KR20020085909A - 광 부호 분할 다중화 방식에 사용하기 위한 광섬유 격자부호화기와 그 제조방법 및 장치 - Google Patents

광 부호 분할 다중화 방식에 사용하기 위한 광섬유 격자부호화기와 그 제조방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 소정의 코드워드(codeword)를 포함하며 광 부호 분할 다중화 방식(OCDMA : Optical Code Division Mutiple Access)에 사용되는 첩(chirped) 광섬유 격자 부호화기(coder)와, 이의 제조 방법 및 장치에 관한 것이다. 이 광섬유 격자 부호화기는 광원(light source)과 진폭 마스크와 위상 마스크를 구비하고 있는 장치를 통해 사전설정된 코드워드(codeword)를 포함하는 다수의 스트라이에이션 (striation) 형상으로 광섬유 내에 형성된다. 광섬유 격자 부호화기 제조 방법은 광원을 마련하는 단계와, 사전설정된 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크를 마련하는 단계와, 위상 마스크를 마련하는 단계와, 광섬유를 마련하는 단계와, 광원으로부터 발생된 광 빔이 상기 진폭 마스크를 통과하고 위상 마스크를 거쳐 광섬유에 도달하는 단계와, 광 빔에 반응하여 사전설정된 코드워드를 포함하는 다수의 스트라이프(strip)의 형상으로 광섬유 내에 광섬유 격자 부호화기를 형성하는 단계를 포함한다. 광섬유 부호화기 제조 장치는 광원과, 사전설정된 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크와, 위상 마스크와, 광섬유를 포함한다.

Description

광 부호 분할 다중화 방식에 사용하기 위한 광섬유 격자 부호화기와 그 제조 방법 및 장치{OPTICAL GRATING CODER FOR USE IN OPTICAL CODE DIVISION MULTIPLE ACCESS, FABRICATING METHOD AND APPARATUS THEREFOR}
본 발명은 광섬유 격자(optical fiber grating)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 코드워드(codeword)를 포함하며 광 부호 분할 다중화 방식에 사용되는 첩 (chirped) 광섬유 격자 부호화기와, 이의 제조 방법 및 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 광섬유 격자는 게르마늄(Ge)이 첨가된 광섬유 코아(core) 부분이 자외선 영역의 빔에 노광되면, 이 코아 부분의 굴절율이 다소 증가하게 되는 현상을 이용하여 제조된다. 광섬유 격자로서 지칭되는 것은 통상적으로 단주기 (short period) 광섬유 격자로써, 격자의 주기는 약 0.5 ㎛ 정도이며 광섬유 격자의 길이는 수 ㎜ 내지 10 ㎜ 정도이다.
이러한 광섬유 격자는 파장 대역 반사 필터, 파장 투과 필터, 광섬유 레이저 및 반도체 레이저의 외부 반사 거울, 광섬유 격자 페브리 페롯 에탈론, 광섬유 격자 센서망 등에 응용되고 있다. 광섬유 격자의 제조 방법은 크게 두 가지로 분류할 수 있는데, 하나는 자외선 광원을 서로 간섭시켜 회절 무늬를 형성하여 제조하는 방법과 다른 하나는 위상 마스크(phase mask)라고하는 간섭형 회절 격자를 사용하여 제조하는 방법이 있다. 일반적으로 많이 사용하는 방법은 위상 마스크를 사용하는 후자의 방법인데, 이는 회절 무늬를 형성시켜 제조하는 전자의 방법에 비해 상대적으로 비용이 저렴한 자외선 광원을 사용할 수 있으며, 격자 제조를 위한 장치가 간단하기 때문이다.
