JP3165113B2 - 振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置 - Google Patents
振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置Info
- Publication number
- JP3165113B2 JP3165113B2 JP20519498A JP20519498A JP3165113B2 JP 3165113 B2 JP3165113 B2 JP 3165113B2 JP 20519498 A JP20519498 A JP 20519498A JP 20519498 A JP20519498 A JP 20519498A JP 3165113 B2 JP3165113 B2 JP 3165113B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- period
- long
- diffraction grating
- manufacturing
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
- G02B6/02085—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response characterised by the grating profile, e.g. chirped, apodised, tilted, helical
- G02B6/02095—Long period gratings, i.e. transmission gratings coupling light between core and cladding modes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02142—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating based on illuminating or irradiating an amplitude mask, i.e. a mask having a repetitive intensity modulating pattern
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光受動素子に係り、
特に、振幅マスク（amplitude mask）及びこれを用いる
長周期回折格子フィルタ（long period grating filte
r）の製造装置に関する。
特に、振幅マスク（amplitude mask）及びこれを用いる
長周期回折格子フィルタ（long period grating filte
r）の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光通信の発展と共に光受動素子と
して長周期回折格子フィルタ（long period grating fi
lter）に多くの関心が寄せられている。長周期回折格子
フィルタは、光ファイバーのコアに進むコアモード（co
re mode）の光をクラディングモード（cladding mode）
にカップリングせしめる素子であって、紫外線に敏感な
光ファイバーのコアに周期的に屈折率の変化を与えるこ
とで製作される。つまり、光に露出された部分は屈折率
が高まるが、そうでない部分は変化がないので、周期的
な屈折率の変化が起こる。そして、コアモードの光をク
ラディングモードにカップリングするには以下の数式１
を満足すべきである。
して長周期回折格子フィルタ（long period grating fi
lter）に多くの関心が寄せられている。長周期回折格子
フィルタは、光ファイバーのコアに進むコアモード（co
re mode）の光をクラディングモード（cladding mode）
にカップリングせしめる素子であって、紫外線に敏感な
光ファイバーのコアに周期的に屈折率の変化を与えるこ
とで製作される。つまり、光に露出された部分は屈折率
が高まるが、そうでない部分は変化がないので、周期的
な屈折率の変化が起こる。そして、コアモードの光をク
ラディングモードにカップリングするには以下の数式１
を満足すべきである。
【０００３】
【数１】 数式１において、βcoはコアモードの光伝搬定数（prop
agation constant）で、βn clはｎ次クラディングモー
ドの光伝搬定数であり、Λは回折格子周期（grating pe
riod）を表す。
agation constant）で、βn clはｎ次クラディングモー
ドの光伝搬定数であり、Λは回折格子周期（grating pe
riod）を表す。
【０００４】ところが、数式１においてβ=2πn／λ
（ここで、nは屈折率、λは波長を表す）を代入する
