CN110542946B - 一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法，包括一对振幅模板、固定模板支架、移动模板支架和移动驱动机构，移动模板支架滑动连接在固定模板支架的一端面上，一对振幅模板相对设置且分别嵌设在移动模板支架和固定模板支架上，移动驱动机构设于固定模板支架上且与移动模板支架连接并驱动移动模板支架在固定模板支架上滑动，令固定模板支架和移动模板支架上的振幅模板错位或对正，通过结合对应的方法使得，本发明方案能够解决现有刻写光纤光栅时带宽调节的不便捷、不准确等不足，而且还提高了光纤光栅的刻写效率和刻写精度，降低光纤光栅的制造成本。

Description

一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法

技术领域

本发明涉及光通讯中光纤激光器、光纤传感器、光纤滤波器的啁啾光纤光栅装置领域，尤其是用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法。

背景技术

光纤光栅是利用光纤材料的光敏性，通过紫外光曝光使光纤纤芯的折射率产生轴向周期性变化而形成的具有波长选择功能的一种低损耗的器件。其还具有体积小、全兼容于光纤、能埋入智能材料等优点，在光通信、光纤激光器、光纤传感器、以及光纤滤波器等领域，被广泛的研究和应用。

1978年，加拿大握太华的Hill等人首次发现了光纤的光敏性并成功应用于研制高反射率布拉格光栅滤波器。1989年，美国东哈特福德联合技术研究中心的Meltz等人以244nm紫外光为光源，用全息干涉的方法在掺锗石英光纤上研制出第一支布拉格谐振波长位于通信波段的光纤光栅。1993年，Hill等人又提出了位相掩模技术，它主要是利用紫外光透过相位掩模板后的±1级衍射光形成的干涉光对光纤曝光，使纤芯折射率产生周期性变化写入光栅，此技术使光纤光栅的制作更加简单、灵活，便于批量生产。自1997年后，由于光纤光栅制作方法趋于成熟，极大地推动了光纤光栅应用技术的不断发展，也使得光纤光栅就迈入了大规模发展时期。

为了制作出性能更加优良的光纤光栅，一种非常重要的技术——光纤切趾技术被相应提出。这是因为对于一定长度的均匀光纤光栅，反射谱中主峰的两侧会伴随有一系列的侧峰，一般称这些侧峰为光栅的边模或旁瓣。这些边模或旁瓣会使相邻的信道产生极大的串扰，影响信号的信道隔离度或光栅波长选择的准确性，影响了光纤光栅器件的性能。因此，在实际应用中，要发挥光纤光栅的诸多功能，必须采用非常好的切趾技术。

一般来说，光纤光栅的切趾方法有很多，如振幅模板切趾、相位模板切趾，电控调谐切趾，微机扫描切趾，激光控制切趾，脉冲相干切趾，扫描镜抖动切趾法，电弧扫描切趾法，旋转光阑切趾法，屏幕掩模切趾法等等。这些方法都有各自的优缺点，需要根据不同的条件适当的应用，以达到理想的切趾效果。当然，在实际应用中，利用振幅模板制作切趾光栅还是一种最为传统和常见的光纤光栅切趾方法，其他切趾方法或多或少会受到产品结构、实现难易程度，以及实现成本等要求限制。

针对振幅模板切趾这种容易实现且成本还相对低廉的方法，实际操作中通常会有两种实现光栅切趾的实现方式：

一种是使用固定式振幅模板，即利用已加工有固定轮廓的遮挡片（如镂空区域为三角形，余弦形，升余弦形，高斯形等）来调整光斑能量的分布。对于这种固定式振幅模板的放置位置，一般是放在光路中聚焦柱面镜之前，远离刻写光纤位置。为了保证刻写的稳定性，一般要求光纤的直径要小于聚焦后的光斑高度尺寸，这就可能造成经过调制后的光斑能量分布无法完全作用在光纤上，即只能是部分实现光纤切趾或可能无切趾效果。

