PL89055B1 - Electrostatographic developing material[gb1402009a] - Google Patents
Electrostatographic developing material[gb1402009a] Download PDFInfo
- Publication number
- PL89055B1 PL89055B1 PL1972158183A PL15818372A PL89055B1 PL 89055 B1 PL89055 B1 PL 89055B1 PL 1972158183 A PL1972158183 A PL 1972158183A PL 15818372 A PL15818372 A PL 15818372A PL 89055 B1 PL89055 B1 PL 89055B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- developer
- acid
- powder
- friction
- molecular weight
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 54
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 82
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 27
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 20
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 16
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 11
- HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N cholesterol Chemical class C1C=C2C[C@@H](O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N 0.000 claims description 10
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 10
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 10
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 10
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical group [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical class C* 0.000 claims description 5
- 235000012000 cholesterol Nutrition 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 claims description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 7-amino-2-methylsulfanyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine-6-carbonitrile Chemical compound N1=CC(C#N)=C(N)N2N=C(SC)N=C21 JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GWOWVOYJLHSRJJ-UHFFFAOYSA-L cadmium stearate Chemical compound [Cd+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O GWOWVOYJLHSRJJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 3
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 229940075507 glyceryl monostearate Drugs 0.000 claims description 3
- 239000001788 mono and diglycerides of fatty acids Substances 0.000 claims description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AAFXQFIGKBLKMC-KQQUZDAGSA-N (e)-3-[4-[(e)-2-carboxyethenyl]phenyl]prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1 AAFXQFIGKBLKMC-KQQUZDAGSA-N 0.000 claims description 2
- LMOSYFZLPBHEOW-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichloroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Cl)=C(C(O)=O)C=C1Cl LMOSYFZLPBHEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 claims description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GVYLCNUFSHDAAW-UHFFFAOYSA-N mirex Chemical compound ClC12C(Cl)(Cl)C3(Cl)C4(Cl)C1(Cl)C1(Cl)C2(Cl)C3(Cl)C4(Cl)C1(Cl)Cl GVYLCNUFSHDAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims description 2
- 102000055501 telomere Human genes 0.000 claims description 2
- 108091035539 telomere Proteins 0.000 claims description 2
- 210000003411 telomere Anatomy 0.000 claims description 2
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 6
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 4
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N Methyl stearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-N hexacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N tridecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(O)=O SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- CYTCTRAEJYIZRX-UHFFFAOYSA-N (9a-hydroxy-3,5a-dimethyl-9-methylidene-2-oxo-3,3a,4,5,6,7,8,9b-octahydrobenzo[g][1]benzofuran-6-yl) acetate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(C)=O)CCC(=C)C2(O)C2C1C(C)C(=O)O2 CYTCTRAEJYIZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOUDIOFIVONLCN-UHFFFAOYSA-N 1,1-di(octadecanoyloxy)butyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(CCC)(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IOUDIOFIVONLCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCOXQTXVACYMLM-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(12-hydroxyoctadecanoyloxy)propyl 