KR100333901B1 - 두 밴드의 장주기 격자 제작 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치에 광한 것으로, 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역과 통과하지않는 비통과영역이 교번하여 반복되는 두 진폭 마스크를 광섬유의 서로 다른 위치상에 구비하고, 레이저 광을 두 진폭 마스크에 통과시켜서 광섬유에 조사하여 서로 다른 주기를 갖는 두 장주기 격자를 제조하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치에 있어서, 레이저 광이 광섬유까지 도달하는 거리를 고정하고, 제1진폭 마스크의 위치를 조절하여 광섬유에 형성되는 제1장주기 격자의 주기를 결정하는 제1장주기 격자 제조부; 및 레이저 광이 광섬유까지 도달하는 거리를 고정하고, 제2진폭 마스크의 위치를 조절하여 제2장주기 격자의 주기를 결정하되, 제1장주기 격자 제조부와 실질적으로 동시에 제2장주기 격자를 형성하는 제2장주기 격자 제조부를 포함함을 특징으로한다.
본 발명에 의하면, 광섬유에 주사되는 레이저 빔 사이즈를 조절하여 장주기 격가 필터의 밴드폭을 조절할 수 있고, 두 밴드를 동시에 제조하여 수소확산에 의한 파장이동변수를 제거하게되므로 필터 디자인이 간단하고 제작시간을 단축할 수 있다.

Description

두 밴드의 장주기 격자 제작 장치{Apparatus for fabricating two band long priod gratings}
본 발명은 두 밴드의 장주기 격자 제작 장치에 관한 것으로, 특히 동시에 서로 다른 커플링 파장을 갖는 두 밴드의 장주기 격자를 제작하는 장치에 관한 것이다.
장주기 광섬유 격자 필터는 진행하는 코아모드를 진행방향의 클래딩 모드로 커플링시키는 소자로, 반사타입이 아니기때문에 어븀첨가 광섬유증폭기(Erbium Doped Fiber Amplifier)의 이득평탄화에 유리하다. 이 때 커플링은 다음과 같은 위상 매칭 조건(phase matching condition)을 만족하는 경우 일어난다.
여기서,βco는 코아 모드의 전달 상수(propagation constant)이고,는 n차 클래딩 모드의 전달 상수이고, Λ는 격자 주기이다.
그런데, 수학식 1에서 β= 2πn/λ(여기서, n은 유효 굴절율,λ는 커플링 파장)을 대입하면 코아 모드와 클래딩 모드의 굴절률 차는 다음 식과 같이 된다.
특정 마스크 주기 Λ에 대해 광민감성 광섬유에 자외선 레이저를 주사하게되면 광민감성 광섬유의 코아의 굴절률이 증가하게되고 그에 따라 커플링이 일어나는파장은 장파장쪽으로 증가하게된다. 장주기 격자는 엑시머 레이저와 같은 자외선 레이저 소스를 원통형 렌즈(cylindrical lens)로 x축 혹은 y축으로 포커싱하여 주기 Λ를 갖는 진폭 마스크를 통해 광민감성 광섬유에 주사함으로써 제작된다. 엑시머 레이저의 경우 빔 사이즈가 10x30 mm로 사각형으로 포커싱되었을 때, 최대 30mm이다.
원하는 장주기 광섬유 격자필터 스펙트럼, 다시 말해서 정확한 커플링 파장의 위치와 소광비(extiction ratio)를 얻기 위해서는 진폭 마스크의 주기를 정확히 조절하여 적정 시간동안 자외선 레이저를 주사하는 것이 필요하다.
진폭 마스크의 주기를 보다 정확하게 조절하기 위하여 여러가지 방법이 사용되어 왔는데, 그 중 하나가 단일 슬릿(single slit)을 이동 스테이지(translation stage)에 장착하여 사용하는 것이다. 이 방법은 원하는 주기만큼 슬릿 혹은 광섬유를 이동하며 자외선 레이저를 주사하는 방법이다. 단일 슬릿은 정확한 주기가 가능하고, 임의로 주기를 조절할 수 있는 장점이 있다. 그러나, 슬릿의 사이즈가 고정되어있어서 주기를 바꿀 때 빛이 통과하는 부분과 통과하지않는 부분의 비를 나타내는 듀티 사이클(duty cycle, on/off ratio)이 일정하지않고, 포인트 단위(point by point)로 굴절률 변화를 주므로 시간이 많이 걸린다는 단점이 있다.