另一种是使用移动式振幅模板，即同样利用已加工有固定轮廓的遮挡片（如镂空区域为三角形，余弦形，升余弦形，高斯形等），在刻写过程中，通过控制振幅模板的移动，来实现光纤轴向不同长度位置在不同时间条件下的折射率调制。对于这种移动式振幅模板的放置位置，通常是放在光路中聚焦柱面镜之后，相位掩模板之前，靠近光纤的位置，以达到准备控制轴向折射率调制的目的。但是该方法会存在曝光时需要控制与平衡振幅模板的移动速度和光栅反射率指标的要求，这不仅增加了控制难度、影响刻写精度，而且可能引入不必要的震动干扰风险。

不管是上述的哪一种切趾方式，都存在因机械式振幅模板具有一定厚度带来的边缘杂散光问题，从影响高精度光纤光栅的制作。另外，对于上述两种方式，都需要加工一定系列（若干片）的振幅模板，以适应不同光栅带宽的调节要求，这无形当中也增加了光栅的制作成本和光栅的带宽调节难度。

发明内容

针对现有技术的问题，本发明的目的在于提出一种能够解决现有刻写光纤光栅时带宽调节的不便捷、不准确等不足，而且还提高了光纤光栅的刻写效率和刻写精度，降低光纤光栅的制造成本的用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置与方法。

本发明方案的技术思路是通过光路整形（如扩束、滤波或衰减等），得到较为均匀的准分子激光器的光斑能量分布，在光路的聚焦柱面镜之前放置振幅模板装置，通过对振幅模板装置的简单调节，对其光斑能量分布的优化调整，将其调整到刻栅所需要的能量分布情况，以实现对啁啾光纤光栅的切趾，从而有效地抑制光纤光栅的边模或旁瓣，得到高性能的、不同带宽要求的切趾光纤光栅。

基于上述思路和目的，本发明采用的技术方案是：

一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其包括一对振幅模板、固定模板支架、移动模板支架和移动驱动机构，所述的移动模板支架滑动连接在固定模板支架的一端面上，所述的一对振幅模板相对设置且分别嵌设在移动模板支架和固定模板支架上，所述的移动模板支架和固定模板支架对应振幅模板的嵌设位置设有贯穿其上下端面的嵌设槽，所述的移动驱动机构设于固定模板支架上且与移动模板支架连接并驱动移动模板支架在固定模板支架上滑动，令固定模板支架和移动模板支架上的振幅模板错位或对正。

进一步，所述的移动驱动机构包括旋钮和恢复弹簧，所述固定模板支架的一侧沿移动模板支架设置方向延伸有延伸部，所述旋钮的一端螺纹穿过延伸部并与移动模板支架的侧面相抵，由旋钮的旋入推动移动模板支架滑动，所述移动模板支架远离旋钮的一侧沿固定模板支架方向设有连接板，所述的恢复弹簧一端固定在连接板上，恢复弹簧的另一端固定在固定模板支架的侧面上，当固定模板支架和移动模板支架上的振幅模板正对时，恢复弹簧处于自然状态，当旋钮推动移动模板支架滑动时，恢复弹簧处于拉伸状态。

优选的，所述一对振幅模板的材质为石英。

作为其中一种优选方式，所述一对振幅模板的两端面均设有抗激光损伤的空气增透膜。

作为其中一种优选方式，所述一对振幅模板的两端面均设有抗激光损伤的微观纳米结构。

作为其中一种优选方式，所述一对振幅模板的一端面设有一层抗激光损伤的渐变透过率膜层或渐变反射率膜层或微观纳米结构。

进一步，所述渐变透过率膜层的渐变透过率或渐变反射率膜层的渐变反射率的变化趋势为线形、正弦形、升余弦形或高斯形。

一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置的使用方法，其包括如下步骤：

（1）将一对振幅模板分别放入固定模板支架和移动模板支架的嵌设槽内，并令其具有渐变透过率膜层或渐变反射率膜层或微观纳米结构的端面朝外；

（2）将振幅模板装置设于啁啾光栅制作装置中进行使用，所述啁啾光栅制作装置至少包括沿光路设置的紫外激光器、光路整形系统、反射镜、柱面镜、相位掩膜板，相位掩膜板的光射出面与待处理光纤相对，所述的振幅模板装置设于反射镜和柱面镜之间，经反射镜反射后的激光进入振幅模板装置中；

