Przedmiotem wynalazku jest sposób modyfikacji wytworów plaskich, a zwlaszcza tekstylnych wy¬ tworów plaskich, stosowanych w przemysle odzie¬ zowym, lub jako materialy dekoracyjne.Znany jest sposób zmieniania wlasciwosci wy- sokopolimerycznych tworzyw przez to, ze na tych wysokopolimerycznych tworzywach szczepi sie substancje monomeryczne. To szczepienie substan¬ cji mionomerycznych moze sie przy tym odbywac równiez na drodze radiochemicznej. W tym celu wysokopolimeryczne tworzywo, albo napromienio- wuje sie najpierw promieniami jonizujacymi, na przyklad strumieniami elektronów z generatora Van de Graffa, a nastepnie poddaje sie je zet¬ knieciu z substancja monomeryczna, która moze sie znajdowac w stanie plynnym — tzw. metoda napromieniowania, lub tez wysokopolimeryczne tworzywo poddaje sie najpierw zetknieciu z sub¬ stancja monomeryczna, przy tym ta ostatnia wni¬ ka do wysokopolimeryoznego tworzywa, a nastep¬ nie to wysokopolimeryczne tworzywa obciazone substancja monomeryczna naswietla sie promie¬ niami jonizujacymi — tzw. metoda jednoczesnosci.W przypadku tej ostatniej metody, obok pozada¬ nej reakcji szczepienia wystepuje niejednokrotnie równiez niepozadana homopolimeryzacja substan¬ cji monomerycznej. W zaleznosci od wybranych monomerów uzyskuje sie rozmaite modyfikacje wysokpoolimerycznej substancji.Jesli przykladowo tekstylny wytwór plaski z 2 wlókien poliamidowych o wzorze 1 poddamy dzia¬ laniu promieniowania jonizujacego, zwlaszcza dzialaniu strumienia elektronów, to wytwarzaja sie pierwszorzedowe makrorodniki, na przyklad o wzorze 2, które sa w stanie wywolac polimeryza¬ cje substancji monomerycznej, np. amidu kwasu akrylowego CH=CHCONH2. Na wysokopolime- rycznym zwiazku -A-A-A-A substancja monome¬ ryczna B szczepi sie zatem jako lancuch boczny io wedlug schematu reakcji przedstawionego na ry¬ sunku.Jesli w charakterze wysokopolimerycznego two¬ rzywa zastosuje sie tkanine z wlókien poliamido¬ wych, a w charakterze monomeru amid kwasu akrylowego, to otrzymuje sie tkanine charaktery¬ zujaca sie zwiekszona zdolnoscia wchlaniania wil¬ goci, to znaczy lepszymi wlasnosciami fizjologicz¬ nymi.Stosujac tekstylny wytwór w postaci materialu z wlókien poliestrowych i kwas akrylowy CH2 = = CHCOOH jako substancje monomeryczna otrzy¬ muje sie tekstylny wytwór plaski, który mozna barwic barwnikami zasadowymi.Jako rodzaje promieniowania dla reakcji szcze- pienia inicjowanej radiochemicznie tzw. modyfi¬ kacji jednorodnej — mozna stosowac wszystkie rodzaje promieni jonizujacych, a zwlaszcza pro¬ mienie elektronowe, promienie Gamma i promie¬ nie rentgenowskie. rfiekorzystnym objawem w znanych sposobach 99 523W 523 szczepienia substancji monomerycznych na wyso- kopolimeryoznym tworzywie, zwlaszcza na teks¬ tylnym wytworze plaskim, w których powierzch¬ nie materialu napromieniowuje sie i szczepi na niej monomery, jest to, ze tekstylny charakter, to znaczy wyglad wytworu plaskiego nie ulega wów¬ czas zmienie.Dalej znana jest metoda, w przypadku której skurcz nastepujacy przy procesie szczepienia, to znaczy zmniejszenie sie wytworu plaskiego jest wykorzystywany