と、数式１はnco−ncl=λ／Λとなる。ここで、nco及び
nclは光ファイバーのコア及びクラッドの屈折率を表
す。したがって、ある波長を有する光をクラディングモ
ードに変更するには周期Λと屈折率の差（nco-ncl）を
定めれば良い。屈折率差は、紫外線に敏感な光ファイバ
ーに紫外線レーザを適宜感光することにより得られる。
（ここで、nは屈折率、λは波長を表す）を代入する
と、数式１はnco−ncl=λ／Λとなる。ここで、nco及び
nclは光ファイバーのコア及びクラッドの屈折率を表
す。したがって、ある波長を有する光をクラディングモ
ードに変更するには周期Λと屈折率の差（nco-ncl）を
定めれば良い。屈折率差は、紫外線に敏感な光ファイバ
ーに紫外線レーザを適宜感光することにより得られる。
【０００５】ここで、紫外線レーザを照射して長周期回
折格子フィルタを製造する長周期回折格子フィルタの製
造装置につき説明する。
折格子フィルタを製造する長周期回折格子フィルタの製
造装置につき説明する。
【０００６】図６は、従来の長周期回折格子フィルタの
製造装置を概略的に示す図である。具体的に、従来の長
周期回折格子フィルタの製造装置は、紫外線レーザを照
射できる高出力のエキシマー（excimer）レーザ光源１
と、エキシマーレーザ光源１より放出されたレーザ光の
経路２を変更するミラー３と、ミラー３によって光の変
更されたレーザ光の焦点を調節するレンズ５と、レンズ
を通過したレーザ光を選択的に通過せしめるシリカマス
ク７と、シリカマスク７を通過したレーザ光が照射さ
れ、コアに長周期回折格子が形成される光ファイバー９
とから構成される。
製造装置を概略的に示す図である。具体的に、従来の長
周期回折格子フィルタの製造装置は、紫外線レーザを照
射できる高出力のエキシマー（excimer）レーザ光源１
と、エキシマーレーザ光源１より放出されたレーザ光の
経路２を変更するミラー３と、ミラー３によって光の変
更されたレーザ光の焦点を調節するレンズ５と、レンズ
を通過したレーザ光を選択的に通過せしめるシリカマス
ク７と、シリカマスク７を通過したレーザ光が照射さ
れ、コアに長周期回折格子が形成される光ファイバー９
とから構成される。
【０００７】図６に示す長周期回折格子フィルタの製造
装置を用い長周期回折格子フィルタを製作する過程は、
レーザ光を、レンズ５を通過してシリカマスク５と接触
されている光ファイバー９に照射する。このとき、光フ
ァイバー９にはレーザ光が照射され屈折率が別の長周期
回折格子が形成されるが、光ファイバー９に光ソース１
１を用いて光を通過せしめ、検出器１３により光を検出
することで所望の長周期回折格子フィルタを得ることが
できる。
装置を用い長周期回折格子フィルタを製作する過程は、
レーザ光を、レンズ５を通過してシリカマスク５と接触
されている光ファイバー９に照射する。このとき、光フ
ァイバー９にはレーザ光が照射され屈折率が別の長周期
回折格子が形成されるが、光ファイバー９に光ソース１
１を用いて光を通過せしめ、検出器１３により光を検出
することで所望の長周期回折格子フィルタを得ることが
できる。
【０００８】しかしながら、長周期回折格子フィルタの
製造装置において、シリカマスク７は、シリカ基板上に
クロムを塗布した後にパタニングを行なって得たクロム
パターンから構成されている。したがって、クロムパタ
ーンによってレーザ光が選択的に通過される。しかし、
クロムパターンは、損傷限界（damage threshold）が10
0mJ／cm2と低いために、高出力のエキシマーレーザ光を
効率良く利用できず処理に長時間を要するといった不都
合がある。さらに、シリカマスクは、シリカ基板上にク
ロムパターンを形成して製造するがゆえに、一つの周期
しか有し得ないといった欠点がある。
製造装置において、シリカマスク７は、シリカ基板上に
クロムを塗布した後にパタニングを行なって得たクロム
パターンから構成されている。したがって、クロムパタ
ーンによってレーザ光が選択的に通過される。しかし、
クロムパターンは、損傷限界（damage threshold）が10
0mJ／cm2と低いために、高出力のエキシマーレーザ光を
効率良く利用できず処理に長時間を要するといった不都
合がある。さらに、シリカマスクは、シリカ基板上にク
ロムパターンを形成して製造するがゆえに、一つの周期
しか有し得ないといった欠点がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記したシリカマスクの問題点を解決し得る新規な
マスクを提供することにある。
は、上記したシリカマスクの問題点を解決し得る新規な
マスクを提供することにある。
【００１０】さらに本発明の他の目的は、新規なマスク
を用いた長周期回折格子フィルタの製造装置を提供する
ことにある。
を用いた長周期回折格子フィルタの製造装置を提供する
ことにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の長周期回折格子フィルタの製造装置に使用
される振幅マスクは、光が選択的に通過できるよう一定
の周期を有する通過領域、及び前記光が通過しない非通
過領域から構成される金属基板と、前記金属基板の非通
過領域上に形成され、前記通過領域の周期を変更できる
圧電素子とを含んでなる。さらに、前記通過領域は前記
金属基板の中央部に形成され、前記圧電素子は前記通過
領域の上下両側に形成される。さらに前記圧電素子は、
前記非通過領域上に複数個形成され、前記通過領域の周
期を多様に変更し得る。
に、本発明の長周期回折格子フィルタの製造装置に使用
される振幅マスクは、光が選択的に通過できるよう一定
の周期を有する通過領域、及び前記光が通過しない非通
過領域から構成される金属基板と、前記金属基板の非通
過領域上に形成され、前記通過領域の周期を変更できる
圧電素子とを含んでなる。さらに、前記通過領域は前記
金属基板の中央部に形成され、前記圧電素子は前記通過
領域の上下両側に形成される。さらに前記圧電素子は、
前記非通過領域上に複数個形成され、前記通過領域の周
期を多様に変更し得る。
【００１２】前記別の技術的課題を達成するために本発
明は、光源、前記光源から放出された光の焦点を調節す
るレンズ、及び前記レンズを通過した光を長周期回折格
子の形成される光ファイバーに選択的に照射する振幅マ
スクを備えた長周期回折格子フィルタの製造装置におい
て、前記振幅マスクは、金属基板上に前記光を選択的に
通過できるよう一定の周期を有する通過領域、及び前記
光が通過しない非通過領域から構成され、前記非通過領
域上に圧電素子が形成され、前記通過領域の周期を変更
し得る。さらに、前記通過領域は前記金属基板の中央部
に形成され、前記圧電素子は前記通過領域の上下両側に
形成されている。また、前記圧電素子は前記非通過領域
上に複数個形成され、前記通過領域の周期を多様に変更
し得る。
明は、光源、前記光源から放出された光の焦点を調節す
るレンズ、及び前記レンズを通過した光を長周期回折格
子の形成される光ファイバーに選択的に照射する振幅マ
スクを備えた長周期回折格子フィルタの製造装置におい
て、前記振幅マスクは、金属基板上に前記光を選択的に
通過できるよう一定の周期を有する通過領域、及び前記
光が通過しない非通過領域から構成され、前記非通過領
域上に圧電素子が形成され、前記通過領域の周期を変更
し得る。さらに、前記通過領域は前記金属基板の中央部
に形成され、前記圧電素子は前記通過領域の上下両側に
形成されている。また、前記圧電素子は前記非通過領域
上に複数個形成され、前記通過領域の周期を多様に変更
し得る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づき本発明
の好適な実施例について詳細に説明する。図１は、本発
明に係る長周期回折格子フィルタの製造装置を概略的に
示す図であって、図２は、図１の長周期回折格子フィル
タの製造装置により製造された長周期回折格子フィルタ
の実施例を概略的に示す図である。
の好適な実施例について詳細に説明する。図１は、本発
明に係る長周期回折格子フィルタの製造装置を概略的に
示す図であって、図２は、図１の長周期回折格子フィル
タの製造装置により製造された長周期回折格子フィルタ
の実施例を概略的に示す図である。
【００１４】具体的に、本発明の長周期回折格子フィル
タの製造装置は、エキシマーレーザ光源２１と、エキシ
マーレーザ光源２１より放出されたレーザ光の経路２２
を変更するミラー２３と、ミラー２３によって光の変更
されたレーザ光の焦点を調節するレンズ２５と、レンズ
２５を通過したレーザ光を選択的に通過せしめる振幅マ
スク２７と、振幅マスク２７を通過したレーザ光が照射
され、コアに長周期回折格子が形成される光ファイバー
２９とから構成される。エキシマーレーザ２１は紫外線
領域の光を放出し、光ファイバー２９は紫外線領域の光
に敏感な光ファイバーである。
タの製造装置は、エキシマーレーザ光源２１と、エキシ
マーレーザ光源２１より放出されたレーザ光の経路２２
を変更するミラー２３と、ミラー２３によって光の変更
されたレーザ光の焦点を調節するレンズ２５と、レンズ
２５を通過したレーザ光を選択的に通過せしめる振幅マ
スク２７と、振幅マスク２７を通過したレーザ光が照射
され、コアに長周期回折格子が形成される光ファイバー
２９とから構成される。エキシマーレーザ２１は紫外線
領域の光を放出し、光ファイバー２９は紫外線領域の光
に敏感な光ファイバーである。
【００１５】図１に示す長周期回折格子フィルタの製造
装置を用い長周期回折格子フィルタを製作する過程は、
レーザ光を、レンズ２５を通過し金属マスク２７と接触
している光ファイバー２９に照射する。このとき、光フ
ァイバー２９にはレーザ光が照射され、図２に示す如き
屈折率が異なり、且つ任意の周期を有する長周期回折格
子がコア層２９aに形成される。図２において、符号２