12-hydroxyoctadecanoate Chemical compound CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCC(O)CCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCC(O)CCCCCC WCOXQTXVACYMLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKUJGZJNDUGCFU-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylterephthalic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=C(C)C=C1C(O)=O FKUJGZJNDUGCFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVNOJDQRGSOEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCO RFVNOJDQRGSOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical group [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- ZPZDIFSPRVHGIF-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropylsilicon Chemical compound NCCC[Si] ZPZDIFSPRVHGIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical group C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 235000021353 Lignoceric acid Nutrition 0.000 description 1
- CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N Lignoceric acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005643 Pelargonic acid Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 235000010210 aluminium Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- LZDSILRDTDCIQT-UHFFFAOYSA-N dinitrogen trioxide Chemical compound [O-][N+](=O)N=O LZDSILRDTDCIQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N epoxidized methyl oleate Natural products CCCCCCCCC1OC1CCCCCCCC(=O)OC CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N ethyl (z)-3-(methylamino)but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C(\C)NC FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical class FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- YQEMORVAKMFKLG-UHFFFAOYSA-N glycerine monostearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(CO)CO YQEMORVAKMFKLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVUQHVRAGMNPLW-UHFFFAOYSA-N glycerol monostearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO SVUQHVRAGMNPLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical compound C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009063 long-term regulation Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229940002712 malachite green oxalate Drugs 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- HILCQVNWWOARMT-UHFFFAOYSA-N non-1-en-3-one Chemical compound CCCCCCC(=O)C=C HILCQVNWWOARMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M potassium chlorate Chemical compound [K+].[O-]Cl(=O)=O VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- FYPMFJGVHOHGLL-UHFFFAOYSA-N probucol Chemical class C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=CC=1SC(C)(C)SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FYPMFJGVHOHGLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 description 1
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Natural products CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L water blue Chemical compound CC1=CC(/C(\C(C=C2)=CC=C2NC(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=C(\C=C2)/C=C/C\2=N\C(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1N.[Na+].[Na+] XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/09—Colouring agents for toner particles
- G03G9/0906—Organic dyes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/10—Developers with toner particles characterised by carrier particles
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/087—Binders for toner particles
- G03G9/08742—Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G9/08759—Polyethers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
- G03G9/09716—Inorganic compounds treated with organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
- G03G9/09725—Silicon-oxides; Silicates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09733—Organic compounds
- G03G9/09766—Organic compounds comprising fluorine