do uzyskiwania efektów struk¬ turalnych w wytworach plaskich, a mianowicie przemieszczen przestrzennych. Wtedy wolne rod¬ niki niezbedne do spowodowania polimeryzacji szczepionej nie zostaja wytworzone równomiernie na calej powierzchni wytworu plaskiego, lecz w sposób umiejscowiony. Rodniki .moga byc przy tym wytwarzane lokalnie, albo za pomoca szablo¬ nów przeslonowych umieszczonych pomiedzy zró¬ dlem promieniowania, a wytworem plaskim, albo tez wytwór plaski napromieniowuje sie równo¬ miernie promieniami, a nastepnie wolne rodniki sa lokalnie likwidowane na powierzchniach czast¬ kowych, na przyklad za pomoca ogrzewanych, profilowanych walców wokól których przeprowa¬ dza sie napromieniowany wytwór plaski.Przemiany przestrzenne wytworu plaskiego pro¬ wadza do efektów strukturalnych, to znaczy uzy¬ tkuje sie desenie ornamentalne, które moga byc polaczone z deseniowaniem barwnym.W trakcie procesu modyfikacji powierzchniowej zdolnosc sorpcji moze sie korzystnie zmieniac. W przypadku metody napromieniowywania lokalne¬ go i tzw. modyfikacji czesciowej nie mozna uzy¬ skac takich efektów, które warunkuja jednorodne szczepienie substancji monomerycznych, na przy¬ klad Wlasciwosci antyelektrostatycznych, lub wla¬ sciwosci hydrofobowych, gdzie musi istniec zam¬ knieta, przewodzaca lub hydrofobowa „blona".Celem wynalazku jest polepszenie zdolnosci barwienia, zdolnosci sorpcji wilgoci, odpornosci na butwienie, wlasciwosci hydrofobowych i wlasci¬ wosci antyelektrostatycznych tekstylnych wytwo¬ rów plaskich, a równoczesnie uzyskanie ornamen¬ talnych efektów struktury i efektów deseniowa¬ nia barwnego.Wynalazek ma za zadanie opracowanie sposobu uszlachetniania wytworów plaskich, zwlaszcza tek¬ stylnych wytworów plaskich, przy którym te Wy¬ twory plaskie podlegaja takim modyfikacjom, ze Afcstepuje polepszenie ich cech tekstylno-fizjolo- |icznych, jak równiez uzyskanie efektów desenio¬ wych.Cel ten osiaga sie w sposobie, który wedlug wynalazku polega na tym, ze przed, podczas lub po równomiernym napromieniowaniu jonizujacy¬ mi promieniami wytwór plaski impregnuje sie równomiernie substancjami monomerycznymi, na¬ stepnie poddaje sie go ewentualnie miedzyopera- cyjnemu plukaniu i suszeniu, a nastepnie miej¬ scowo napromieniowuje promieniami jonizujacy¬ mi i impregnuje równomiernie substancjami mo¬ nomerycznymi, wzglednie napromieniowuje sie go równomiernie promieniami jonizujacymi, miejsco¬ wo dezaktywuje powstale rodniki i impregnuje równomiernie substancjami monomerycznymi.Polimeryzacja szczepiona wystepuje wówczas, gdy rodniki, powstale w wytworze plaskim wsku- ¦ tek napromieniowania promieniami jonizujacymi, wchodza w reakcje z naniesionymi na wytwór plaski monomerami, zdolnymi do polimeryzacji.Jesli cala powierzchnie wytworu plaskiego napro¬ mieniuje sie i doprowadzi do zetkniecia ze zdol- *• nymi do polimeryzacji monomerami, to wówczas wystepuje jednorodna polimeryzacja szczepiona.Lokalna polimeryzacje szczepiona uzyskuje sie na drodze napromieniowania wytworu plaskiego po¬ przez szablon przeslonowy, umozliwiajacy tylko u czesciowe (czastkowe) jonizacyjne