도 1은 위상 마스크를 사용하여 단주기 광섬유 격자를 제조하는 종래 기술에 따른 제조 장치를 도시하고 있다. 도 1에 도시한 바와 같이, 종래 기술에 따른 단주기 광섬유 격자 제조 장치(100)는 광원(101), 볼록 렌즈(102), 위상 마스크 (104), 일반적인 통신용 단일모드(single mode) 광섬유(106)를 포함하고 있다. 도 1에서, 광 파장 분석기(108) 및 광 증폭기(110)는 단주기 광섬유 격자(112)의 광 투과 특성을 측정하기 위해 마련된 것이다. 단주기 광섬유 격자(112)를 제조하는데 사용되는 광원(101)으로는 중심 파장이 248 ㎚인 KrF 엑시머 레이저, XeCl 엑시머 레이저로 여기된 색소(dye) 레이저의 2 차 하모닉(hamonic) 레이저(중심 파장 : 244 ㎚), Nd:YAG 레이저의 4 차 하모닉 레이저(중심 파장 : 265 ㎚) 등이 사용될 수 있다.
위상 마스크(104)를 사용하여 단주기 광섬유 격자(112)를 제조하는 경우, 먼저 0 차 회절(즉, 직진하는 빔의 성분)되는 빔의 세기가 5 % 이하이며, 1 차 회절되는 빔의 세기가 30 % 이상이 되어 ±1 차의 두 회절 빔이 광섬유(106)에 간섭 무늬를 형성하여 광섬유 격자(112)가 형성된다. 단주기 광섬유 격자(112) 제조시 사용되는 광섬유는 Ge가 많이 첨가된 광섬유나 Ge 및 B(붕소)가 첨가된 광섬유를 사용하며, 도 1에서와 같이 일반적인 통신용 단일모드 광섬유(106)를 사용할 때에는 널리 알려진 바와 같이 반드시 수소(H2) 처리를 하여 사용해야 한다.
도 2는 종래 기술에 따른 첩(chirped) 광섬유 격자 제조 장치를 도시하고 있다. 도 2에 도시한 바와 같이, 첩 광섬유 격자 제조 장치(200)는 광원(201), 오목 렌즈(202), 볼록 렌즈(204), 위상 마스크(206), 일반적인 통신용 단일모드 광섬유(208)를 포함하고 있다. 도 2에서, 광 증폭기(210) 및 광 파장 분석기(212)는 도 1에서와 마찬가지로 첩 광섬유 격자(214)의 광 투과 특성을 측정하기 위해 마련된 것이다. 전술한 바와 같이, 광섬유(208)는 첩 광섬유 격자(214) 제조시 수소로 처리된다. 도 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 첩 광섬유 격자(214)는 단주기 광섬유 격자(112)와는 달리 주기가 점차적으로 변화하는 광섬유 격자 소자이다. 첩 광섬유 격자(214)는 광 증폭기(210)로부터 광섬유(208)에 입사되는 광원의 파장에 따라 시간차가 발생하게 되므로, 광섬유(208)를 따라 진행하는 광원이 광섬유(208)의 분산 특성에 의해 분산되었을 때 이러한 광 분산을 보상할 수 있어 초고속 광통신을 가능하게 한다.
통상적으로, 이러한 광섬유 격자를 부호화기(coder)로 사용하는 경우, 주기가 서로 다른 단주기 광섬유 격자(또는 첩 광섬유 격자)를 원하는 코드워드 (codeword)만큼 제조하여 연결하거나, 수퍼스트럭쳐(super structure) 광섬유 격자를 원하는 코드워드만큼 제조하여 광 부호 분할 다중화 방식(OCDMA : Optical Code Division Multiple Access)에 적용하고 있다.