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09733—Organic compounds
- G03G9/09775—Organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen or oxygen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09783—Organo-metallic compounds
- G03G9/09791—Metallic soaps of higher carboxylic acids
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Cleaning In Electrography (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Crushing And Grinding (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest wywolywacz elek¬ trostatograficzny skladajacy sie z proszku wywolu¬ jacego, stanowiacego zabarwiona zywice. Wywoly¬ wacz wedlug wynalazku zawiera w swoim skladzie dodatki, które pozwalaja na otrzymywanie bardzo dobrej jakosci kopii, w przemyslowych maszynach kopiujacych wielokrotnego powielania.Znanych jest wiele elektroskopowych proszków wywolujacych. Najpowszechniej stosowanymi prosz¬ kami wywolujacymi sa zywice barwione odpowied¬ nimi pigmentami i chociaz posiadaja one odpowie¬ dnie wlasciwosci tryboelektryczne maja równiez wady min. daznosc do osadzania sie na powierzch¬ ni fotoreceptora i pozostawania na tej powierzchni po przeniesieniu obrazu.Powoduje to koniecznosc usuwania resztkowego obrazu dla unikniecia tworzenia sie obrazów wid¬ mowych na nastepnych kopiach oraz zapobiezenie tworzeniu sie cienkiej warstwy proszku na po¬ wierzchni fotoreceptora. Niecalkowite przeniesienie czasteczek proszku jest niepozadane, gdyz zmniej¬ sza gestosc optyczna obrazu ostatnich kopii oraz powoduje koniecznosc oczyszczania powierzchni fo¬ toreceptora z pozostalosci proszku, co moze spowo¬ dowac porysowanie czy inne uszkodzenia fotore- ceptorów.Stosowane rózne systemy czyszczace niestety, nie iisuwaja calkowicie wszystkich typów czasteczek proszku wywolujacego ze wszystkich typów fotore- ceptorów przystosowanych do wielokrotnego uzycia. 2 Nie stanowi to jednak w zasadzie wady systemów oczyszczania, lecz jest wada okreslonych proszków, uzywanych w polaczeniu z okreslonymi fotore- ceptorami. Jesliby okreslony proszek nie wykazy- wal tendencji do tworzenia resztkowej warstewki, przylegajacej do okreslonego fotoreceptora, opisa¬ ne wyzej systemy oczyszczania usuwalyby skute¬ cznie cala ilosc proszku, pozostajaca na fotore- ceptorze.Znaczne polepszenie wlasnosci proszków wywolu¬ jacych osiagnieto przez wlaczenie do skladu wywo¬ lywacza niewielkiej ilosci hydrofobowej soli kwa&u tluszczowego z metalem co podaje brytyjski opis patentowy nr 1 172 839. Zaproponowany w tym opisie patentowym proszek wywolujacy skladajacy sie z zabarwionej zywicy zawiera dodatek 0,02 — — 20% wagowych soli metalicznej kwasu tluszczo¬ wego. Dodatek ten powoduje znaczne zmniejszenie sie tarcia miedzy (czasteczkami proszku oraz mie- dzy czasteczkami proszku i nosnika. Dzieki temu dodaitikowi otrzymany proszek wywolujacy wykazywal zdolnosc swobodnego przesypywania sie mniejsza daznosc do osadzariia sie roz¬ drobnionych, na skutek tarcia, czastek na powierzch- ni fotoreceptora, co pozwalalo na uzyskiwanie wiek¬ szej ilosci dobrej jakosci kopii. Okazalo sie jednak¬ ze, ze mozna uzyskac jeszcze lepsze proszki wywo¬ lujace, których zastosowanie skutecznie eliminuje sie tworzenie cienkiej warstewki proszku wywolu- jacego na fotoreceptorze. Zapewniaja one wieksza 89 05589 055 3 4 gestosc optyczna kopii w miejscach obrazu, obni¬ zaja gestosc optyczna tla kopii a ponadto wyka¬ zuja lepsze bardziej stabilne wlasciwosci tryboeiek- tryczne i umozliwiajace dostatecznie dlugotrwala regulacja tworzenie sie cienkiej warstewki proszku wywolujacego na fotorecepitorze uzywanym wielo¬ krotnie.Elektrostatograficzny material wywolujacy we¬ dlug wynalazku, sklada sie z czasteczek subtelnie rozdrobnionego proszku wywolujacego, oraz jako dodatków mniejszej ilosci, w stosunku wagowym do tego proszku, subtelnie rozdrobnionego stalego ma¬ terialu zmniejszajacego tarcia, o twardosci mniej¬ szej niz twardosc proszku wywolujacego i wyka¬ zujacego w wiekszym stopniu