진폭 마스크의 다른 예로서 실리카 위에 패턴을 뜬 후, 크롬을 도핑하여 제작하는 마스크가 있다. 이러한 진폭 마스크의 경우, 정확한 주기를 가지는 마스크를 제조할 수 있으나 마스크 제조과정이 복잡하고 비용이 많이 들며 주기가 고정되어 있으므로 하나의 마스크로 디자인하고자 하는 스펙트럼은 하나만 가능하다. 또한 손상한계파워(damage threshold power)가 낮아서 고출력의 엑시머 레이저(excimer laser)를 효율적으로 이용할 수 없다는 단점이 있다.
일반적으로 두 밴드에서 이득 피크치를 갖는 광섬유증폭기에서 그 이득 스펙트럼을 평탄화하기위해 상술한 진폭 마스크를 이용하여 두 밴드의 장주기 격자를 제조하는 경우, 스펙트럼 특성이 달라질 때마다 새로운 주기의 마스크를 디자인해야한다. 이 경우, 각 밴드에 해당하는 주기를 갖는 마스크가 필요하며, 두 밴드 제조시에도 시리얼(serial)로 진행되므로 광민감성 광섬유의 특성에 따른 보정이 필요하다.
본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 하나의 광섬유에 두 밴드의 장주기 격자를 동시에 제작하는 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 본 발명에 따른 두 밴드의 장주기 격자를 제조하는 장치를 보이는 장치도이다.
도 2(a)는 광섬유를 자외선 레이저 광에 노출시켰을 때, 수소로딩 후 상온에서 유지된 시간에 따른 커플링 파장의 변화를 도시한 것이다.
도 2(b)는 수소로딩 후 상온에서 유지된 시간에 따른 커플링 시작 파장의 변화를 도시한 것이다.
도 3은 파장에 따른 광섬유증폭기의 이득특성을 도시한 것이다.
도 4는 도 1의 제1 또는 제2진폭 마스크의 실시예를 도시한 것이다.
도 5는 도 2에 도시된 제1 또는 제2 장주기 격자 제조부에서 진폭 마스크의 위치를 조절하여 장주기 격자의 주기를 결정하는 과정을 설명하는 도면이다.
도 6a는 도 5에서 x+y=700mm일 때, x값의 변화에 따른 격자주기를 도시한 것이다.
도 6b는 도 5에서 x+y=430mm일 때, x값의 변화에 따른 격자주기를 도시한 것이다.
상기 기술적 과제를 이루기위한, 본 발명은 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역과 통과하지않는 비통과영역이 교번하여 반복되는 두 진폭 마스크를 광섬유의 서로 다른 위치상에 구비하고, 상기 레이저 광을 상기 두 진폭 마스크에 통과시켜서 상기 광섬유에 조사하여 서로 다른 주기를 갖는 두 장주기 격자를 제조하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치에 있어서, 상기 레이저 광이 상기 광섬유까지 도달하는 거리를 고정하고, 상기 제1진폭 마스크의 위치를 조절하여 상기 광섬유에 형성되는 제1장주기 격자의 주기를 결정하는 제1장주기 격자 제조부; 및 상기 레이저 광이 상기 광섬유까지 도달하는 거리를 고정하고, 상기 제2진폭 마스크의 위치를 조절하여 상기 제2장주기 격자의 주기를 결정하되, 상기 제1장주기 격자 제조부와 실질적으로 동시에 제2장주기 격자를 형성하는 제2장주기 격자 제조부를 포함함을 특징으로한다.