napromieniowa¬ nie wytworu plaskiego, albo na drodze takiego miejscowego sterowania promieniami o wysokiej energii, by tylko w okreslonych miejscach wy¬ tworu plaskiego powstawaly rodniki, albo na dro- *° dze równomiernego napromieniowania z nastep¬ na miejscowa likwidacje (dezaktywacja) powsta¬ lych rodników.Korzystne jest stosowanie jako promieni joni¬ zujacych strumieni elektronów o energiach 40keV *• —3 MeV. Jako zdolne do polimeryzacji substan¬ cje monomeryczne stosuje sie korzystnie zwiazki winylowe, zwlaszcza kwas akrylowy, akryloamid lub styren, jako srodki dezaktywujace rodniki sto¬ suje sie ogrzewane walce profilowane lub stero- *• wiane promienie lasera. Napromieniowywanie pro¬ mieniami jonizujacymi mozna prowadzic poprzez szablony przeslonowe o grubosci mniejszej lub wiekszej niz maksymalny zasieg elektronów.Substancja monomeryczna moze zarówno dla mo¬ tt dyfikacji jednorodnej, jak i dla modyfikacji czastkowej znajdowac sie w stanie plynnym, lub gazowym. Pomiedzy poszczególne procesy czescio¬ we mozna wprowadzic znane procesy obróbkowe, jak plukanie, pranie, suszenie i to w dowolnej 40 kolejnosci.Wreszcie mozna wedlug wynalazku przez od¬ dzialywanie na wytwór plaski za pomoca goracej wody, pary lub goracego powietrza wzmocnic efekt modyfikacji czastkowej, zwlaszcza ornamen- 4* talna strukture wytworu plaskiego.Podane nizej przyklady objasniaja blizej sposób wedlug wynalazku, przy czym uwidocznione na rysunki fig. 1 do 15 przedstawiaja schematy tech¬ nologiczne wariantów sposobu modyfikacji wy- •• tworów plaskich, omówione nizej w przykladach I—XV.Przyklad I. Plaska dzianina osnowowa z jedwabiu poliamidowego o gramaturze 100 g/m* i szerokosci 1,80 m zostaje napromieniowania pod W analizatorem akceleratora elektronów typu trans¬ formatora rdzeniowego izolujacego elektronami, których energia wynosi 300 keV. Dawka, Jaka zostaje napromieniowana plaska dzianina osnowo¬ wa wynosi 4:106 radów. Po równomiernym na- M promieniowaniu dzianina ta jest ciagle wprowa¬ dzana w roztwór szczepiacy dla spowodowania jednorodnego szczepienia. Roztwór szczepiacy skla¬ da sie z 20-procentowego wodnego roztworu kwa¬ su akrylowego, temperatura roztworu szczepiacego « wynosi 38°C. Plaska dzianina osnowowa pozosta-5 09 338 6 je w tym roztworze szczepiacym przez 10 minut.Po jednorodnym szczepieniu tej dzianiny z jedwa¬ biu poliamidowego z kwasem akrylowym, zostaje ona wyplukana, wyprana, przesuszona miedzy ope¬ racjami i nastepnie jeszcze raz napromieniowana pod analizatorem akceleratora elektronów, a miano¬ wicie czesc pola promieniowania elektronowego jest przeslonieta azurowymi krazkami alumiono- wymi o grubosci 1 mm, dzieki czemu plaska dzia¬ nina osnowowa zostaje napromieniowana jedynie w okreslonych miejscach, które przez desen kraz¬ ka aluminiowego sa wystawione na promieniowa¬ nie. Powstale przy tym, umiejscowione rodniki ini¬ cjuja lokalne szczepienie w kolejno wprowadzo-^ nym roztworze szczepiacym, który sklada sie z 3(fl/% roztworu wodnego amidu kwasu akrylowego i wykazuje temperature 45°C. Czas szczepienia wynosi 15 minut. Przez lokalne