zdolnosc zmniejsza¬ nia tarcia niz proszek wywolujacy; przy czym ma¬ terial zmniejszajacy tarcie, charakteryzuje sie wie¬ ksza niz proszek wywolujacy zdolnoscia tworzenia na powierzchni cienkiej, przylegajacej warstwy, gdy naklada sie z mieszaniny dzialaniem sil poprze¬ cznych, coraz mniejszej ilosci w stosunku wago¬ wym do proszku wywolujacego, subtelnie rozdrob¬ nionego materialu sciernego o twardosci wiekszej niz material zmniejszajacy tarcie i proszek wywo¬ lujacy.Wywolywacz elektrostatograficzny wedlug wyna¬ lazku sklada sie z proszku wywolujacego stanowia¬ cego zabarwiona zywice, w której ilosc barwnika wynosi 1 "— 30% wagowych w przeliczeniu na pro¬ szek wywolujacy oraz ewentualnie nosnika w ilo¬ sci 10 — 1000 czesci na jedna czesc proszku wy¬ wolujacego.Ponadto wywolywacz elektrostatograficzny we¬ dlug wynalazku zawiera dwuskladnikowy dodatek skladajacy sie ze stalej substancji zmniejszajacej tarcie w ilosci okolo 0,01 — 10% wagowych oraz rozdrobnionego materialu sciernego w wymiarach submikronowych w ilosci okolo 0,01 — 10% wago¬ wych w przeliczeniu na ilosc proszku wywolujace¬ go. Substancja zmniejszajaca tarcie stanowi na¬ sycone lub nienasycone, ewentualnie podstawione kwasy tluszczowe o 8 — 35 atomach wegla lub so¬ le powyzszych kwasów tluszczowych, alkohole tlu¬ szczowe odpowiadajace powyzszym kwasom, estry alkoholi mono- lub poliwodorotlenowych z powyz¬ szymi kwasami i odpowiadajace im amidy, gli¬ kole polietylenowe i glikole polimetoksyetylenowe, kwas tereftalowy, kwas izoftalowy, kwas 2,5-dwu- metylotereftalowy, kwas 2,5-dwuchlorotereftalowy, kwas p-fenylenodwuakrylowy kwas anyzowy, al¬ dehyd tereftalowy, sole kwasu tereftalowego, cho¬ lesterol, perchloropentacykiodekan, polikaprolak- tamy o ciezarze czasteczkowym nie wiekszym niz 4000, zwiazki fluoroweglowe o niskim ciezarze czasteczkowym np. krótkolancuchowe telomery czterofTuoroetylenu oraz policzterofluoroetyleny o niskim ciezarze czasteczkowym, natomiast material scierny stanowi koloidalna krze¬ mionke, krzemionke organofilowa o modyfikowa¬ nej powierzchni, ewentualnie traktowany po¬ wierzchniowo krzemian glinowy, krzemian wapnia, weglan wapnia, dwutlenek tytanu, tlenek glinu, trójtlenek antymonu, tytanian baru, wapnia lub strontu, tlenek magnezu, dwutlenek cyrkonu lub ich mieszaniny.Jako proszek wywolujacy wywolywacz wedlug wynalazku moze zawierac dowolny elektroskopowy proszek wywolujacy, korzystnie barwiony lub far¬ bowany. Typowymi materialami wywolujacymi sa zywice polistyrenowe, zywica akrylowa, zywica po¬ lietylenowa, zywica z polichlorku winylu, zywica poliakryloamidowa, zywica z tereftalanu polietyle¬ nu, zywica poliamidowa i kopolimery, mieszanki i mieszaniny wieloskladnikowe. Jako proszki wywolu¬ jace korzystnie stosuje sie odpowiednie zywice wi¬ nylowe o temperaturze topnienia co najmniej 43°C.Odpowiednimi zywicami winylowymi sa homopoli- mery lub kopolimery dwóch lub wiecej monomerów winylowych.Jako monomery do wytwarzania polimerów wi¬ nylowych stosuje sie styren winylonaftalen, mono- olefiny takie jak etylen, propylen, butylen, izobu- tylen i podobne, estry winylowe takie jak octan winylu, propionian winylu, benzoesan winylu i po¬ dobne, estry alfa-metylenowych alifatycznych kwa¬ sów jednokarboksylowych takie jak akrylan mety¬ lu, akrylan etylu, akrylan tn-butylu, akrylan izo- butylu, akrylan dodecylu, akrylan n-ofetylu, meta- krylan metylu, metakrylan etylu, metakrylan bu¬ tylu i podobne, etery winylowe takie jak eter wi¬ nylowe-metylowy, eter winylowo-izobutyIowy, eter winyIowo-etylowy i podobne, ketony winylowe jak keton winylowo-metylowy, keton winylowo-heksy- lowy, keton metylowo-izopropylenowy i tym podobne, oraz ich mieszaniny. Wlasciwy material na proszek wywolujacy, stosowany w sposobie wedlug wyna¬ lazku posiada zwykle sredni ciezar czasteczkowy od okolo 3.000 do okolo 500.000.Do barwienia czasteczek proszku wywolujacego moze byc uzyty dowolny odpowiedni barwnik lub pigment. Srodki barwiace