상기 기술적 과제를 이루기위한, 본 발명은 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역과 통과하지않는 비통과영역이 교번하여 반복되는 두 진폭 마스크를 광섬유의 서로 다른 위치상에 구비하고, 상기 레이저 광을 상기 두 진폭 마스크에 통과시켜서 상기 광섬유에 조사하여 서로 다른 주기를 갖는 두 장주기 격자를 제조하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치에 있어서, 상기 레이저 광이 상기 광섬유까지 도달하는 거리를 고정하고, 상기 제1진폭 마스크의 위치를 조절하여 상기 광섬유에 형성되는 제1장주기 격자의 주기를 결정하는 제1장주기 격자 제조부; 상기 레이저 광이 상기 광섬유까지 도달하는 거리를 고정하고, 상기 제2진폭 마스크의 위치를 조절하여 상기 제2장주기 격자의 주기를 결정하되, 상기 제1장주기 격자 제조부와 실질적으로 동시에 제2장주기 격자를 형성하는 제2장주기 격자 제조부; 광원; 상기 광원에서 생성되고, 상기 제1 및 제2장주기 격자가 형성된 광섬유를 통과한 광의 출력 스펙트럼을 측정하는 측정부; 및 상기 측정부에 측정되는 출력 스펙트럼을 점검하고, 원하는 출력 스펙트럼을 얻도록 상기 제1 및 제2진폭 마스크의 위치를 조절하는 제어부를 포함함을 특징으로한다.
이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 보다 상세히 설명하기로한다. 도 1은 본 발명에 따른 두 밴드의 장주기 격자를 제조하는 장치를 보이는 장치도이다. 도 1에 따른 두 밴드의 장주기 격자 제조장치는 자외선 레이저광원(100), 제1장주기 격자 제조부(110), 제2장주기 격자 제조부(120), 광원(130), 광섬유(140), 측정부(150) 및 제어부(미도시)를 포함한다.
제1장주기 격자 제조부(110)는 스플리터(splitter, 111), 제1원통형 렌즈(112), 제1분산부(113), 제1진폭 마스크(114) 및 제1슬릿(115)을 구비한다.
제2장주기 격자 제조부(120)는 미러(121), 제2원통형 렌즈(122), 제2분산부(123), 제2진폭 마스크(124) 및 제2슬릿(125)을 구비한다.
상술한 구성에 의해 두 밴드의 장주기 격자가 형성되는 과정은 다음과 같다. 제1장주기 격자 제조부(110) 및 제2장주기 광섬유 격자 제조부(120)는 광섬유(140)에 제1 및 제2주기의 장주기 격자를 실질적으로 동시에 형성한다.
상세한 과정은 다음과 같다. 먼저, 스플리터(110)는 자외선 레이저 광원(100)에서 생성된 자외선 레이저 광을 1:1로 분리하여 일부는 90°로 반사하여 광의 경로를 변경시키고, 나머지는 통과시킨다. 제1원통형 렌즈(112)는 스플리터(110)에 의해 경로가 변경되어 입사한 자외선 레이저 광의 빔사이즈가 큰 쪽으로 포커싱되도록 한다. 이 때, 초점은 광섬유(140)에 맺히도록한다. 제1분산부(113)는 제1원통형 렌즈(112)를 통과한 광을 분산시켜서 빔 사이즈를 확장하는데, 대표적인 예로서 오목렌즈(concave lens)가 적절하다. 제1진폭 마스크(114)는 제1분산부(113)를 통과한 광을 선택적으로 통과시킨다. 제1슬릿(115)은 장주기 격자의 대역폭을 결정하는 격자 길이만큼의 폭을 갖는다. 제1슬릿(115)을 통과한 광이 광섬유(140)에 주사되면, 측정부(150)는 광원(130)에서 생성되어 광섬유(140)를 통과한 광의 각 파장에서 커플링 피크를 측정한다. 제어부(미도시)는 장주기 격자 필터가 원하는 파장에서 커플링이 일어나도록 제1진폭 마스크(114)의 위치를 조절함으로써 장주기 격자의 주기를 조절한다.