９bはクラッド層を表し、符号３０aはレーザ光が照射さ
れ、屈折率が高まった領域を、そして符号３０bはレー
ザ光が照射されてない領域をそれぞれ表す。
装置を用い長周期回折格子フィルタを製作する過程は、
レーザ光を、レンズ２５を通過し金属マスク２７と接触
している光ファイバー２９に照射する。このとき、光フ
ァイバー２９にはレーザ光が照射され、図２に示す如き
屈折率が異なり、且つ任意の周期を有する長周期回折格
子がコア層２９aに形成される。図２において、符号２
９bはクラッド層を表し、符号３０aはレーザ光が照射さ
れ、屈折率が高まった領域を、そして符号３０bはレー
ザ光が照射されてない領域をそれぞれ表す。
【００１６】一方、長周期回折格子の周期をΛとし、λ
1がnco−ncl=λ1／Λの条件を満足するとき、λ1、
λ2、λ3．．．の光の入力に対しλ1'、λ2、λ3．．．
の光が出力される。ここで、λ1からλ1'への変更は出
力波長が変わることを意味する。したがって、光ファイ
バー２９に光ソース３１を用いて光を通過せしめ、検出
器３３により光を検出することで所望の長周期回折格子
フィルタを得ることができる。
1がnco−ncl=λ1／Λの条件を満足するとき、λ1、
λ2、λ3．．．の光の入力に対しλ1'、λ2、λ3．．．
の光が出力される。ここで、λ1からλ1'への変更は出
力波長が変わることを意味する。したがって、光ファイ
バー２９に光ソース３１を用いて光を通過せしめ、検出
器３３により光を検出することで所望の長周期回折格子
フィルタを得ることができる。
【００１７】図３は、図１の長周期回折格子フィルタの
製造装置に適用できる振幅マスクの一例を拡大して示す
平面図である。
製造装置に適用できる振幅マスクの一例を拡大して示す
平面図である。
【００１８】具体的に、振幅マスク２７は、金属基板、
例えばステンレス基板からなり、金属基板は数百μｍ、
例えば200〜500μmの周期Λに光を通過し得る通過領域
２７aと、それ以外の非通過領域２７bとから構成され
る。通過領域２７aはたとえば二酸化炭素レーザを用い
て加工すればよい。さらに、通過領域２７aの上下両側
の非透過領域２７b上に圧電素子３５が形成され固定さ
れる。圧電素子（３５：piezo-electric transducer）
は外部からの電圧の印加により通過領域２７aの長手方
向に伸縮し、それに応じて振幅マスク２７の周期を調節
できる。
例えばステンレス基板からなり、金属基板は数百μｍ、
例えば200〜500μmの周期Λに光を通過し得る通過領域
２７aと、それ以外の非通過領域２７bとから構成され
る。通過領域２７aはたとえば二酸化炭素レーザを用い
て加工すればよい。さらに、通過領域２７aの上下両側
の非透過領域２７b上に圧電素子３５が形成され固定さ
れる。圧電素子（３５：piezo-electric transducer）
は外部からの電圧の印加により通過領域２７aの長手方
向に伸縮し、それに応じて振幅マスク２７の周期を調節
できる。
【００１９】ここで、圧電素子に電圧を掛けたときと、
そうでないときの周期変更による透過スペクトルを説明
する。
そうでないときの周期変更による透過スペクトルを説明
する。
【００２０】図４は、図１の長周期回折格子フィルタの
透過スペクトルを示すグラフである。
透過スペクトルを示すグラフである。
【００２１】まず、圧電素子に電圧を掛けなかったとき
の周期をΛとすると、カップリングされる波長は上記の
如き条件、つまりnco−ncl=λ／Λを満足するものであ
る。換言すれば、nclはn1 cl、n2 cl、n3 cl．．．．．．
等の複数の値を有するので、カップリングされる波長は
λ1、λ2、λ3．．．等の値を有し、透過スペクトルは
符号"a"のように現れる。
の周期をΛとすると、カップリングされる波長は上記の
如き条件、つまりnco−ncl=λ／Λを満足するものであ
る。換言すれば、nclはn1 cl、n2 cl、n3 cl．．．．．．
等の複数の値を有するので、カップリングされる波長は
λ1、λ2、λ3．．．等の値を有し、透過スペクトルは
符号"a"のように現れる。
【００２２】次に、圧電素子に電圧を掛け、周期をΔΛ
だけ変えてやると、波長は前述の如き条件、つまりnco
−ncl=λ'／（Λ+ΔΛ）を満足する。換言すれば、波長
λ'はλに比べΔΛ（nco−ncl）値だけ移動し、透過ス
ペクトルは符号"b"のように現れる。このようにして、
本発明の長周期回折格子フィルタの製造装置に使用され
る振幅マスクは、カップリングしたい波長が任意に選択
可能である。
だけ変えてやると、波長は前述の如き条件、つまりnco
−ncl=λ'／（Λ+ΔΛ）を満足する。換言すれば、波長
λ'はλに比べΔΛ（nco−ncl）値だけ移動し、透過ス
ペクトルは符号"b"のように現れる。このようにして、
本発明の長周期回折格子フィルタの製造装置に使用され
る振幅マスクは、カップリングしたい波長が任意に選択
可能である。