proszek wywolujacy sa dobrze znane i sa nimi, na przyklad sadza, nitro- zyina, blekit anilinowy, blekit Oalco Oil, zólcien chromowa, czerwien tluszczowa duPont, zólcien chinolinowa, chlorek blekitu metylenowego, blekit ftalocyjaninowy, szczawian zieleni malachitowej, sadza lampowa, róz bengalski i ich mieszaniny.Pigment lub barwniki musza znajdowac sie na proszku wywolujacym w ilosci dosltatecznej do sil¬ nego zabarwienia tak, aby tworzyl sie na podlozu latwo widoczny obraz. Na przyklad, gdy pragnie sie otrzymac zwykle kopie kserograficzne dokumentów, proszek wywolujacy moze zawierac czarny pig¬ ment, taki jak sadza lub czarne barwniki, takie jak Amaplast Black firmy National Aniline Products.Pigment stosuje sie w ilosci okolo 1—30°/o wago¬ wych w stosunku do calkowitej ilosci zabarwionego proszku wywolujacego. Jesli srodek barwiacy pro¬ szek wywolujacy jest barwnikiem mozna stosowac go w znacznie mniejszych ilosciach. W celu zasto¬ sowania proszku wywolujacego wedlug wynalazku do procesu wywolywania, proszek ten powinien miec przecietna wielkosc czasteczek mniejsza niz mikronów.Jako dodatek stanowiacy substancje zmniejszaja¬ ca tarcie mozna zastosowac sole kwasów tluszczo¬ wych z metalami, ale mozna zastosowac równiez inne substancje o odpowiednich wlasciwosciach. Istotne jest aby dodatek smarujacy lub zmniejszajacy tar¬ cie zdolny byl do tworzenia cienkiego filmu przy- 40 45 50 55 605 89 055 6 legajacego do powierzchni fotoreceptora, zdolnego do wielokrotnego uzycia w trakcie powtarzajacych sie cykli procesu elektrostaltograficznego. Dodatek ten nie musd tworzyc calkowicie ciaglego filmu na po¬ wierzchni obrazowej, choc wiele z tych ma;erialów wlasnie taki film tworzy. Materialy zmniejszajace tarcie maja sklonnosc do wypelniania zaglebien po¬ wierzchni i pokrywania drobniutkich wzgórków tylko monowarstwa materialu zmniejszajacego tar¬ cie.Taki material musi wykazywac wlasciwosci, umozliwiajace osadzanie go na powierzchni obrazo¬ wej w sposób o wiele latwiejszy niz osadzenie uzy¬ tego proszku wywolujacejgo. Twardosc materialu zmniejszajaceigo tarcie jest zwiazana ze zdolnoscia tego dodatku do tworzenia osadu lub filmu na po¬ wierzchni obrazowej. Tak wiec material zmniej¬ szajacy tarcie musi byc bardziej miekki niz wy¬ brany proszek wywolujacy. Ustalenie, czy wybrany material zmniejszajacy tarcie jest bardziej miekki niz wybrany proszek wywolujacy przeprowadza sie dowolnym sposobem oznaczania twardosci. Na przyklad uzywajac twardosciomierza Shore'a, ska¬ le A, B, C lub D, i stosujac metody wedlug ASTM D-1706; mozna stwierdzic, czy dany mate¬ rial ma twardosc mniejsza niz twardosc wybranego proszku wywolujacego oraz czy jest skuteczny.Temperatura topnienia dodatku zmniejszajacego tarcie powinna byc nieco wyzsza niz temperatura otoczenia.Material zmniejszajacy tarcie musi miec równiez wyzsza zdolnosc zmniejszania tarcia niz wybrany proszek wywolujacy. Do okreslenia wzglednej zdol¬ nosci zmniejszania tarcia badanych materialów zmniejszajacych itarcie w porównaniu z proszkami wywolujacymi mozna zastosowac dowolna dynami¬ czna metode pomiaru. Próba polega na porównaniu stopnia zmniejszania tarcia, powodowanego przez material zmniejszajacy tarcie w stosunku do pro¬ szku wywolujacego, gdy zostana one umieszczone pomiedzy dwiema powierzchniami wspólpracuja¬ cymi znajdujacymi sie w ruchu jedna w stosunku do drugiej. Powierzchnie wspólpracujace powinny byc dostatecznie plaskie i kazda z nich powinna miec kinetyczny wspólczynnik tarcia wiekszy niz wspólczynnik tarcia materialu zmniejszajacego tar¬ cie i wspólczynnik tarcia proszku wywolujacego.Przydatna jest metoda, która polega na tym, ze plaski kawalek materialu gumopodobneigo przeciaga sie po powierzchniach obrazowych, pokrytych ba¬ danymi materialami,, nastepnie okresla sie wartosci wzglednych wspólczynników tarcia materialów, uzy¬ tych do pokrycia powierzchni.Plaskownik tracy w oprawce, stosuje sie w po¬ laczeniu z mechanizmem zamkowym i