（3）旋转旋钮，使其旋入延伸部，令移动模板支架受旋钮端部推动而相对固定模板支架滑动，实现一对振幅模板的错位，使透过一对振幅模板的激光产生的光斑能量分布得到调制，然后再射入柱面镜中，经柱面镜聚焦后，入射至相位掩膜板并产生衍射光，通过光干涉对待处理光纤的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光纤光栅的制作。

其中，由准分子激光器或倍频激光器产生的紫外激光，经过光路整形后（如扩束、滤波或衰减），其光斑的尺寸比较合适、能量分布也相对比较均匀；此时加入振幅模板装置，可进一步优化光斑的能量分布；再经柱面镜聚焦后，入射至相位掩模板上，产生±1级衍射光，通过光干涉对光纤纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光栅的制作。通过对振幅模板装置的简单调整，可以改变激光光斑的能量分布，从而实现不同带宽的啁啾光栅的制作。该操作简便、调节快速，可提高刻写啁啾光栅的性能和降低光栅的制作成本。

采用上述的技术方案，本发明的有益效果为：本发明方案通过调节振幅模板装置上两片振幅模板的相对位置，可以实现不同的激光光斑的能量分布调节，使得其可以灵活地制作出满足不同带宽要求的啁啾光纤光栅，其不仅操作简便、调节快速、易于实施，而且制作出的啁啾光栅性能将更好、成本更低，其在光纤光栅制作等领域有着广阔的应用前景。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步的阐述：

图1为本发明振幅模板装置的结构简要示意图；

图2为单个振幅模板的结构示意图；

图3为图2所示单个振幅模板对应的透过率曲线图；

图4为两个振幅模板的组合示意图；

图5为图4所示两个振幅模板对应的透过率曲线图；

图6为利用本发明振幅模板装置制作光栅的刻写光路结构示意图；

图7为利用本发明振幅模板装置制作光纤光栅的其中一种实施例的啁啾光纤光栅光谱结果；

图8为利用本发明振幅模板装置制作光纤光栅的另一实施例的啁啾光纤光栅光谱结果；

图9为利用本发明振幅模板装置制作光纤光栅的又一实施例的啁啾光纤光栅光谱结果；

图10为利用振幅模板装置制作光纤光栅的其中一实施例的啁啾光纤光栅光谱结果。

具体实施方式

如图1所示，本发明装置包括一对振幅模板060、070、固定模板支架180、移动模板支架200和移动驱动机构，所述的移动模板支架200滑动连接在固定模板支架180的一端面上，所述的一对振幅模板060、070相对设置且分别嵌设在移动模板支架200和固定模板支架180上，优选的，所述一对振幅模板060、070的材质为石英，所述的移动模板支架200和固定模板支架180对应振幅模板060、070的嵌设位置设有贯穿其上下端面的嵌设槽，所述的移动驱动机构设于固定模板支架180上且与移动模板支架200连接并驱动移动模板支架200在固定模板支架180上滑动，令固定模板支架180和移动模板支架200上的振幅模板060、070错位或对正。

其中，所述的移动驱动机构包括旋钮190和恢复弹簧170，所述固定模板支架180的一侧沿移动模板支架200设置方向延伸有延伸部201，所述旋钮190的一端螺纹穿过延伸部201并与移动模板支架200的侧面相抵，由旋钮190的旋入推动移动模板支架200滑动，所述移动模板支架200远离旋钮190的一侧沿固定模板支架180方向设有连接板171，所述的恢复弹簧170一端固定在连接板171上，恢复弹簧170的另一端固定在固定模板支架180的侧面上，当固定模板支架180和移动模板支架200上的振幅模板060、070正对时，恢复弹簧170处于自然状态，当旋钮190推动移动模板支架200滑动时，恢复弹簧170处于拉伸状态。