스플리터(110)에서 통과된 자외선 레이저 광은 미러(121)에 의해 90°로 반사되어 경로가 변경된다. 제2원통형 렌즈(122)는 미러(121)에 의해 경로가 변경되어 입사한 자외선 레이저 광을 빔사이즈가 큰 쪽으로 포커싱되도록 한다. 이 때, 초점은 광섬유(140)에 맺히도록한다. 제2분산부(123)는 제2원통형 렌즈(122)를 통과한 광을 분산시켜서 빔 사이즈를 확장한다. 제2진폭 마스크(124)는 제2분산부(123)를 통과한 광을 선택적으로 통과시킨다. 제2슬릿(125)은 장주기 격자의 대역폭을 결정하는 길이만큼의 폭을 갖는다. 제2슬릿(125)을 통과한 광이 광섬유(140)에 주사되면, 측정부(150)는 광원(130)에서 생성되고 광섬유(140)를 통과한 광에 대해 파장에 따른 커플링 피크를 측정한다. 제어부(미도시)는 장주기 격자 필터가 원하는 파장에서 커플링이 일어나도록 제2진폭 마스크(124)의 위치를 조절함으로써 장주기 격자의 주기를 조절한다.
여기서, 광섬유(140)는 자외선에 민감한(UV photosensitive) 광섬유로서, 게르마늄(Ge)이 첨가된 광섬유에 수소(H2)를 로딩(loading)하여 얻어진다. 수소처리 조건은 대략 80~90°의 온도 및 ~100 기압에서 수십시간동안 처리된다. 격자 제조를 위해 수소가 로딩된 광섬유는 상온에서 유지되는데, 시간이 지남에 따라 광섬유내에 확산되어있던 수소분자는 서서히 클래딩 밖으로 빠져나가게되며, 수소가 빠져나가게됨에 따라 코아와 클래딩의 유효굴절률 차가 발생한다. 따라서, 상온에서 광섬유를 유지하는 시간에 따라 커플링 조건도 변하게된다. 도 2(a)는 광섬유를 자외선 레이저 광에 노출시켰을 때, 수소로딩 후 상온에서 유지된 시간에 따른 커플링 파장의 변화를 도시한 것이다. 도 2(b)는 수소로딩 후 상온에서 유지된 시간에 따른 커플링 시작 파장의 변화를 도시한 것이다. 도시된 바에 따르면, 상온에서 유지된 시간이 많을수록 커플링 파장이 장파장쪽으로 이동하며, 대략 30시간 정도 후에는 다시 단파장으로 이동함을 알 수 있다. 수소처리된 광섬유는 제조시 광 스펙트럼 해석기(Optical Spectrum Analyzer)와 같은 측정장치에 나타나는 스펙트럼은 실제 안정화된 스펙트럼이 아니므로, 최종 안정화된 제품에 대해 정확한 스펙트럼을 얻기위해서는 이에 대한 보정이 필요하다. 특히 도 3에 도시된 광섬유증폭기의 이득 특성과 같이 1530nm밴드와 1550nm밴드에서 이득 피크를 갖는 경우, 이득 평탄화된 광섬유증폭기를 얻기위해서는 상기 두 밴드를 동시에 평탄화시켜야 한다.
도 4는 도 1의 제1 또는 제2진폭 마스크(114, 124)의 실시예를 도시한 것이다. 도 4에 따른 진폭 마스크는 0.2mm 정도의 얇은 금속 기판(400), 예컨대 스테인레스 스틸 기판에 수백 ㎛의 주기(Λ0)로 광을 통과시킬 수 있는 통과영역(402)과 그 외의 비통과영역(404)으로 구성된다. 통과영역(402)은 이산화탄소 레이저를 이용한 가공 또는 화학적 식각(chemical etching) 등의 방법으로 가공된다. 금속 기판(400)의 사용은 손상 한계의 제한을 없애므로 고파워 자외선 레이저를 소스로 사용할 수 있다는 잇점이 있다. 통과영역(402)으로는 레이저가 통과하여 광 도파로의 굴절률을 높이게 되며, 비통과영역(404)은 금속부분으로 자외선 레이저를 차단한다.