【００２３】図５は、図１の長周期回折格子フィルタの
製造装置に適用できる振幅マスクの他の実施例を拡大し
て示す平面図である。図５において、図３と同様の部材
には同一符号が付されている。
製造装置に適用できる振幅マスクの他の実施例を拡大し
て示す平面図である。図５において、図３と同様の部材
には同一符号が付されている。
【００２４】より詳細には、図５に示す振幅マスク２７
は図３と同様であるが、通過領域２７aの上下両側の非
通過領域２７b上に直線状に形成固定される複数（ｎ
個）の圧電素子２５を具備する。このようにｎ個の圧電
素子のそれぞれに所定の電圧を掛けることによって、多
様な周期を設定することが可能となり、一枚のマスクで
複数の周期を有する振幅マスクを得ることができる。
は図３と同様であるが、通過領域２７aの上下両側の非
通過領域２７b上に直線状に形成固定される複数（ｎ
個）の圧電素子２５を具備する。このようにｎ個の圧電
素子のそれぞれに所定の電圧を掛けることによって、多
様な周期を設定することが可能となり、一枚のマスクで
複数の周期を有する振幅マスクを得ることができる。
【００２５】また、ＥＤＦＡ（Erbium-doped Fiber A
mplifier）のＡＳＥ（Amplified spontaneous Emissio
n）スペクトルには波長に対する変動（fluctuation）が
見られ、多重チャンネル通信への応用に際し欠点となる
が、本発明の振幅マスクはこの課題を解決するために利
用できる。換言すれば、本発明の振幅マスクの所定の圧
電素子にＶ1の電圧を印加し、他の圧電素子にＶ2の電圧
を印加することでそれらに対応するΛ1、Λ2の周期を持
たせることができ、一枚の振幅マスクを用いて二つの波
長のカップリングが可能となるのである。
mplifier）のＡＳＥ（Amplified spontaneous Emissio
n）スペクトルには波長に対する変動（fluctuation）が
見られ、多重チャンネル通信への応用に際し欠点となる
が、本発明の振幅マスクはこの課題を解決するために利
用できる。換言すれば、本発明の振幅マスクの所定の圧
電素子にＶ1の電圧を印加し、他の圧電素子にＶ2の電圧
を印加することでそれらに対応するΛ1、Λ2の周期を持
たせることができ、一枚の振幅マスクを用いて二つの波
長のカップリングが可能となるのである。
【００２６】本発明は種々な形態に変形でき、本発明の
範囲が上述の実施例に限定されることはない。また、本
発明の実施例は、当業界において通常の知識を有した者
に本発明を一層完全たるものとして説明するために提供
される。
範囲が上述の実施例に限定されることはない。また、本
発明の実施例は、当業界において通常の知識を有した者
に本発明を一層完全たるものとして説明するために提供
される。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の長周期回折
格子フィルタの製造装置は、一つの周期しか有しないシ
リカマスクに代わり、金属基板上に圧電素子が形成固定
された振幅マスクを採用したことにより、振幅マスクの
周期を外部から任意に可変調節できるため多様な製造に
対応できること、および製造工程が簡略化されることに
加え工程の自動化が可能となるため信頼性が高まり、製
造コストの大幅な改善も実現されるという効果を有す
る。
格子フィルタの製造装置は、一つの周期しか有しないシ
リカマスクに代わり、金属基板上に圧電素子が形成固定
された振幅マスクを採用したことにより、振幅マスクの
周期を外部から任意に可変調節できるため多様な製造に
対応できること、および製造工程が簡略化されることに
加え工程の自動化が可能となるため信頼性が高まり、製
造コストの大幅な改善も実現されるという効果を有す
る。
【００２８】さらに、本発明の長周期回折格子フィルタ
の製造装置は、金属基板上に装着される圧電素子が複数
個形成された振幅マスクを採用することによって、多数
枚の振幅マスクを利用することと同様な効果が得られ、
製造工程の大幅な簡素化と信頼性の向上につながるとい
う効果をさらに奏するものである。
の製造装置は、金属基板上に装着される圧電素子が複数
個形成された振幅マスクを採用することによって、多数
枚の振幅マスクを利用することと同様な効果が得られ、
製造工程の大幅な簡素化と信頼性の向上につながるとい
う効果をさらに奏するものである。
【図１】本発明に係る長周期回折格子フィルタの製造装
置を概略的に示す図である。
置を概略的に示す図である。
【図２】図１の長周期回折格子フィルタの製造装置によ
り製造された長周期回折格子フィルタを概略的に示す図
である。
り製造された長周期回折格子フィルタを概略的に示す図
である。
【図３】図１の長周期回折格子フィルタの製造装置に適
用可能な振幅マスクの一例を拡大して示す平面図であ
る。
用可能な振幅マスクの一例を拡大して示す平面図であ
る。
【図４】図１の長周期回折格子フィルタの透過スペクト