作为其中一种优选方式，所述一对振幅模板的两端面均设有抗激光损伤的空气增透膜或微观纳米结构。

作为其中一种优选方式，所述一对振幅模板的一端面设有一层抗激光损伤的渐变透过率膜层或渐变反射率膜层或微观纳米结构，进一步，所述渐变透过率膜层的渐变透过率或渐变反射率膜层的渐变反射率的变化趋势为线形、正弦形、升余弦形或高斯形。

实施例1

通过应用图1所示的本发明振幅模板装置制作一种带宽为2.5nm，反射率＞99%，中心波长1065nm，边模抑制比大于20dB的啁啾光纤光栅。

结合图1、图2和图4所示，其中，一对振幅模板060、070的基底010材质为石英，作为其中一种优选方式，一对振幅模板060、070的两端面均设有抗激光损伤的空气增透膜020，其在244 nm波长下的反射率小于0.2%。

另外，一对振幅模板060、070的一端面设有一层抗激光损伤的渐变透过率膜层030，该渐变透过率膜层的渐变透过率或渐变反射率膜层的渐变反射率的变化趋势为线形的，即其在每1 mm长度范围内的透过率的线性变化率为~50%。

进一步结合图3和图5所示，通过调节一对振幅模板060、070的错位，使振幅模板060、070的错位区域080长度为6mm，选用的相位掩模板的啁啾率为2.8nm/cm，选用的待刻写光纤的平均折射率为1.45。

进一步结合图6所示，利用该振幅模板装置制作啁啾光纤光栅的方法步骤如下：

（1）将一对振幅模板060、070分别放入固定模板支架180和移动模板支架200的嵌设槽内，并令其具有渐变透过率膜层030的端面朝外；

（2）将振幅模板装置130设于啁啾光栅制作装置中进行使用，所述啁啾光栅制作装置至少包括沿光路设置的紫外激光器090、光路整形系统110、反射镜120、柱面镜140、相位掩膜板150，相位掩膜板150的光射出面与待处理光纤160相对，所述的振幅模板装置130设于反射镜120和柱面镜140之间，经反射镜120反射后的激光进入振幅模板装置130中；

（3）旋转旋钮190，使其旋入延伸部201，令移动模板支架200受旋钮190端部推动而相对固定模板支架180滑动，实现一对振幅模板060、070的错位，使透过一对振幅模板060、070的激光产生的光斑能量分布得到调制，然后再射入柱面镜140中，经柱面镜140聚焦后，入射至相位掩膜板150并产生衍射光，通过光干涉对待处理光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光纤光栅的制作。

由紫外激光器090产生的紫外激光100，经过光路整形110后，其光斑的尺寸比较合适、能量分布也相对比较均匀，此时加入振幅模板装置130，可进一步优化光斑的能量分布，再经柱面镜140）聚焦后，入射至相位掩模板150上产生±1级衍射光，通过光干涉对光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光栅的制作，通过本实施例所制作的啁啾光纤光栅光谱结果如图7所示。

实施例2

通过应用图1所示的本发明振幅模板装置制作一种带宽为1.9nm，反射率＞99%，中心波长1064.7nm，边模抑制比大于20dB的啁啾光纤光栅。

本实施例与实施例1大致相同，其不同之处在于，通过调节一对振幅模板060、070的错位，使振幅模板060、070的错位区域080长度为5mm。

进一步结合图6所示，利用该振幅模板装置制作啁啾光纤光栅的方法步骤如下：

（1）将一对振幅模板060、070分别放入固定模板支架180和移动模板支架200的嵌设槽内，并令其具有渐变透过率膜层030的端面朝外；

（2）将振幅模板装置130设于啁啾光栅制作装置中进行使用，所述啁啾光栅制作装置至少包括沿光路设置的紫外激光器090、光路整形系统110、反射镜120、柱面镜140、相位掩膜板150，相位掩膜板150的光射出面与待处理光纤160相对，所述的振幅模板装置130设于反射镜120和柱面镜140之间，经反射镜120反射后的激光进入振幅模板装置130中；