podstawa, podtrzymujaca powierzchnie fotoreceptora. Plasko¬ wnikiem moze byc kawalek gumopodobnego poli¬ uretanu o wymiarach: dlugosc 36 mm, grubosc 1,5 mm i szerokosc 12 mm. Krawedz plaskownika, sty¬ kajaca sie z powierzchnia obrazowa jest scieta lub skosna pod katem 60° do poziomu. Plaskownik po¬ winien byc zamocowany tak, aby miejsce skosne wysuwalo sie w kierunku ruchu. Powinien on byc zamocowany pod katem 22° w stosunku do po¬ wierzchni obrazowej, aby jego pozycja powodowa¬ la wycieranie, a nie rysowanie tej powierzchni.Powierzchniami obrazowymi sa na ogól plyty aluminiowe, powleczone selenem, o wymiarach 270 —340 mm. Pomiary wspólczynnika tarcia dokonuje sie za pomoca urzadzenia Lustrom Model TN (In- stron Corporation Centon), polaczonego z mecha¬ nizmem sankowym plaskownika. Oznacza sie sile, potrzebna do przesuniecia urzadzenia sankowego, po czym wartosc te odejmuje od wartosci sily nie¬ zbednej do przesuniecia urzadzenia sankowego i poruszenia plaskownika w poprzek powierzchni obrazowej. Wynik jest sila kinetyczna tarcia po¬ trzebna do przesuniecia samego plaskownika. Nor¬ malna sile poruszajaca plaskownik wzdluz po¬ wierzchni obrazowej mierzy sie za pomoca spraw¬ dzianu. Sila kinetyczna podzielona przez te wartosc daje w wyniku kinetyczny wspólczynnik tarcia.Wartosci wspólczynnika tarcia okresla sie przy uzyciu tylu plyt selenowych, ile jest materialów do scharakteryzowania. Odrzuca sie kazda plyte, wy¬ kazujaca odchylenie od przecietnej wieksze niz %. Do kazdego badanego materialu stosuje sie inna plyte i inny plaskownik, kazda plyte pokry¬ wa sie badanym materialem w sposób identyczny.Material naklada sie na plyte zawsze w tej sa¬ mej ilosci.Materialy zmniejszajace tarcie musza charakte¬ ryzowac sie równiez dostatecznie wysoka oporno¬ scia wlasciwa, aby nie niszczyc obrazu utajonego na powierzchni obrazowej.Korzystnymi materialami zmniejszajacymi tarcie o wlasciwosciach okreslonych wyzej, sa sole me¬ taliczne kwasów tluszczowych, takie jak sól litowa, sodowa, potasowa, miedziowa, rubidowa, srebrowa, magnezowa, wapniowa, strontowa, kadmowa, baro- * wa, rteciowa, glinowa, chromowa, cynowa, tytano¬ wa, cyrkonowa, olowiowa, manganowa, zelazowa, kobaltowa i niklowa oraz mieszaniny tych soli, jak równiez sole innych metali.Ewentualnie sole amonowe kwasów tluszczowych.Omawianymi kwasami tluszczowymi sa np. kwas kaprylowy, kwas pelargonowy, kwas undekanowy, kwas trójdekanowy, kwas kaprynowy, kwas lauro¬ wy, kwas mirystynowy, kwas pentadekanowy, kwas margarynowy, kwas stearynowy, kwas ara¬ chidowy, kwas behenowy, kwas lignocerynowy, kwas cerotynowy i ich mieszaniny.Ewentualnie stosuje sie odpowiednie stale alko¬ hole tluszczowe, estry, amidy i ich pochodne mie¬ szaniny.Korzystnymi estrami alkoholi jedno i wielowo¬ dorotlenowych i omówionych wyzej kwasów tlu¬ szczowych sa estry alkoholi o 1 — 20 atomach we¬ gla i kwasów, bedacych W powyzszych warunkach cialami stalymi. Korzystnie alkohole takie jak me¬ tylowy, etylowy, propylowy itd., alkohole lub dio- le i triole alkilenowe o 2 — 10 atomach wegla, co najmniej czesciowo zestryfikowane kwasami o 8 — — 35 atomach wegla. Przykladami odpowiednich estrów sa stearynian metylowy, monostearynian glicerolu, monostearynian glikolu etylenowego, trój- -/12-hydroksystearyinian/gliceryny, trójstearynian 1, 2, 4,-butanotriolu itp- Korzystnymi glikolami polietylenowymi i gliko¬ lami polimetoksyeltylenowymd sa produkty konden- 40 45 50 55 007 89 055 8 sacji, znane w. handlu pod nazwa Carbqwax.Omawiane produkty kondensacji, sa cialami sta¬ lymi, podobnymi do wosku, o ciezarze czasteczko¬ wym do okolo 2.000.Ponadto korzystnymi dodatkami sa cholesterol, polikaprolaktam o ciezarze czasteczkowym nie wiek¬ szym niz 4000, kwas tereftalowy, perchlorocyklode- lcan i woskowate (telomery czterofiuoroetylenu o niskim ciezarze czasteczkowym. v Okreslony wyzej material zmniejszajacy tarcie, jesli jest uzyty jako jedyny dodatek do wywoly¬ wacza, tworzy na powierzchni Obrazowej z