상세하게, 하나의 단주기 광섬유 격자(또는 첩 광섬유 격자)를 형성한 후, 위상 마스크를 교체하여 이전에 형성된 광섬유 격자와 겹치지 않도록 광섬유를 사전설정된 방향으로 이동시키는 방식으로 여러 주기의 광섬유 격자를 원하는 코드워드만큼 형성한다. 그러나, 이와 같은 제조 방법을 사용하는 경우, 광섬유 격자 부호화기를 제조하는 동안에 다수의 위상 마스크를 교체하여야 한다. 따라서, 광 부호 분할 다중화 방식 (OCDMA)에 사용하기 위한 소정의 코드워드 형성에 있어서, 정확한 파장 코드를 형성하기 위한 다수의 위상 마스크가 필요하며, 형성된 다수의 광섬유 격자로 인해 코드워드가 길어질 경우, 형성할 광섬유 격자의 길이가 길어지기 때문에 하나의 부호화기로서 사용하기 위한 광섬유 격자의 길이가 길어진다. 이로 인해, 하나의 부호화기를 제조하기 위한 시간이 길어지며, 수십 개 이상의 위상 마스크가 필요하므로 비용이 많이 소요될 뿐만 아니라 부호화기를 소형화시키기 어렵다는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 광섬유 격자 제조시 입사되는 광 빔(바람직하게는 레이저 빔)이 광섬유에 조사되기 이전, 위상 마스크의 앞단에 원하는 코드워드를 포함하는 진폭 마스크(amplitude mask)를 마련하여, 입사되는 레이저 빔을 선택적으로 통과시켜 하나의 첩 광섬유 격자 내에 임의의 원하는 파장에서 반사 피크(peak)를 갖는 코드워드를 형성하는 방법 및 장치를 제공하고, 이와 같은 방법 및 장치를 통해 형성된 첩 광섬유 격자를 광 부호 분할 다중화 방식에서 엔코더(encoder) 및 디코더(decoder), 즉 부호화기(coder)로서 사용할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따르면, 광섬유 첩 격자가 형성되는 광섬유 내의 임의의 구간에 대해, 제조하고자 하는 부호화기의 파장을 선택하기 위하여 구현하고자 하는 코드워드에 맞추어진 진폭 마스크를 설계하여 레이저 빔이 광섬유에 조사되기 이전에마련하여, 형성할 광섬유 격자의 투과 파장을 조절함으로써 하나의 첩 광섬유 격자를 이용한 하나의 첩 광섬유 격자 부호화기를 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 방법 및 장치에 따라 제조된 첩 광섬유 격자 부호화기는 자기 상관값이 높고 교차 상관값이 낮아 광 부호 분할 다중화 방식용 소자로 사용할 수 있는 특징이 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 광원(light source)과 진폭 마스크와 위상 마스크를 구비하고 있는 장치를 통해 사전설정된 코드워드(codeword)를 포함하는 다수의 스트라이에이션 (striation) 형상으로 광섬유 내에 형성되는 첩 광섬유 격자 부호화기가 제공된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 광원을 마련하는 단계와, 사전설정된 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크를 마련하는 단계와, 위상 마스크를 마련하는 단계와, 광섬유를 마련하는 단계와, 광원으로부터 발생된 광 빔이 진폭 마스크를 통과하고 위상 마스크를 거쳐 광섬유에 도달하는 단계와, 광 빔에 반응하여 사전설정된 코드워드를 포함하는 다수의 스트라이프(strip)의 형상으로 광섬유 내에 첩 광섬유 격자 부호화기를 형성하는 단계를 포함하는 첩 광섬유 격자 부호화기 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 또다른 실시예에 따르면, 광원과, 사전설정된 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크와, 위상 마스크와, 광섬유를 포함하는 첩 광섬유 격자 제조 장치가 제공된다.
도 1은 종래 기술에 따른 단주기(short period) 광섬유 격자 제조 장치의 구성도.
도 2는 종래 기술에 따른 첩(chirped) 광섬유 격자 제조 장치의 구성도.
도 3은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기(coder) 제조 장치의 구성도.
도 4a는 본 발명에 따라 형성되는 첩 광섬유 격자 부호화기를 확대한 도면.
도 4b는 본 발명에 사용되는 진폭 마스크를 확대한 도면.
도 5는 종래 기술에 따른 첩 광섬유 격자와 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기의 투과 스펙트럼에 대한 측정값 및 시뮬레이션값을 나타내는 그래프.
도 6은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기를 광 부호 분할 다중화 방식에 적용한 개략적인 시스템을 나타내는 도면.
도 7은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기의 자기 상관에 대한 측정값 및 시뮬레이션값을 나타내는 그래프.
도 8은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기의 코드워드(codeword)간 교차 상관에 대한 측정값 및 시뮬레이션값을 나타내는 그래프.
이제, 첨부한 도 3 내지 도 8을 참조하여 본 발명에 따른 첩(chirped) 광섬유 격자 부호화기 제조 방법 및 장치와, 이를 통해 제조된 첩 광섬유 격자 부호화기의 특성을 설명하기로 한다.
먼저 도 3을 참조하면, 도 3은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기 제조 장치의 구성도를 도시하고 있다. 도 3에 도시한 바와 같이, 첩 광섬유 격자 부호화기 제조 장치(300)는 광원(301), 오목 렌즈(302), 볼록 렌즈(304), 진폭 마스크(306), 위상 마스크(308), 일반 통신용 단일모드 광섬유(310)를 포함하고 있다. 여기서, 광섬유(310)는 종래 기술에서와 같이 수소로 처리된다. 도 3에서, 광 증폭기(312) 및 광 파장 분석기(314)는 종래 기술에서와 마찬가지로 광섬유(310) 내에 형성된 첩 광섬유 격자 부호화기(316)의 광 투과 특성을 측정하기 위해 마련된 것으로서, 예를 들면 광 증폭기(312)는 어븀(Er) 첨가 광 증폭기이고 광 파장 분석기(314)는 안도(ANDO)사의 6315B이다. 도 3의 장치(300)를 통해 첩 위상 마스크(308)와 임의의 부호화기에 대하여 설계된 진폭 마스크(306)를 이용하여 첩 광섬유 격자 부호화기(316)를 제조할 수 있다.
도 3의 장치(300)에 의해 첩 광섬유 격자 부호화기(316)가 제조되는 원리는 비균일 격자를 해석하는 전달 행렬(transfer matrix)에 의하여 해석할 수 있는데, 선형적인 첩 격자의 총 길이를 N 개의 구간으로 나누어 각 구간에서의 전달행렬을 첩핑율(chirping rate)과 광원(바람직하게는 KrF 엑시머 레이저)가 조사되는 길이를 고려하여 원하는 파장에서의 반사 피크(peak)를 정확히 선택하고 반사 피크의 폭을 조절하게 된다.
도 4a는 본 발명에 따라 형성되는 첩 광섬유 격자 부호화기(316)를 확대한도면이다. 도 4a에 도시한 바와 같이, 진폭 마스크(306)와 위상 마스크(308)를 사용하여 광원(301)에 의해 다수의 스트라이에이션(striation)의 형상으로 마련되는 첩 광섬유 격자 부호화기(316)는 광섬유(310)의 코어(core)(400) 내에 형성된다. 여기서, 첩 광섬유 격자 부호화기(316)는 임의의 코드워드가 부여된 광섬유 격자를 지칭하는 것이다. 도 4b는 본 발명에 사용되는 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크(306)를 확대한 도면이다. 도 4b에 도시한 진폭 마스크(306)는 코드워드 4에 대한 것으로서, 코드워드 4는 {0, 1, 0, 1, 0, 1, 0}의 코드워드를 갖는다. 이 진폭 마스크(306)의 전체 길이 Ltotal은 약 5 cm이며 L1 및 L7은 각각 0.75 cm이고 나머지 L2 내지 L6은 각각 0.7 cm이다.
코드워드가 생성되는 원리는 다음과 같다. 전체 사용할 수 있는 파장수에 대하여 코드워드를 형성하는 파장수(ω) 프라임 시퀀스에 기반을 두어, 각 코드워드가 하나의 파장만을 공유하여 나머지 파장에 대한 상관값이 0이 되도록 코드워드를 형성한다. 이와 같은 코드워드를 제조하기 위한 진폭 마스크(306)는 첩 광섬유 격자의 위상 마스크(308) 전체 길이에 대해 코드워드가 형성될 부분을 고려하여 각 구간을 L1부터 L7로 나누었다.
도 5는 도 2에 도시한 종래 기술에 따른 첩 광섬유 격자(214)와 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기(316) 각각의 투과 스펙트럼에 대한 측정값 및 시뮬레이션(simulation)값을 나타내는 그래프이다. 상세하게, 도 5의 "A"는 도 2에 도시한 종래 기술에 따른 첩 광섬유 격자(214)의 반사 스펙트럼이고, "B"는 코드워드4에 대한 시뮬레이션값이며, "C"는 본 발명에 따라 코드워드 4를 포함하는 첩 광섬유 격자 부호화기(316)의 투과 스펙트럼이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따라 제조된 첩 광섬유 격자 부호화기(316)의 투과 스펙트럼 "B"는 시뮬레이션값 "C"와 잘 일치함을 알 수 있다.
도 6은 본 발명에 따라 제조한 첩 광섬유 격자 부호화기(316)를 광 부호 분할 다중화 방식(OCDMA)에 적용한 개략적인 시스템을 도시하고 있다. 도 6에 도시한 바와 같이, 시스템(600)은 두 개의 광 흡수단(602), 부호화된 첩 광섬유 격자 부호화기(604)(코드워드 4), 복호화된 첩 광섬유 격자 부호화기(606)(코드워드 4 또는 코드워드 5), 4-포트(port) 써큘레이터(circulator)(608), 광대역 광원(610), 측정기(612)를 포함하고 있다. 광대역 광원(610)은 예컨대, Er 첨가 광 증폭기가 사용될 수 있으며, 측정기(612)는 예를 들어, 광 파장 분석기 또는 광 다이오드가 사용될 수 있다. 시스템(600)에서 측정된 자기 상관값 및 코드워드간의 교차 상관값이 도 7 및 도 8에 각각 도시되어 있다.
도 7은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기(316)를 시스템(600)에 적용한 경우, 자기 상관(auto-correlation) 스펙트럼에 대한 측정값 및 시뮬레이션값을 나타내는 그래프이다. 상세하게, 도 7의 "D"는 시뮬레이션된 자기 상관 스펙트럼이고, "E"는 측정된 자기 상관 스펙트럼인데, 도 7에서의 자기 상관값은 각 피크의 상관 반사피크가 99 % 이상이며 시뮬레이션값과 측정값이 매우 유사함을 알 수 있다.
도 8은 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기(316)를 시스템(600)에 적용한 경우, 코드워드간 교차 상관에 대한 측정값 및 시뮬레이션값을 나타내는 그래프이다. 상세하게, 도 8의 "F"는 코드워드 4와 코드워드 5의 교차 상관 스펙트럼에 대한 시뮬레이션값이고, "G"는 교차 상관 스펙트럼에 대한 측정값이다. 도 8에서의 교차 상관값은 이론상으로 예측한 값과 매우 유사하게 측정되어 광 부호 분할 다중화 방식에 적합한 첩 광섬유 격자 부호화기가 성공적으로 제조되었음을 확인할 수 있다.
표 1은 도 6의 시스템(600)에서 광 다이오드를 측정기(612)로 사용하여 측정한 자기 상관값, 교차 상관값, 이들 두 값의 비율을 나타내고 있다.
자기 상관값 교차 상관값 자기 상관값/교차 상관값
60. 5 mV 21 mV 2.88/1
광 부호 분할 다중화 방식에 있어서, 자기 상관값은 신호(signal)로서 처리되고 교차 상관값은 잡음(noise)으로 처리됨을 고려할 때 각 코드워드간의 신호와 잡음을 구별할 수 있게 된다. 따라서, 표 1의 값에 근거하여 제조된 코드워드를 광 부호 분할 다중화 방식에 적용하였을 때 신호와 잡음을 구별할 수 있다.
전술한 바와 같이, 조사되는 광원이 광섬유의 코어부에 첩 광섬유 격자 부호화기를 형성하기 이전에, 조사되는 광원과 광섬유 사이에 원하는 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크와 위상 마스크를 마련하여, 첩 광섬유 격자 부호화기가 형성되는 광섬유 격자의 투과 피크 위치 및 폭을 코드워드에 맞게 조정할 수 있으므로, 제조 방법 및 장치가 간단하므로 첩 광섬유 격자 부호화기의 제조가 용이하고 재연성에 있어서도 우수하다는 특징이 있다.