szczepienie ami¬ du kwasu akrylowego powstaje w dzianinie osno¬ wowej lokalny skurcz, który powoduje tworzenie sie ornamentalnej struktury. Plaska dzianina osno¬ wowa zostaje nastepnie wyplukana i poddana dzialaniu jonów sodowych, aby wytworzyc sól so¬ dowa jednorodnie szczepionego kwasu akrylowe¬ go. Na koniec zostaje jeszcze raz wyplukana i wy¬ suszona (porównaj fig. 1).Przez opisane oddzialywanie otrzymuje sie hy- drofilowa, bardzo dobrze podatna na barwienie i antyelektrostatyczna plaska dzianine osnowowa z jedwabiu poliamidowego, posiadajaca ornamen¬ talna strukture. Dzianina ta nadaje sie szczególnie jako tekstylny wytwór plaski na bielizne i kon¬ fekcje posiadajaca bardzo dobre wlasciwosci fi¬ zjologiczne jako odziez.Przyklad IL Folia z polipropylenu o grubo¬ sci 60 mikronów i szerokosci 1,65 m zostaje na¬ promieniowana pod analizatorem akceleratora ele¬ ktronów elektronami o energii 300 keV, przy czym zaabsorbowana dawka wynosi 8.106 radów. Folia po napromieniowaniu jest poddana dzialaniu roz¬ tworu szczepiacego, skladajacego sie z 8% roztwo¬ ru wodnego amidu kwasu akrylowego i z 10% kwasu akrylowego. Temperatura szczepienia wy¬ nosi 35°C, a czas szczepienia 25 minut. Po szcze¬ pieniu nastepuje plukanie, aby usunac pozostalosci monomerów, a wolne rodniki istniejace jeszcze w folii zostaja zniszczone lokalnie za pomoca pro¬ filowanego ogrzewania walca. Nastepnie folia jest poddawana przez 10 minut dzialaniu 20% wod¬ nego roztworu kwasu akrylowego doprowadzonego do temperatury wrzenia. Odbywa sie lokalne szczepienie kwasu akrylowego i lokalny skurcz, który powoduje powstawanie ornamentalnej struk¬ tury folii (porównaj fig. 2).Otrzymuje sie w ten sposób antyelektrostatycz¬ na, dobrze podatna na barwienie folie o plastycz¬ nej strukturze i zróznicowanym zabarwieniu, któ¬ ra moze byc stosowana do celów dekoracyjnych, na przyklad do kompozycji wnetrz.Przyklad III. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie II, lecz po jednorodnym szczepie¬ niu w roztworze amidu kwasu akrylowego /kwasu akrylowego nastepuje jeszcze raz napromieniowa¬ nie, przy czym dawka wynosi 5.106 radów, aby polepszyc efekt strukturalny (porównaj fig. 3).Przyklad IV. Dzianina szydelkowa sklada¬ jaca sie w 50% z wlókna bawelnianego, a w 50% z wlókna poliamidowego, o gramaturze 250 g/m1 i szerokosci 1,80 m zostaje napromieniowana w 6 jednorodnym polu promieniowania akceleratora elektronów o znanej budowie strumieniami elek¬ tronów az do wchloniecia dawki energii 2.106 ra¬ dów. Energia elektronów wynosi 450 keV. Nastep¬ nie dzianina ta zostaje zanurzona w alkoholowym roztworze styrenu skladajacym sie z 50% metanolu i 50V« styrenu podgrzanym dó temperatury 40°C i tam przebywa w ciagu 15 minut. Poddana szcze¬ pieniu ze styrenem dzianina szydelkowa zostaje nastepnie ponownie napromieniowana, przy czym wchlonieta dawka wynosi 1,5.106 radów. Za po¬ moca sterowanych promieni laserowych wolne rod¬ niki wytworzone przez drugie napromieniowanie, zostaja na skutek powstania ciepla w dzianinie lo¬ kalnie zniszczone, dzieki czemu w kolejno zacho- dzacym drugim procesie