wiel¬ ka latwoscia warstewke smaru, az do calkowitego usuniecia filmu, utworzonego z proszku wywoluja¬ cego. Fdtai tein wie tyflko pozwala na bardziej sku¬ teczne 'usuniecie proszku wywolujacego — przedlu¬ za on równiez zycie i zwieksza skutecznosc dzia¬ lania jakiegokolwiek srodka czyszczacego, stosowa¬ nego do usuwania pozostalosci wywolywacza.Jednakze w czasie uzycia zawartosci materialu zmniejszajacego tarcie stale wzrasta, co powoduje stopniowe stale pogarszanie sie jakosci kopii. Wla¬ czajac w sklad wywolywacza niewielka ilosc ma¬ terialu nie posiadajacego wlasciwosci smarowych, wykazujacego w niewielkim stopniu wlasciwosci scierne, w stanie daleko idacego rozdrobnienia, po¬ woduje sie, ze material ten reguluje powiekszanie sie warstewki materialu zmniejszajacego tarcie wla¬ snie dzieki swemu dzialaniu sciernemu, w czasie, gdy czynnik czyszczacy usuwa z powierzchni obra¬ zowej pozostalosci wywolywacza za pomoca sily, która powoduje scieranie mieszaniny wywolywacza z co najmniej czesci powierzchni obrazowej.Takie polaczenie dodatków pozwala materialowi zmniejszajacemu tarcie na spelnianie swej funkcji, gdy material scierny zapobiega tworzeniu sie nad¬ miernej, zaklócajacej proces warstwy srodka sma¬ rujacego. Ponadto, róznica wlasciwosci tryboelek- trycznych miedzy srodkami naelekltfyzowanymi, na przyklad czasteczkami nosnika i proszku wywoluja¬ cego, jest stabilizowana, poniewaz material scierny zapobiega szkodliwemu rozladowaniu sie proszku wywolujacego obraz.Jako odpowiedni material scierny korzystnie sto¬ suje sie materialy o powierzchni zmodyfikowanej w ten sposób, aby nadac jej równiez charakter hy¬ drofobowy. Na przyklad, hydrofobowe krzemionki otrzymuje sie, poddajac reakcji swiezo otrzymana krzemionke koloidalna z co najmniej jednym zwia¬ zkiem krzemoorganicznym, o grupach' weglowodo¬ rowych oraz grupach ulegajacych hydrolizie, zwia¬ zanych z atomem krzemu. W jednej z technik re¬ agenty i pare wodna wprowadza sie pneumatycznie, w równoleglych strumieniach, do reaktora ogrzane¬ go do temperatury okolo 400°C. Zwiazek krzemoor- ganiczny reaguje z grupami silanowymi na po¬ wierzchni czasteczek SK)2, w wyniku czego tworzy sie wiazanie poprzez atom tlenu pomiedzy atomem krzemu w zwiazku krzemoorganicznym i atomem krzemu w Si02- Do produkcji zmodyfikowanej krzemionki mozna stosowac dowolny zwiazek z od¬ powiednia organiczna grupa weglowodorowa lub podstawiona grupe weglowodorowa, zwiazana bez¬ posrednio z atomem torzemu w polaczeniu z grupa organokrzemowa. Najlepiej, jesla ta grufca organicz¬ na moze nadac materialowi sciernemu wlasciwosci hydrofobowe i zwiekszyc stabilnosc materialów wy¬ wolujacych w warunkach zmiennej wilgotnosci.Grupy organiczne moga stanowic nasycone lub nienasycone grupy weglowodorowe lub ich pochod¬ ne. Nasycone grupy organiczne obejmuja grupy: metylowa, etylowa propylowa, butyIowa, chloropro- pylowa i chlorometylowa. Jako odpowiednie zwia¬ zki krzemoonganiczne stosuje sie: dwumetylochloro- io silan, trójmetylochlorosilan, dwumetylodwuchlo- rosilan, metylotrójchlorosilan, dwumetylodwuchloro- silan, metylotrójchlorosilan, winylotrójetoksysilan.Rodzaj grupy organicznej moze wywierac wplyw na tryboelektryczne wlasciwosci wywolywacza. Na przyklad krzemionka poddana dzialaniu aminopro- pylosilanu moze byc uzyta w wywolywaczu typu odwracalnego.Wymiary czasteczek substancji sciernej powin^ ny byc bardzo drobne rzedu submdkronowego i wy- nosic okolo 1.500 milimikronów, korzystnie okolo —100 milimikronów.Odnosnie porównawczej twardosci materialu ty¬ pu sciernego, stwierdzono, ze musi on byc twardszy zarówno od proszku wywolujacego jak i od materialu zmniejszajacego tarcie. Wiekszosc stosowanych materialów oznaczana wedlug skali twardosci Mohs'a uwazana jest za materialy bardzo twarde. Jednakze material o twardosci mniejszej niz talk w skali twardosci Mohs'a równiez moze byc uzyty jezeli jest on bardziej twardy niz proszek wywolujacy i material zmniejszajacy tarcie. Materialy