ルを示すグラフである。
ルを示すグラフである。
【図５】図１の長周期回折格子フィルタの製造装置に適
用可能な振幅マスクの他の例を拡大して示す平面図であ
る。
用可能な振幅マスクの他の例を拡大して示す平面図であ
る。
【図６】従来の長周期回折格子フィルタの製造装置を概
略的に示す図である。
略的に示す図である。
２２…光経路、 ２３…ミラー、 ２５…レンズ、 ２７…振幅マスク、 ２９…光ファイバー
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−113741（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−230298（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−77702（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−230298（ＪＰ，Ａ) 特表 昭62−500052（ＪＰ，Ａ) 特表 平５−502951（ＪＰ，Ａ) 米国特許5857043（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/18 G02B 6/00 G02B 6/10 G02B 6/16 - 6/22 G02B 6/44
Claims (4)
- 【請求項１】 長周期回折格子フィルタの製造装置に使
用する振幅マスクにおいて、 前記振幅マスクは、光が選択的に通過できるよう一定の
周期を有する通過領域、及び前記光が通過しない非通過
領域から構成される金属基板と、 前記金属基板の非通過領域上に形成され、前記通過領域
の周期を変更できる圧電素子とを具備し、 前記圧電素子は前記通過領域の上下両側の前記非通過領
域上に複数個形成され、前記通過領域の周期を多様に変
更し得ることを特徴とする振幅マスク。 - 【請求項２】 前記通過領域は前記金属基板の中央部に
形成されることを特徴とする請求項１に記載の振幅マス
ク。 - 【請求項３】 光源、前記光源から放出されたレーザ光
の焦点を調節するレンズ、及び前記レンズを通過した光
を長周期回折格子が形成される光ファイバーに選択的に
照射する振幅マスクを備えた長周期回折格子フィルタの
製造装置において、 前記振幅マスクは、金属基板上に前記光を選択的に通過
できるよう一定の周期を有する通過領域、及び前記光が
通過しない非通過領域を備え、前記通過領域の上下両側の 前記非通過領域上に形成さ
れ、前記通過領域の周期を変更し得る圧電素子を複数備
え、前記圧電素子により前記通過領域の周期を多様に変
更し得ることを特徴とする長周期回折格子フィルタの製
造装置。 - 【請求項４】 前記通過領域は前記金属基板の中央部に
形成されることを特徴とする請求項３に記載の長周期回
折格子フィルタの製造装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1997-34112 | 1997-07-21 | ||
| KR1019970034112A KR100258968B1 (ko) | 1997-07-21 | 1997-07-21 | 진폭마스크 및 이를 이용한 장주기 격자 필터 제조장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11133221A JPH11133221A (ja) | 1999-05-21 |
| JP3165113B2 true JP3165113B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=19515219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20519498A Expired - Fee Related JP3165113B2 (ja) | 1997-07-21 | 1998-07-21 | 振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6004703A (ja) |
| JP (1) | JP3165113B2 (ja) |
| KR (1) | KR100258968B1 (ja) |
| CN (1) | CN1120991C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001526403A (ja) * | 1997-12-08 | 2001-12-18 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 振幅マスク、これを用いた長周期格子フィルタ製造装置及びその方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1092338C (zh) * | 1999-03-12 | 2002-10-09 | 清华大学 | 采用莫尔条纹振幅模板制造光纤光栅的方法 |