szczepienia w dzianinie dokonuje sie tylko lokalne szczepienie, przez co uzyskuje ona lokalny skurcz i ornamentalna struk¬ ture (por. fig. 3). W ten sposób otrzymuje sie dzia¬ ninie szydelkowa, której zostaly nadane trwal* wlasciwosci hydrofobowe i która ponadto posiada przyjemny i puszysty wyglad. Tego rodzaju dzia¬ nina nadaje sie szczególnie na materialy odziezo¬ we odporne na warunki atmosferyczne.Przyklad V. Tkanina z 50%. wlókien pojia- »o midowych i 50% wlókien poliestrowych o grama¬ turze 220 g/m* i szerokosci 1,40 m zostaje nasy¬ cona w ciagu 5 minut w 25% wodnym roztworze kwasu akrylowego w temperaturze 20°C, a na¬ stepnie napromieniowana elektronami 450 keV pod analizatorem akceleratora elektronów az do wchloniecia energii o dawce 2.10* radów. Nastep¬ nie odbywa sie ponowne napromieniowanie, a mia¬ nowicie za pomoca strumienia elektronów sterowa¬ nego miejscowo, który opisuje na tkaninie kolisty 40 wzór o srednicy kregów 5 mm i o module siatki 12 mm, tak ze wolne rodniki sa ograniczone w ten sposób. Potem tkanina zostaje jeszcze raz poddana dzialaniu 25% roztworu wodnego kwasu akrylo¬ wego przy temperaturze 45°C w ciagu 15 minut, 45 dzieki czemu zachodzi lokalne szczepienie, które poprzez równoczesnie nastepujacy lokalny skurcz warunkuje powstanie ornamentalnej struktury tkaniny (porównaj fig. 4). Na koniec nastepuje przeplukanie i wysuszenie. Otrzymuje sie w ten 50 sposób trwale uszlachetniona tkanine z wlókien poliamidowo-poliestrowych o polepszonej podatno¬ sci na barwienie, polepszonej zdolnosci wchlania¬ nia wody i o puszystym charakterze. Tego rodzaju tkaniny moga byc uzywane na modne materialy 55 tekstylne i wykazuja dobre wlasciwosci fizjologicz¬ ne jako odziez.Przyklad VI. Wlóknina z 50% wlókien polia- krylonitrylowych i z 50% wlókien poliamidowych o gramaturze 160 g/m2 zostaje nasycona monome- 60 rycznym metakrylanem metylu i wycisnieta do 80% przyrostu masy. Nastepnie zostaje napromie¬ niowana w jednorodnym polu promieniowania akceleratora elektronów elektronami 300 keV az do wchcloniecia energii w wielkosci dawki 3.10* ra- 05 dów, przez co z jednej strony monomeryczny me-7 90 513 8 takrylan metylu polimeryzuje, a po drugie — po¬ wstaja we wlókninie wolne rodniki. Czesc tych wolnych rodników zostaje lokalnie zniszczona przy uzyciu ogrzanego, profilowanego walca. Po tym lo¬ kalnym zniszczeniu rodników runo zostaje podda¬ ne dzialaniu alkoholowego roztworu styrenu, skla¬ dajacego sie z 60% styrenu i z 40% metanolu, w temperaturze 35°C w ciagu 15 minut. Dzieki te¬ mu nastepuje lokalne szczepienie styrenu, a przez lokalny skurcz otrzymuje sie wlóknine o plaskiej strukturze tkaniny (por. fig. 5) charakteryzujaca sie duza odpornoscia na butwdenie i na dzialanie kwasów i mogaca znalezc szczególnie zastosowanie jako tekstylia techniczne.Przyklad VII. Tkanina o gramaturze 140 g/ /m* i o szerokosci 2,00 m z 60% wlókien poliakry- lonitrylowych i z 40% wlókien poliestrowych zo¬ staje napromieniowana przy pomocy szablonu przeslonowego pod analizatorem akceleratora ele¬ ktronów w sposób lokalny, przy czym zaabsorbo¬ wana dawka wynosi 5.106 