（3）旋转旋钮190，使其旋入延伸部201，令移动模板支架200受旋钮190端部推动而相对固定模板支架180滑动，实现一对振幅模板060、070的错位，使透过一对振幅模板060、070的激光产生的光斑能量分布得到调制，然后再射入柱面镜140中，经柱面镜140聚焦后，入射至相位掩膜板150并产生衍射光，通过光干涉对待处理光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光纤光栅的制作。

由紫外激光器090产生的紫外激光100，经过光路整形110后，其光斑的尺寸比较合适、能量分布也相对比较均匀，此时加入振幅模板装置130，可进一步优化光斑的能量分布，再经柱面镜140）聚焦后，入射至相位掩模板150上产生±1级衍射光，通过光干涉对光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光栅的制作，通过本实施例所制作的啁啾光纤光栅光谱结果如图8所示。

实施例3

通过应用图1所示的本发明振幅模板装置制作一种带宽为2.4nm，反射率＞99%，中心波长1065nm，边模抑制比大于20dB的啁啾光纤光栅。

本实施例与实施例1大致相同，其不同之处在于，一对振幅模板060、070的一端面设有一层抗激光损伤的渐变透过率膜层030，该渐变透过率膜层的渐变透过率或渐变反射率膜层030的渐变反射率的变化趋势为高斯形的，roll-off长度为2mm（系数0.8），另外，通过调节一对振幅模板060、070的错位，使振幅模板060、070的错位区域080长度为6mm。

进一步结合图6所示，利用该振幅模板装置制作啁啾光纤光栅的方法步骤如下：

（1）将一对振幅模板060、070分别放入固定模板支架180和移动模板支架200的嵌设槽内，并令其具有渐变透过率膜层030的端面朝外；

（2）将振幅模板装置130设于啁啾光栅制作装置中进行使用，所述啁啾光栅制作装置至少包括沿光路设置的紫外激光器090、光路整形系统110、反射镜120、柱面镜140、相位掩膜板150，相位掩膜板150的光射出面与待处理光纤160相对，所述的振幅模板装置130设于反射镜120和柱面镜140之间，经反射镜120反射后的激光进入振幅模板装置130中；

（3）旋转旋钮190，使其旋入延伸部201，令移动模板支架200受旋钮190端部推动而相对固定模板支架180滑动，实现一对振幅模板060、070的错位，使透过一对振幅模板060、070的激光产生的光斑能量分布得到调制，然后再射入柱面镜140中，经柱面镜140聚焦后，入射至相位掩膜板150并产生衍射光，通过光干涉对待处理光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光纤光栅的制作。

由紫外激光器090产生的紫外激光100，经过光路整形110后，其光斑的尺寸比较合适、能量分布也相对比较均匀，此时加入振幅模板装置130，可进一步优化光斑的能量分布，再经柱面镜140）聚焦后，入射至相位掩模板150上产生±1级衍射光，通过光干涉对光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光栅的制作，通过本实施例所制作的啁啾光纤光栅光谱结果如图9所示。

实施例4

通过应用图1所示的本发明振幅模板装置制作一种带宽为1.8nm，反射率＞99%，中心波长1064.7nm，边模抑制比大于20dB的啁啾光纤光栅。

本实施例与实施例3大致相同，其不同之处在于，在实施例3的基础上通过调节一对振幅模板060、070的错位，使振幅模板060、070的错位区域080长度为5mm。

进一步结合图6所示，利用该振幅模板装置制作啁啾光纤光栅的方法步骤如下：

（1）将一对振幅模板060、070分别放入固定模板支架180和移动模板支架200的嵌设槽内，并令其具有渐变透过率膜层030的端面朝外；

（2）将振幅模板装置130设于啁啾光栅制作装置中进行使用，所述啁啾光栅制作装置至少包括沿光路设置的紫外激光器090、光路整形系统110、反射镜120、柱面镜140、相位掩膜板150，相位掩膜板150的光射出面与待处理光纤160相对，所述的振幅模板装置130设于反射镜120和柱面镜140之间，经反射镜120反射后的激光进入振幅模板装置130中；