| KR100318903B1 (ko) * | 2000-01-14 | 2001-12-29 | 윤종용 | 장주기 광섬유 격자 |
| US6832023B1 (en) | 2000-05-19 | 2004-12-14 | Georgia Tech Research Corporation | Optical fiber gratings with azimuthal refractive index perturbation, method of fabrication, and devices for tuning, attenuating, switching, and modulating optical signals |
| CA2354211A1 (en) * | 2001-07-26 | 2003-01-26 | Paul Lefebvre | Reel to reel manufacturing line |
| US6556729B2 (en) * | 2001-07-27 | 2003-04-29 | The United States Of America As Represented By The National Security Agency | Acousto-optic bandpass filter |
| US7362939B2 (en) | 2001-12-13 | 2008-04-22 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical fiber for long period grating, long period grating component and manufacturing method of the same |
| AU2002215768A1 (en) * | 2001-12-13 | 2003-07-09 | Institut National D'optique | Tunable phase mask assembly |
| US6643066B2 (en) | 2001-12-13 | 2003-11-04 | Institut National D'optique | Tunable phase mask assembly |
| US7277604B2 (en) * | 2003-12-12 | 2007-10-02 | Lxsix Photonics Inc. | Method and apparatus for inducing an index of refraction change on a substrate sensitive to electromagnetic radiation |
| DE102007035911A1 (de) * | 2007-07-27 | 2009-01-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Gitters mit Chirp |
| CN101706429B (zh) * | 2009-11-02 | 2012-07-11 | 浙江大学 | 基于长周期光栅的玻璃基光传感器 |
| CN110542946B (zh) * | 2018-05-28 | 2022-07-22 | 福州高意光学有限公司 | 一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2521708B2 (ja) * | 1984-08-13 | 1996-08-07 | ユナイテッド テクノロジーズ コーポレーション | 光ファイバ内に格子を形成する方法 |
| US5007705A (en) * | 1989-12-26 | 1991-04-16 | United Technologies Corporation | Variable optical fiber Bragg filter arrangement |
| US5133990A (en) * | 1990-04-05 | 1992-07-28 | Crystal Technology, Inc. | Technique for mass production of coded surface acoustic wave devices |
| JPH06230298A (ja) * | 1993-02-02 | 1994-08-19 | Olympus Optical Co Ltd | 回折光学素子 |
| US5620495A (en) * | 1995-08-16 | 1997-04-15 | Lucent Technologies Inc. | Formation of gratings in polymer-coated optical fibers |
-
1997