도 5는 도 2에 도시된 제1 또는 제2 장주기 격자 제조부(110, 120)에서 진폭마스크의 위치를 조절하여 장주기 격자의 주기를 결정하는 과정을 설명하는 도면이다. 도 5에 따르면, 원통형 렌즈(512)를 통과한 레이저 광은 분산부, 즉, 오목 렌즈(513)에 의해 분산되고, 진폭 마스크(514)에 의해 마스킹되어 광섬유(540)에 맺히게 된다. 여기서, 설명의 편의를 위해 오목렌즈(513)의 초점으로부터 진폭 마스크(514)까지의 거리를 x라 하고, 진폭 마스크(514)와 광섬유(540)까지의 거리를 y라 하자. 도시된 바와 같이 진폭 마스크의 반주기를 a라 하고, 수평방향의 레이저 광(550)에 대해 오목 렌즈(513)의 초점으로부터 진폭 마스크(514)를 지나 광섬유(540)에 도달하는 레이저 광의 각도를 각각 γ, β, α라 하며, 경로에 따라 광섬유(540)에 맺히는 레이저 광의 길이를 각각 C, B, A라 하면, 다음과 같은 식이 성립한다.
Λ를 광섬유(540)에 형성되는 징주기 격자의 주기라 할 때, Λ(=B)는 수학식 3으로부터 다음과 같이 구해진다.
여기서, Λ0는 진폭 마스크의 주기이고, 2a이다.
즉, 오목 렌즈(513)와 광섬유(540)와의 거리가 고정되었을 때, 진폭 마스크(514)의 위치에 따라 광섬유(540)상에 형성되는 장주기 격자의 주기가 조절된다. 도 6a는 도 5에서 x+y=700mm일 때, x값의 변화에 따른 격자주기를 도시한 것이고, 도 6b는 x+y=430mm일 때, x값의 변화에 따른 격자주기를 도시한 것이다. 여기서, 진폭 마스크의 주기는 420μm이다.
따라서, 원하는 출력 스펙트럼을 갖는 장주기 격자를 형성하고자할 경우, 밴드폭을 슬릿 사이즈로 조절하고 오목 렌즈와 진폭 마스크와의 거리(x), 진폭 마스크와 광섬유와의 거리(y)를 조절한다.
본 발명에 의하면, 광섬유에 주사되는 레이저 빔 사이즈를 조절하여 장주기 격가 필터의 밴드폭을 조절할 수 있고, 금속 마스크를 사용하므로 마스크 제조가 용이하며 비용이 저렴하다. 또한, 마스크의 손상한계파워가 크고, 주기조절이 가능하다. 두 밴드를 동시에 제조하여 수소확산에 의한 파장이동변수를 제거하게되므로 필터 디자인이 간단하고 제작시간을 단축할 수 있다. 장주기 격자에 사용되는 광은 대략 ~120mJ의 출력 에너지를 갖는데, 본 발명에서는 스플리터를 이용하여 고출력(600mJ)의 엑시머 레이저광을 1:1로 나누어 사용하므로, 엑시머 레이저 광에 대해서도 보다 안정적으로 동작하며 효율도 높일 수 있다.

Claims (13)

  1. 자외선 레이저 광원;
    상기 자외선 레이저 광원에서 생성된 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역이 소정 간격으로 형성된 제1진폭 마스크를 구비하여 상기 제1진폭 마스크를 광섬유 위에 위치시키고, 상기 자외선 레이저 광을 상기 제1진폭 마스크에 조사하여 상기 광섬유에 제1장주기 격자를 형성하되, 상기 제1진폭 마스크와 상기 광섬유간 거리를 조절하여 상기 제1장주기 격자의 격자주기를 결정하는 제1장주기 격자 제조부; 및
    상기 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역이 소정 간격으로 형성된 제2진폭 마스크를 구비하여 상기 제2진폭 마스크를 상기 광섬유 위에 상기 제1진폭 마스크와는 다른 위치에 놓고, 상기 자외선 레이저 광을 상기 제2진폭 마스크에 조사시켜서 상기 광섬유에 제2장주기 격자를 형성하되, 상기 제2진폭 마스크와 상기 광섬유간 거리를 조절하여 상기 제2장주기 격자의 격자주기를 결정하는 제2장주기 격자 제조부를 포함함을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1장주기 격자 제조부는
    상기 자외선 레이저 광을 1:1로 분할하고, 분할된 제1광을 소정 각도로 반사하여 그 경로를 변경하고, 나머지 제2광은 상기 제2장주기 격자 제조부로 통과시키는 스플리터를 더 구비함을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제작 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1장주기 격자 제조부는
    상기 경로가 변경된 제1광을 포커싱하는 렌즈;