radów przy energii elektronów wynoszacej 300 keV. Tkanina napro¬ mieniowana w ten sposób lokalnie zostaje podda¬ na dzialaniu par styrenu w ciagu 15 minut, przy czym nastepuje lokalne szczepienie. Na skutek te¬ go lokalnego szczepienia nastepuje lokalny skurcz, który przy koncowym oddzialywaniu na tkanine goracym powietrzem o temperaturze 120°C ulega jeszcze wzmocnieniu i otrzymuje sie tkanine o or¬ namentalnej strukturze. Ta tkanina zostaje na¬ stepnie jeszcze raz napromieniowania, a mianowi¬ cie w jednorodnym polu ekceleratora elektronów i poddana w ciagu 15 minut dzialaniu 50% alko¬ holowego roztworu styrenu w temperaturze 40°C (por. fig. 6). Po usunieciu pozostalosoi monomerów otrzymuje sie tkanine wyjatko odporna na dzia¬ lanie warunków atmosferycznych.Przyklad VIII. Runo skladajace sie z 70% wlókien i z 30% wlókien polipropylenowych o gra¬ maturze 180 g/m2 zostaje lokalnie napromieniowa¬ ne pod analizatorem akceleratora elektronów przy uzyciu szablonu przeslonowego z aluminium o gru¬ bosci 1 mm, który posiada deseniowy azur. Ener¬ gia elektronów wynosi 300 keV, wchlonieta daw¬ ka 1,3.106 radów. Bezposrednio po lokalnym napro¬ mieniowaniu nastepuje 10-minutowe traktowanie runa 25% wodnym roztworem kwasu akrylowego w temperaturze wrzenia. Na skutek tego nastepuje lokalne szczepienie kwasu akrylowego na runie.Po tym zabiegu runo zostaje ponownie napromie¬ niowane, jednak w jednorodnym polu akcelatora elektronów, az do wchloniecia energii o dawce 1,8.106 radów i znowu traktowane w ciagu 10 mi¬ nut we wrzacym 25-procentowym roztworze kwasu akrylowego (por. fig. 7).Uzyskuje sie w ten sposób wzmocnione runo z wlókien bawielnianych/polipropylenowych, które moze byc barwione w kapieli, a ponadto jest pu¬ szyste.Przyklad IX. Folia z poliamidu o grubosci 70 mikronów zostaje napromieniowana w niejed¬ norodnym polu promieniowania akceleratora elek¬ tronów, które uzyskuje sie za pomoca szablonu przeslonowego, elektronami o energii 25 keV az do wchloniecia energii o dawce 6.106 radów, a naste¬ pnie folia ta zostaje poddana przez 10 minut zet¬ knieciu sie z 30% wodnym roztworem amidu kwa¬ su akrylowego ogrzanego do temperatury 60°C.Wreszcie folia zostaje wyplukana w wodzie i trak- towiana w ciagu 3 minut 15% wodnym roztworem kwasu akrylowego w temperaturze 25°C, a po¬ tem napromieniowana strumieniami elektronów o jednorodnym polu promieniowania az do wchlo¬ niecia energii o dawce 3.106 radów (por. fig. 8). io Otrzymuje sie w ten sposób folie posiadajaca or¬ namentalny desen, o dobrej podatnosci na barwie¬ nie, nadajaca sie do celów dekoracyjnych.Przyklad X. Wykladzina podlogowa z wló¬ kien poliamidowych zostaje napromieniowana w is jednorodnym polu promieniowania akceleratora elektronów elektronami 1 MeV az do wchloniecia energii wielkosci dawki 7.106 radów, a nastepnie za pomoca ogrzanego, profilowanego walca zostaja lokalnie zniszczone rodniki. Po tym lokalnym znisz- jo czeniu rodników wykladzina podlogowa zostaje w ciagu 10 minut poddawana zetknieciu z 28% wod¬ nym roztworem kwasu akrylowego, doprowadzo¬ nym do temperatury wrzenia. Nastepnie