- 1997-07-21 KR KR1019970034112A patent/KR100258968B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-07-21 CN CN98103044A patent/CN1120991C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-21 US US09/119,783 patent/US6004703A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-21 JP JP20519498A patent/JP3165113B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001526403A (ja) * | 1997-12-08 | 2001-12-18 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 振幅マスク、これを用いた長周期格子フィルタ製造装置及びその方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100258968B1 (ko) | 2000-06-15 |
| JPH11133221A (ja) | 1999-05-21 |
| KR19990011141A (ko) | 1999-02-18 |
| CN1120991C (zh) | 2003-09-10 |
| US6004703A (en) | 1999-12-21 |
| CN1206117A (zh) | 1999-01-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3328648B2 (ja) | 振幅マスク、これを用いた長周期格子フィルタ製造装置及びその方法 | |
| JP3165113B2 (ja) | 振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置 | |
| KR100425568B1 (ko) | 광회절격자 | |
| KR100282993B1 (ko) | 복잡한 스펙트럼 성형 응용을 위한 광신호 성형 장치 | |
| JPH10319254A (ja) | 導波路中にブラッグ反射格子を形成する方法及びその方法によって形成されるブラッグ反射格子 | |
| AU763596B2 (en) | Apparatus for manufacturing long-period fiber gratings and apparatus for manufacturing two-band long-period fiber gratings using the same | |
| KR100334799B1 (ko) | 광섬유격자 제작 장치 및 방법 | |
| KR101014421B1 (ko) | 광섬유의 브래그 격자 형성장치 및 방법 | |
| KR100277353B1 (ko) | 장주기격자필터제작방법 | |
| JPH1184152A (ja) | 位相マスクを用いた短周期反射ブラッグ回析格子の書き込み法 | |
| US6275631B1 (en) | Apparatus for manufacturing long-period optical fiber grating | |
| KR100445824B1 (ko) | 광 손실 필터의 제조 방법 및 광 손실 필터 | |
| KR100342493B1 (ko) | 회절 효과를 최소화하기 위한 광섬유 격자 제작장치 | |
| JP3346440B2 (ja) | 透過型ファイバグレーティングフィルタの製造方法 | |
| KR100333901B1 (ko) | 두 밴드의 장주기 격자 제작 장치 | |
| KR100294537B1 (ko) | 장주기격자필터제조장치 | |
| AU2002301376B2 (en) | Apparatus for manufacturing two-band long-period fiber gratings using the same | |
| KR20000008018A (ko) | 장주기 격자 필터 제작 방법 및 그에 따라 제작된 장주기 격자필터 | |
| KR19980087591A (ko) | 장주기 격자 필터 제조 장치 | |
| KR19990065145A (ko) | 진폭 마스크를 이용한 제파 필터 제조 방법 및 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080302 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090302 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |