierte Piezoelemente aufweisen, die z. B. in Bohrungen im Beugungsgitter eingesetzt sein können. Durch ein selektives Ansteuern dieser Piezoelemente kann das Beugungsgitter ortsabhängig mechanischen Spannungen ausgesetzt werden, die zu einer ortsabhängigen Deformation und insbesondere zu einer ortsabhängig nicht konstanten relativen Längenänderung führen. Schließlich ist es auch denkbar, das Beugungsgitter selbst aus einem piezoelektrischen Material herzustellen, das ortsabhängig unterschiedlichen elektrischen Spannungen ausgesetzt werden kann.
  • Bei dem zum Einschreiben der Gitterstruktur in den Träger verwendeten Beugungsgitter kann es sich um ein transmittierendes oder ein reflektierendes Gitter handeln. Bevorzugte Ausführungen der Erfindung sehen vor, dass eine Phasenmaske als Beugungsgitter verwendet wird. Derartige Phasenmasken können insbesondere so ausgeführt sein, dass bestimmte Ordnungen des Beugungsfelds gezielt unterdrückt werden und dem Beugungsfeld damit ein zum Einschreiben der Gitterstruktur besonders geeigneter Verlauf gegeben wird.
  • Um zur Herstellung von Gittern mit Chirp geeignet zu sein, sollte das Beugungsgitter eine nicht zu geringe Länge haben. Bevorzugt sind daher Beugungsgitter mit einer Länge von mindestens 40 mm. Es können selbst verständlich auch deutlich längere Beugungsgitter verwendet werden, beispielsweise Beugungsgitter einer Länge von bis zu 20 cm.
  • Das Beugungsgitter kann beispielsweise aus Aluminium oder einer Aluminium enthaltenden Legierung oder aus einem anderen Metall oder aus PMMA (Acrylglas) gefertigt sein. Diese Materialien eignen sich aufgrund eines verhältnismäßig großen Längenausdehnungskoeffizienten insbesondere für die Ausführung des beschriebenen Verfahrens, bei dem die Wärmeausdehnung des Beugungsgitters zum Erzeugen des Chirps ausgenutzt wird. Vorteilhaft sind für die Ausführung des Verfahrens, bei der das Beugungsgitter unter Ausnutzung seiner Wärmeausdehnung deformiert wird, insbesondere Beugungsgitter aus einem Material mit einem Längenausdehnungskoeffizienten von mindestens 10–6 K–1, vorzugsweise mindestens 10–5 K–1.
  • Den beschriebenen Ausführungen des Verfahrens gemeinsam ist das Einschreiben der Gitterstruktur durch Belichten des Trägers. Dabei kann das Gitter aufgrund unterschiedlicher Effekte erzeugt werden, beispielsweise dadurch, dass ein lichtempfindliches Material im Träger, beispielsweise in einem Faserkern bei der Herstellung eines Fasergitters, durch die Belichtung unter Änderung einer Lichtdurchlässigkeit und/oder eines Brechungsindex des Materials reagiert. Es ist aber auch möglich, dass das Gitter erzeugt wird, indem ein den Träger oder einen zu strukturierenden Teil des Trägers, bildendes Material, also beispielsweise ein den Faserkern einer Lichtleitfaser bildendes Material, durch die Belichtung aufschmilzt, was zu einer lokalen Dichteänderung und/oder Strukturänderung und damit zu einem ortsabhängig nicht konstanten Brechungsindex führen kann.
  • Ausführungsbeispiele für die hier beschriebene Erfindung werden nachfolgend anhand der 1 bis 3 erläutert. Es zeigt
  • 1 eine perspektivische Darstellung einer Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp in einer ersten Ausführung der Erfindung,
  • 2 in entsprechender Darstellung eine Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp in einer anderen Ausführung der Erfindung, und
  • 3 zwei Diagramme mit beispielhaften Temperaturverläufen in einem Beugungsgitter während eines mit diesem Beugungsgitter durchgeführten Verfahrens zum Herstellen eines Gitters mit Chirps.
  • In 1 ist eine zylindrische Linse 1 erkennbar, durch die eine von einem selbst nicht abgebildeten Laser ausgehende Strahlung 2 auf ein Beugungsgitter 3 geworfen wird. Das Beugungsgitter 3 ist transmittierend und als Phasenmaske ausgeführt und aus PMMA gefertigt. Auf einer der Strahlungsquelle abgewandten Seite des Beugungsgitters 3 ist eine Lichtleitfaser 4 angeordnet, die als Träger für ein herzustellendes Gitter dient und die so in einem Beugungsfeld des Beugungsgitters 3 belichtet wird. Dazu wird die Lichtleitfaser 4 durch eine Haltevorrichtung 5 im Beugungsfeld des Beugungsgitters 3 gehalten. Durch das Belichten der Lichtleitfaser 4 im Beugungsfeld des Beugungsgitters 3 entsteht in der Lichtleitfaser 4 ein Gitter, im vorliegenden Fall also ein Fasergit ter, wobei dieses Gitter erzeugt wird, indem ein in einem Faserkern der Lichtleitfaser 4 befindliches lichtempfindliches Material mit einer lokalen Brechungsindexänderung auf die Belichtung reagiert. Eine Abwandlung der dargestellten Ausführung der Erfindung sieht vor, dass das den Faserkern bildende Material durch die Belichtung dort, wo die Strahlung 2 im Beugungsmuster eine hinreichend hohe Intensität hat, lokal aufschmilzt, was eine ortsabhängige Dichte- oder Strukturänderung zur Folge hat.
  • Das Beugungsgitter 3 hat in einem Ausgangszustand, der durch eine gleichmäßige Temperatur und durch Spannungsfreiheit gekennzeichnet ist, eine konstante Gitterperiode von im vorliegenden Fall etwa 2,15 μm. Das Beugungsgitter 3 kann dabei beispielsweise durch Elektronenstrahl-Lithographie erzeugt worden sein.
  • Das in der Lichtleitfaser 4 entstehende Gitter wird nun dadurch mit einem Chirp erzeugt, dass das Beugungsgitter 3 vor dem Belichten der als Träger dienenden Lichtleitfaser 4 in einen Zustand mit ortsabhängiger, also nicht konstanter relativer Längenänderung deformiert wird.
  • Das geschieht beim vorliegenden Ausführungsbeispiel unter Ausnutzung einer Wärmeausdehnung des Beugungsgitters 3, indem das Beugungsgitter 3 zum Belichten der Lichtleitfaser 4 auf eine ortsabhängige Temperatur mit einem längs des Beugungsgitters 3 und damit längs einer Faserrichtung der Lichtleitfaser 4 verlaufenden Temperaturgradienten gebracht wird. Dazu weist die verwendete Vorrichtung eine nicht abgebildete Temperiervorrichtung zum ortsabhängigen Heizen und/oder Kühlen des Beugungsgitters 3 auf.
  • Das das Beugungsgitter 3 bildende PMMA hat eine relative Längenausdehnung von 8 × 10–5 K–1. Beheizt man das Beugungsgitter aus diesem Material so, dass es in seinem Verlauf Temperaturen zwischen Tmin = 0°C und Tmax = 70°C hat, erreicht man also relative Längenänderungen von bis zu 0,56%. Das entspricht bei einer Beugungsgitterperiode von d = 2,15 μm einer absoluten Periodenänderung von bis zu Δd = 12 nm. Durch Temperaturunterschiede von 70 Kelvin entlang der aus PMMA gefertigten Phasenmaske kann so bei einer Ausnutzung der ersten Ordnung des Beugungsmusters ein reflektives Fasergitter einer Periode von etwa Λ = 1,075 μm mit einer Periodenvariation von 6 nm eingeschrieben werden.
  • Eine andere Ausführung der Erfindung ist in 2 veranschaulicht. Wiederkehrende Merkmale sind dabei wieder mit demselben Bezugszeichen versehen. Anders als bei der in 1 dargestellten Ausführung wird hier ein reflektierendes Beugungsgitter 3 verwendet. Eine Fokussierung der Strahlung 2 auf einen Faserkern der Lichtleitfaser 4 wird hier dadurch gewährleistet, dass das aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung gefertigte Beugungsgitter 3 zugleich als zylindrischer Hohlspiegel ausgeführt ist. Das Beugungsgitter 3 übernimmt damit zugleich die Funktion, die bei dem zuvor beschriebenen Ausführungsbeispiel von der Linse 1 übernommen wird. Bei Abwandlungen der in 2 dargestellten Ausführung können Fokussierung und musterbildende Beugung der Strahlung 2 natürlich auch mit getrennten optischen Elementen realisiert werden.
  • Auch hier wird ein Chirp des durch Belichten mit der Strahlung 2 in der Lichtleitfaser 4 erzeugten Fasergitters dadurch realisiert, dass das Beugungsgitter 3 unter Ausnutzung seiner Wärmeausdehnung deformiert wird, indem es zum Belichten der Lichtleiterfaser 4 auf eine ortsabhängige Temperatur mit längs des Beugungsgitters 3 verlaufendem Temperaturgradienten gebracht wird. Eine wie hier aus Aluminium gefertigte Phasenmaske hat eine relative Längenausdehnung von 2,4·10–5 K–1. Beheizt bzw. kühlt man das Beugungsgitter 3 aus diesem Material so, dass es längs seines Verlaufs Temperaturen zwischen Tmin = 0 C und Tmax = 200°C hat, erreicht man eine relative Längenänderung von bis 0,4 8%. Das entspricht bei einer Beugungsgitterperiode von d = 2,15 μm einer absoluten Periodenänderung von Δd = 10 nm. Durch Temperaturunterschiede von 200 Kelvin entlang des Beugungsgitters 3 kann so also bei einer Ausnutzung der ersten Ordnung des Beugungsfeldes ein Fasergitter mit einer Periodenvariation von 5 nm in die Lichtleitfaser 4 eingeschrieben werden.
  • In 3 sind zwei verschiedene Temperaturprofile längs des Verlaufs des Beugungsgitters 3 veranschaulicht. Eine mit x bezeichnete, als Abszisse eingetragene Ortskoordinate bezeichnet dabei jeweils den Ort längs des Beugungsgitters 3. Die Ordinate veranschaulicht die Temperatur in Abhängigkeit von der Ortskoordinate x, die im in 3 oben abgebildeten Beispiel a linear längs des Verlaufs des Beugungsgitters 3 zunimmt, während sie im in 3 unten dargestellten Beispiel b einen nicht linearen und nicht monotonen Verlauf hat. Ebenfalls als Ordinate dargestellt ist die in guter Näherung linear mit der Temperatur T zusammenhängende Gitterperiode Λ des entstehenden Fasergitters in der Lichtleitfaser 4, die Werte zwischen Λmin und Λmax annimmt.
  • Bei Abwandlungen der hier insbesondere anhand der 1 und 2 beschriebenen Ausführungsbeispiele wird das Beugungsgitter 3 zum Belichten der Lichtleitfaser nicht durch Ausnutzung der Wärmeausdehnung des Beugungsgitters 3, sondern durch mechanische Spannung deformiert. Dazu kann das transmittierend oder reflektierend ausgeführte Beugungsgitter 3 mit einer ortsabhängig nicht konstanten Stärke ausgeführt und zum Belichten der Lichtleitfaser 4 einer mechanischen Spannung ausgesetzt werden. Die verwendete Vorrichtung weist dann eine in den 1 und 2 nicht dargestellte Einrichtung zum mechanischen Deformieren des Beugungsgitters 3 auf.
  • Das Beugungsgitter 3 kann schließlich auch durch Verwendung einer Einrichtung zum ortsabhängigen Deformieren des Beugungsgitters 3, die eine Mehrzahl von längs des Beugungsgitters 3 verteilten Angriffspunkten aufweist, an denen sie das Beugungsgitter 3 hält, durch eine ortsabhängige mechanische Spannung deformiert werden. Bei einer weiteren Abwandlung der in den 1 und 2 gezeigten Ausführungen wird das Beugungsgitter 3 zum Belichten der Lichtleitfaser 4 dadurch mit einer ortsabhängigen relativen Längenänderung deformiert, dass es durch in das Beugungsgitter 3 integrierte Piezoelemente, die selektiv ansteuerbar sind, mechanischen Kräften ausgesetzt wird oder selbst aus einem piezoelektrischen Material gefertigt ist.
  • Unabhängig davon, wie das Beugungsgitters 3 deformiert wird, kann dieses natürlich schon vor dem Deformieren, also in einem Ausgangszustand, eine ortsabhängige Gitterperiode haben. Auch ist es möglich, die Periode des Beugungsgitters 3 während des Einschreibens zu ändern. Das kann dann sinnvoll sein, wenn die zum Belichten verwendete Strahlung 2 einen Strahl relativ kleinen Durchmessers bildet, mit dem der Träger 4 und das Beugungsgitter 3 gescannt wird, so dass jeweils nur ein kleiner Ausschnitt ausgeleuchtet wird. Die relative Längenänderung des Beugungsgitters 3 kann dann auch in dem Sinne ortsabhängig sein, dass sie verschiedene Werte annimmt abhängig davon, welcher Ausschnitt gerade beleuchtet wird.
  • Bei der in den 1 und 2 gezeigten Lichtleitfaser 4 kann es sich um eine Standard-Telekommunikationsfaser, eine LMA-Faser, eine PCF-Faser, eine polarisationserhaltende Faser, eine dotierte Faser, eine aktive Faser oder eine andere optische Faser handeln. Andere Ausführungen der Erfindung sehen vor, dass bei ansonsten unverändertem Aufbau ein anderer Lichtleiter, beispielsweise ein in einem integrierten optischen Element enthaltener Lichtleiter, oder ein anderes optisches Element als Träger verwendet wird, in den durch Belichtung im Beugungsfeld des Beugungsgitters 3 ein optisches Gitter eingeschrieben wird.
  • Der hier vorgeschlagene Lösungsweg besteht also darin, das Beugungsgitter 3, bei dem es sich hier um eine Phasenmaske handelt, selbst kontinuierlich zu chirpen, um ein gechirptes Gitter in den Träger, hier die Lichtleitfaser 4, einzuschreiben. Die dazu nötige Längenänderung des Beugungsgitters 3 kann insbesondere mechanisch, piezoelektrisch oder über einen Temperaturgradienten erfolgen. Die Phasenmaske sollte für letzteren Lösungsweg aus einem Material gefertigt sein, welches einen relativ großen Längenausdehnungskoeffizienten besitzt. Der kontinuierliche Chirp wird dann erreicht, indem die Phasenmaske an einem oder mehreren Punkten geheizt und/oder gekühlt wird. Die damit verbundene Temperaturänderung bewirkt dann direkt über eine Längenausdehnung der Phasenmaske eine Periodenänderung. Mit einem nicht verschwindenden endlichen Temperaturgradienten kommt es so zu einem Chirp der Periode der Phasenmaske und damit der Periode des entstehenden Gitters im verwendeten Träger. Entscheidend ist nach alledem, dass das Beugungsgitter 3 während des Belichtens des Trägers in einem Zustand ist, der durch eine ortsabhängige, längs des Beugungsgitters 3 nicht konstante relative Längenänderung gegenüber einem Ausgangszustand des Beugungsgitters 3 charakterisiert ist.

Claims (28)

  1. Verfahren zum Herstellen eines Gitters mit Chirp, bei dem eine Gitterstruktur in einen Träger eingeschrieben wird, indem der Träger in einem Beugungsfeld eines Beugungsgitters (3) belichtet wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) zum Belichten des Trägers in einen Zustand mit ortsabhängiger relativer Längenänderung deformiert wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein optisches Element als Träger verwendet wird.
  3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Gitter in einen Lichtleiter eingeschrieben wird.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass eine Lichtleitfaser (4) als Träger verwendet wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) in einem Ausgangszustand eine konstante Gitterperiode hat.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) durch Elektronenstrahl-Lithographie erzeugt wird.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) unter Ausnutzung einer Wärmeausdehnung des Beugungsgitters (3) deformiert wird, indem es zum Belichten des Trägers auf eine ortsabhängige Temperatur (T) mit einem längs des Beugungsgitters (3) verlaufenden Temperaturgradienten gebracht wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) aus einem Material mit einem Längenausdehnungskoeffizienten von mindestens 10–6 K–1, vorzugsweise mindestens 10–5 K–1, gefertigt ist.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) durch mechanische Spannung deformiert wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) in einem Ausgangszustand eine ortsabhängige Stärke hat.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) zum Deformieren an einer Mehrzahl von längs des Beugungsgitters (3) verteilten Angriffspunkten gehalten wird.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) durch in das Beugungsgitter (3) integrierte Piezoelemente verformt wird.
  13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) aus piezoelektrischem Material gefertigt ist und unter Ausnutzung seiner piezoelektrischen Eigenschaft deformiert wird.
  14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass ein Amplitudengitter oder Phasengitter aus transparentem Material in Transmission als Beugungsgitter (3) verwendet wird.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass ein Amplitudengitter oder Phasengitter in Reflexion als Beugungsgitter (3) verwendet wird.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) in einem Ausgangszustand eine ortsabhängige Gitterperiode hat.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Periode des Beugungsgitters (3) während des Einschreibens geändert wird.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Träger durch das Belichten eine Änderung der Lichtdurchlässigkeit und/oder des Brechungsindexes hervorgerufen wird.
  19. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass das Gitter erzeugt wird, indem ein den Träger oder einen zu strukturierenden Teil des Trägers bildendes Material durch die Belichtung aufschmilzt.
  20. Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp, umfassend eine Strahlungsquelle, ein mit der Strahlungsquelle ausleuchtbares Beugungsgitter (3) und eine Haltevorrichtung (6) zum Halten eines Trägers des herzustellenden Gitters in einem Beugungsfeld des Beugungsgitters (3), dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung ferner eine Einrichtung zum ortsabhängigen Deformieren des Beugungsgitters (3) aufweist.
  21. Vorrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) in einem spannungsfreien Zustand und/oder in einem Zustand gleichmäßiger Temperatur eine konstante Gitterperiode hat.
  22. Vorrichtung nach einem der Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die genannte Einrichtung zum mechanischen Deformieren des Beugungsgitters (3) geeignet ist und das Beugungsgitter (3) eine ortsabhängige Materialstärke hat.
  23. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 20 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass die genannte Einrichtung eine Mehrzahl von längs des Beugungsgitters (3) verteilten Angriffspunkten aufweist, an denen sie das Beugungsgitter (3) hält.
  24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 20 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die genannte Einrichtung in das Beugungsgitter (3) integrierte Piezoelemente aufweist oder dass das Beugungsgitter (3) aus piezoelektrischen Material gefertigt ist.
  25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die genannte Einrichtung eine Temperiervorrichtung zum ortsab hängigen Heizen und/oder Kühlen des Beugungsgitters (3) ist.
  26. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass das Beugungsgitter (3) aus einem Material mit einem Längenausdehnungskoeffizienten von mindestens 10–6 K–1, vorzugsweise mindestens 10–5 K–1, gefertigt ist.
  27. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 20 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass ein Amplitudengitter oder Phasengitter aus transparentem Material in Transmission als Beugungsgitter (3) dient.
  28. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 20 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass ein Amplitudengitter oder Phasengitter in Reflexion als Beugungsgitter (3) dient.
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