wykladzi¬ na podlogowa zostaje za pomoca pary walców wygniatajacych wycisnieta az do przyrostu masy 1209/t i ponownie napromieniowana w jednorod¬ nym polu akceleratora elektronów az do wchlonie¬ cia dawki energii 2.106 radów (por. fig. 10 i fig. 12).Potem wykladzina podlogowa zostaje wyplukana w wodzie w temperaturze 30°C i za pomoca jonów sodowych tworzy sie sól sodowa. W koncu odbywa sie barwienie przy uzyciu barwnika zasadowego.Otrzymuje sie czesciowo zabarwiona wykladzine podlogowa, trwale niebrudzaca sie, puszysta i po- siadajaca wlasciwosci antyelektrostatyczne.Przyklad XI. Tkanina z wlókien poliestro¬ wych o gramaturze 160 g/m2 zostaje napromienio¬ wana strumieniami elektronów w jednorodnym polu promieniowania akceleratora elektronów az 40 do wchloniecia dawki energii 107 radów. Nastep¬ nie wytworzone reaktywne osrodki (nadtlenki, nadtlenki wodoru, wolne rodniki) zostaja zniszczo¬ ne za posrednictwem lokalnie oddzialywujacej wy¬ sokiej temperatury przy uzyciu profilowanych wal- 45 ców i tkanina zostaje poddana zetknieciu sie przez minut z 12% wodnym roztworem kwasu akry¬ lowego w temperaturze wrzenia. Nastepnie odby¬ wa sie intensywne plukanie woda o temperaturze °C po czym tkanina przez dalsze 3 minuty sty- 50 ka sie z 20% wodnym roztworem amidu kwasu akrylowego w temperaturze 38°C, zostaje wyci¬ snieta do 100% przyrostu masy i napromieniowana w jednorodnym polu promieniowania akceleratora elektronów az do wchloniecia "dawki energii 2.106 55 radów (por. fig. 11). Otrzymuje sie czesciowo po¬ datna na barwienie, bardzo dobrze wchlaniajaca wode, puszysta i niebrudzaca sie tkanine polie¬ strowa na tekstylia odziezowe.Jezeli postepuje sie analogicznie, lecz przed dru- 60 ga impregnacja roztworem przeprowadzi sie dru¬ gie równomierne napromieniowanie, to kolejnosc takiego postepowania odpowiada schematowi przedstawionemn w fig. 9 na rysunku.Przyklad XII. Wytwór plaski (1) z plaskiej W dzianiny osnowowej z jadwabiu poliamidowego o90 518 9 19 gramaturze 100 g/m* zostaje napromieniowany w jednorodnym polu promieniowania (2) akceleratora elektronów elektronami 0,3-MeV az do wchloniecia dawki energii 2.106 radów, a nastepnie zostaje nieprzerwanie prowadzony przez 15% roztwór kwasu akrylowego (3). Czas zetkniecia wynosi 10 minut. Przez to oddzialywanie nastepuje jedno¬ rodne szczepienie kwasu akrylowego. Nastepnie plaska dzianina osnowowa z jedwabiu poliamido¬ wego tzw. dzianina osnowowa PAS poddana zo¬ staje zetknieciu sie z ogrzanym walcem profilo¬ wanym (8), dzieki czemu jeszcze istniejace w wy¬ tworze plaskim wolne rodniki ulegaja lokalnemu zniszczeniu. Nastepnie nastepuje zetkniecie sie dzianiny z 12% roztworem amidu kwasu akrylo¬ wego, przy czym czas zetkniecia wynosi 10 minut.Poniewaz amid kwasu akrylowego szczepi sie tyl¬ ko na tych miejscach, gdzie nie zostaly zniszczone przez nagrzany walec profilowany wolne rodniki, nastepuje lokalne kurczenie sie, a zatem wytwarza sie efekt strukturalny. Ten efekt zostaje utrwa¬ lony przez ostateczne napromieniowanie w jedno¬ rodnym polu promieniowania 2 akceleratora ele¬ ktronów. Na koniec dzianina zostaje wyprana w kapieli pioracej 5, wysuszona i zwinieta. Otrzymu¬ je sie wytwór plaski o wlasciwosciach hydrofilo- wych, strukturalnych, antyelektrostatycznych i cze¬ sciowej podatnosci na barwienie, który nadaje sie szczególnie jako material na koszule, fartuszki i bluzki (fig. 13).Przyklad XIII. Wytwór plaski 1 o grama¬ turze 250 g/m3 (fig. 14) skladajacy sie w 50% z wlókien poliamidowych i w 50% z wlókien polie¬ strowych zostaje napromieniowany w jednorod¬ nym polu 2 promieniowania akceleratora elektro¬ nów elektronami o energii 0,5 MeV az do wchlonie¬ cia dawki 2.106 radów. Nastepnie nastepuje dodat¬ kowe lokalne napromieniowanie przy zastosowaniu szablonów aluminiowych o grubosci 1 mm, które posiadaja kolowe przebicia o srednicy 8 mm i o odleglosci ich srodków 16 mm, przy czym dawka napromieniowania wynosi 5.106 radów. Po tych obu napromieniowaniach nastepuje zetkniecie sie z 20% wodnym roztworem amidu kwasu akrylo¬ wego, którego temperatura wynosi 25°C. Czas zet¬ kniecia wynosi 8 minut. Po wypraniu w kapieli pioracej 5 otrzymuje sie wytwór plaski o wlasci¬ wosciach hydrofilowych, strukturalnych, jako ma¬ terial tekstylny na odziez wierzchnia.Przyklad XIV. Wytwór plaski 1 o gramatu¬ rze 250 g/m2 (fig. 15), skladajacy sie w 50% z wlókien poliamidowych i w 50% z wlókien po¬ liestrowych, zostaje napromieniowany w jednorod¬ nym polu 2 promieniowania akceleratora elektro¬ nów elektronami o energii 0,5-MeV az do wchlo¬ niecia dawki 5.106 radów. Nastepnie wytwór plaski zostaje poddany zetknieciu sie z nagrzanym wal¬ cem profilowanym 8. Na koniec nastepuje dodat¬ kowe napromieniowanie az do wchloniecia daw¬ ki 2.106 radów. Po tych obu operacjach nastepuje zetkniecie sie z 20% wodnym roztworem amidu kwasu akrylowego, którego temperatura wynosi °C. Czas zetkniecia sie wynosi 8 minut. Bo wy¬ praniu w kapieli pioracej 5 otrzymuje sie wytwór plaski o wlasciwosciach hydrofilowych i struktu¬ ralnych jako material tekstylny na odziez wierzch¬ nia.Kopolimeryzacja szczepiona powodowana w po¬ wyzszych przykladach metodami radiotechemicz- nymi moze równiez wedlug wynalazku nastepowac za pomoca wszystkich dotychczas znanych sposo¬ bów chemicznych sluzacych do wywolywania kopo- limeryzacji szczepionej.Przyklad XV. Wytwór plaski 1 o gramatu¬ rze 250 g/m2, skladajacy sie w 50% z wlókien po¬ liamidowych i w 50% z wlókien poliestrowych zo¬ staje napromieniowany w jednorodnym polu 2 promieniowania akceleratora elektronów elektrona¬ mi o energii l-MeV przy pomocy szablonu prze- slonowego z aluminium o grubosci 0,5 mm. Po¬ niewaz grubosc uzytego szablonu jest mniejsza niz zasieg zostosowanych elektronów l-MeV, to wy¬ twór plaski 1 przy jednym procesie napromienio¬ wania aostaje napromieniowany zarówno jednorod¬ nie, jak równiez i czastkowo. Po tym napromie¬ niowaniu wytwór plaski zostaje poddany zetknie¬ ciu z 20% roztworem amidu kwasu akrylowego, którego temperatura wynosi 20°C. Czas zetkniecia wynosi 8 minut. Po wypraniu w kapieli pioracej otrzymuje sie wytwór plaski o wlasciwosciach hydrofilowych i strukturalnych jako material tek¬ stylny na odziez wierzchnia. PL