    상기 렌즈를 통과한 레이저 광을 분산시키는 분산부; 및
    상기 제1진폭 마스크를 구비함을 특징으로하고, 상기 제1진폭 마스크는 상기 통과영역을 통해 상기 분산부에 의해 분산된 제1광을 상기 광섬유로 통과시키는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 분산부는
    오목렌즈임을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1장주기 격자의 주기는
    Λ0가 상기 제1진폭 마스크의 주기이고, x가 상기 오목렌즈의 초점과 상기 제1진폭 마스크간 거리, y가 상기 제1진폭 마스크와 상기 광섬유간 거리라 할 때, 다음의 수학식
    [수학식]
    과 같이 결정됨을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1진폭 마스크의 재질은
    금속임을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1진폭 마스크와 상기 광섬유 사이에 상기 제1장주기 격자의 길이를 그 폭으로하는 슬릿을 더 구비함을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  8. 제2항에 있어서, 제2장주기 격자 제조부는
    상기 제2광을 소정 각도로 반사하여 그 경로를 변경하는 미러;
    상기 경로가 변경된 제2광을 포커싱하는 제2렌즈;
    상기 제2렌즈를 통과한 레이저 광을 분산시키는 제2분산부; 및
    상기 제2진폭 마스크를 구비함을 특징으로하고, 상기 제2진폭 마스크는 상기 통과영역을 통해 상기 제2광을 상기 광섬유로 통과시키는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제2분산부는
    오목렌즈임을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제2장주기 격자의 주기는
    Λ0가 상기 제2진폭 마스크의 주기이고, x가 상기 오목렌즈의 초점과 상기 제2진폭 마스크간 거리, y가 상기 제2진폭 마스크와 상기 광섬유간 거리라 할 때, 다음의 수학식
    [수학식]
    과 같이 결정됨을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  11. 제8항에 있어서, 상기 제2진폭 마스크의 재질은
    금속임을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 제2진폭 마스크와 상기 광섬유 사이에 상기 제2장주기 격자의 길이를 그 폭으로하는 제2슬릿을 더 구비함을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
  13. 자외선 레이저 광원;
    상기 자외선 레이저 광원에서 생성된 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역이 소정 간격으로 형성된 제1진폭 마스크를 구비하여 상기 제1진폭 마스크를 광섬유 위에 위치시키고, 상기 자외선 레이저 광을 상기 제1진폭 마스크에 조사하여 상기 광섬유에 제1장주기 격자를 형성하되, 상기 제1진폭 마스크와 상기 광섬유간 거리를 조절하여 상기 제1장주기 격자의 격자주기를 결정하는 제1장주기 격자 제조부;
    상기 자외선 레이저 광을 통과시키는 통과영역이 소정 간격으로 형성된 제2진폭 마스크를 구비하여 상기 제2진폭 마스크를 상기 광섬유 위에 상기 제1진폭 마스크와는 다른 위치에 놓고, 상기 자외선 레이저 광을 상기 제2진폭 마스크에 조사시켜서 상기 광섬유에 제2장주기 격자를 형성하되, 상기 제2진폭 마스크와 상기 광섬유간 거리를 조절하여 상기 제2장주기 격자의 격자주기를 결정하는 제2장주기 격자 제조부;
    상기 자외선 레이저 광과는 다른 광을 생성하는 제2광원;
    상기 제2광원에서 생성되고 상기 제1 및 제2장주기 격자 제조부에 의해 제1 및 제2장주기 격자가 형성된 광섬유를 통과한 광의 출력 스펙트럼을 측정하는 측정부; 및
    상기 측정부에 측정되는 출력 스펙트럼이 원하는 출력 스펙트럼이 되도록 상기 제1 및 제2진폭 마스크의 위치를 조절하는 제어부를 포함함을 특징으로하는 두 밴드의 장주기 격자 제조 장치.
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