본 발명이 바람직한 실시예를 통해 설명되고 예시되었으나, 당업자라면 첨부한 청구 범위의 사상 및 범주를 벗어나지 않고 여러 가지 변형 및 변경이 이루어질 수 있음을 알 수 있을 것이다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크를 사용하여 제조된 광 부호 분할 다중화 방식에 사용할 수 있는 첩 광섬유 격자 부호화기와, 이의 제조 방법 및 장치가 제공된다. 본 발명에 따른 첩 광섬유 격자 부호화기는 하나의 광섬유 격자로 하나의 부호화기를 구성하고 있으며, 제조가 용이하며 제조 과정에서 광섬유를 따라 진행하는 소정의 광원에 대한 정확한 반사 피크의 위치와 폭을 조절할 수 있는 것을 특징으로 한다. 또한, 제조된 첩 광섬유 격자 부호화기를 광 부호 분할 다중화 방식에 적용하였을 때, 도 7 및 도 8의 그래프와 같이 자기 상관값이 높으며 교차 상관값이 낮아 광 부호 분할 다중화 방식용 소자로의 적용이 용이하다는 효과가 있다.

Claims (13)

  1. 광원(light source)과 진폭 마스크와 위상 마스크를 구비하고 있는 장치를 통해 사전설정된 코드워드(codeword)를 포함하는 다수의 스트라이에이션 (striation) 형상으로 광섬유 내에 형성되는 광섬유 격자 부호화기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 사전설정된 코드워드는 상기 진폭 마스크에 의해 정의되는 광섬유 격자 부호화기.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 다수의 스트라이에이션은 상기 광원으로부터 출력되는 광 빔(light beam)과 수직한 상기 광섬유의 축(axis)을 따라 형성되는 광섬유 격자 부호화기.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 다수의 스트라이에이션은 첩(chirped)되는 광섬유 격자 부호화기.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 빔은 자외선 광 빔인 광섬유 격자 부호화기.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 빔은 레이저(laser) 빔인 광섬유 격자 부호화기.
  7. 제 1 항에 있어서,
    광 부호 분할 다중화 방식(OCDMA : Optical Code Division Multiple Access)의 통신 시스템에서 엔코더(encoder) 및 디코더(decoder) 중 어느 하나로 사용되는 광섬유 격자 부호화기.
  8. 광섬유 격자 부호화기를 제조하기 위한 방법에 있어서,
    광원을 마련하는 단계와,
    사전설정된 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크를 마련하는 단계와,
    위상 마스크를 마련하는 단계와,
    광섬유를 마련하는 단계와,
    상기 광원으로부터 발생된 광 빔이 상기 진폭 마스크를 통과하고 상기 위상 마스크를 거쳐 상기 광섬유에 도달하는 단계와,
    상기 광 빔이 상기 사전설정된 코드워드를 포함하는 다수의 스트라이프 (strip)의 형상으로 상기 광섬유 내에 광섬유 격자 부호화기를 형성하는 단계
    를 포함하는 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 다수의 스트라이프는 첩되는 제조 방법.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 코드워드는 상기 진폭 마스크에 의해 정의되는 제조 방법.
  11. 광섬유 격자 부호화기를 제조하기 위한 장치에 있어서,
    광원과,
    사전설정된 코드워드에 맞춰 설계된 진폭 마스크와,
    위상 마스크와,
    광섬유
    를 포함하되,
    상기 광원으로부터 발생된 광 빔이 상기 진폭 마스크를 통과하고 상기 위상 마스크를 거쳐 상기 광섬유에 도달하여 상기 사전설정된 코드워드를 포함하는 다수의 스트라이프(strip)의 형상으로 상기 광섬유 내에 광섬유 격자 부호화기를 형성하는 제조 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 다수의 스트라이프는 첩되는 제조 장치.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 코드워드는 상기 진폭 마스크에 의해 정의되는 제조 장치.
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