（3）旋转旋钮190，使其旋入延伸部201，令移动模板支架200受旋钮190端部推动而相对固定模板支架180滑动，实现一对振幅模板060、070的错位，使透过一对振幅模板060、070的激光产生的光斑能量分布得到调制，然后再射入柱面镜140中，经柱面镜140聚焦后，入射至相位掩膜板150并产生衍射光，通过光干涉对待处理光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光纤光栅的制作。

由紫外激光器090产生的紫外激光100，经过光路整形110后，其光斑的尺寸比较合适、能量分布也相对比较均匀，此时加入振幅模板装置130，可进一步优化光斑的能量分布，再经柱面镜140）聚焦后，入射至相位掩模板150上产生±1级衍射光，通过光干涉对光纤160的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光栅的制作，通过本实施例所制作的啁啾光纤光栅光谱结果如图10所示。

以上所述为本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，根据本发明的教导，在不脱离本发明的原理和精神的情况下凡依本发明申请专利范围所做的均等变化、修改、替换和变型，皆应属本发明的涵盖范围。

Claims (7)

1.一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其特征在于：其包括一对振幅模板、固定模板支架、移动模板支架和移动驱动机构，所述的移动模板支架滑动连接在固定模板支架的一端面上，所述的一对振幅模板相对设置且分别嵌设在移动模板支架和固定模板支架上，所述的移动模板支架和固定模板支架对应振幅模板的嵌设位置设有贯穿其上下端面的嵌设槽，所述的移动驱动机构设于固定模板支架上且与移动模板支架连接并驱动移动模板支架在固定模板支架上滑动，令固定模板支架和移动模板支架上的振幅模板错位或对正，所述的移动驱动机构包括旋钮和恢复弹簧，所述固定模板支架的一侧沿移动模板支架设置方向延伸有延伸部，所述旋钮的一端螺纹穿过延伸部并与移动模板支架的侧面相抵，由旋钮的旋入推动移动模板支架滑动，所述移动模板支架远离旋钮的一侧沿固定模板支架方向设有连接板，所述的恢复弹簧一端固定在连接板上，恢复弹簧的另一端固定在固定模板支架的侧面上，当固定模板支架和移动模板支架上的振幅模板正对时，恢复弹簧处于自然状态，当旋钮推动移动模板支架滑动时，恢复弹簧处于拉伸状态。

2.根据权利要求1所述的一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其特征在于：所述一对振幅模板的材质为石英。

3.根据权利要求1所述的一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其特征在于：所述一对振幅模板的两端面均设有抗激光损伤的空气增透膜。

4.根据权利要求1所述的一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其特征在于：所述一对振幅模板的两端面均设有抗激光损伤的微观纳米结构。

5.根据权利要求1所述的一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其特征在于：所述一对振幅模板的一端面设有一层抗激光损伤的渐变透过率膜层或渐变反射率膜层或微观纳米结构。

6.根据权利要求5所述的一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置，其特征在于：所述渐变透过率膜层的渐变透过率或渐变反射率膜层的渐变反射率的变化趋势为线形、正弦形、升余弦形或高斯形。

7.根据权利要求5或6所述的一种用于快速调节啁啾光纤光栅带宽的振幅模板装置的使用方法，其特征在于：其包括如下步骤：

（1）将一对振幅模板分别放入固定模板支架和移动模板支架的嵌设槽内，并令其具有渐变透过率膜层或渐变反射率膜层或微观纳米结构的端面朝外；

（2）将振幅模板装置设于啁啾光栅制作装置中进行使用，所述啁啾光栅制作装置至少包括沿光路设置的紫外激光器、光路整形系统、反射镜、柱面镜、相位掩膜板，相位掩膜板的光射出面与待处理光纤相对，所述的振幅模板装置设于反射镜和柱面镜之间，经反射镜反射后的激光进入振幅模板装置中；

（3）旋转旋钮，使其旋入延伸部，令移动模板支架受旋钮端部推动而相对固定模板支架滑动，实现一对振幅模板的错位，使透过一对振幅模板的激光产生的光斑能量分布得到调制，然后再射入柱面镜中，经柱面镜聚焦后，入射至相位掩膜板并产生衍射光，通过光干涉对待处理光纤的纤芯折射率进行轴向周期性调制，实现啁啾光纤光栅的制作。

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