bardziej mieikkie niz talk zwykle klasyfikuje sie wedlug oznaczen technika zaglebiania w twardosciomierzu Shore'a i zalicza do przedzialu skali A, B, C i D tego testu.Sklad chemiczny dodatku sciernego nie jest istot¬ ny pod warunkiem, ze nie zawiera szkodliwych zanieczyszczen ani nie dziala ujemnie na proces tworzenia obrazu i wywolywania w ukladzie elek- 40 trostaltograficznym. Co wiecej, nie jest istotny ksztalt czasteczek srodka sciernego, gdyz dodatki o czasteczkach zarówno kulistych jak i ksztalcie nieregularnym dzialaja skutecznie. Najlepszymi materialami sciernymi sa hydrofobowy zel krze- 45 mionkowy Areosil R 972, produkcji firmy DeGussa Inc. oraz hydrofobowy krzemian glinowy Kaophi- le-2, firmy Georgie Caolin Company.Material wywolujacy wedlug wynalazku, znajdu¬ je zastosowanie we wszystkich znanych systemach 50 wywolywania elektrostatograficznego. Naleza tu sy¬ stemy, w których stosuje sie nosnik, jak wywoly¬ wanie za pomoca szczotki magnetycznej i wywoly¬ wanie kaskadowe jak równiez systemy, w których uzycie nosnika nie jest konieczne, takie jak wywo- 55 lywanie chmura pylowa, wywolywanie szczotkowe, wywolywanie stykowe.Wywolywacz wedlug wynalazku zawiera ewen¬ tualnie nosnik. Odpowiednio pokryte lub niepokry- te materialy nosnikowe do wywolywania kaskado- 60 wego sa dobrze znane. Czasteczki nosnika zawieraja dowolna substancje stala, powodujaca, ze czastecz¬ ki nosnika otrzymuja ladunek o znaku przeciwnym, niz czasteczki proszku wywolujacego w momencie doprowadzania do zetkniecia iz czasteczkami pro- •5 szku wywolujacego tak, ze czasteczki proszku wy-89 055 9 wolujaeego przywieraja i otaczaja czasteczki-nosni¬ ka. Jesli pragnie sie otrzymac -pozytywna repro^- dukcje obrazu elektrostatycznego, czasteczki nosnika nalezy dobrac tak, by czasteczki proszku wywolu¬ jacego uzyskaly ladunek o znaku przeciwnym do znaku obrazu elektrostatycznego.Odwrotnie, jesli pragnie sie otrzymac reproduk¬ cje obrazu elektrostatycznego zgodna z tonalnie (odwracalna), nosnik nalezy dobrac tak, by czasteczki proszku wywolujacego uzyskaly ladunek o znaku takim jak, znak obrazu elektrostatycznego. Tak wiec, substancje na czasteczki nosnika sa dobierane stosownie do ich wlasciwosci tryboeflektrycznych w odniesie¬ niu do pigmentu elektroskopowego tak, ze gdy substancje te zostana zmieszane lub poddane trwa¬ lemu stykowi jeden skladnik wywolywacza posiada ladunek dodatni jesli drugi znajduje sie ponizej pierwszego w szeregu tryiboelektrycznym a ladunek ujemny, jesli drugi skladnik znajduje sie w tym szeregu powyzej skladnika pierwszego- Przez odpowiedni dobór substancji zgodnie z ich wlasciwosciami toyboelektrycznynii, znaki ich ladunków po zmieszaniu sa takie, ze czasteczki elektroskopowego pigmentu przybieraja i pokry¬ waja powierzchnie czasteczek nosnika. Tak dobra¬ ne czasteczki przywieraja równiez do tych czesci obrazu elektrostatycznego, których powierzchnia wykazuje wieksze powinowactwo do proszku wy¬ wolujacego niz czasteczki nosnika.Typowymi nosnikami sa: stal, granulowany srut krzemienny, glin, chlorek potasowy, winian sodo- wo-potasowy, nikiel, chloran potasowy, cyrkon granulowany, krzemionka granulowana, metakrylan metylowy, szklo i tym podobne. Stosowane moga byc nosniki zwyczajne i mieszane. Wiele omówio¬ nych wyzej i innych typowych nosników przedsta¬ wiono w 'Opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2618552. Korzystnie gdy srednica cza¬ steczki nosnika mieszanego wynosi okolo 50—2000 mikronów, poniewaz czasteczki nosnika odznaczaja sie wówczas dostateczna gestoscia i sa dostatecznie bezwladne, aby uniknac przywierania do obrazu elektrostatycznego w procesie wywolywania kaska¬ dowego. Do wywolywania meltoda szczotki magne¬ tycznej w sposób zadawalajacy nadaja sie czaste¬ czki nosnika o przecietnym wymiarze mniejszym niz 800 mikronów.Mozna stosowac stosunkowo szeroki zakres pro¬ porcji materialu proszkowego w stosunku do ma¬ terialów dodatkowych. Material zmniejszajacy tar¬ cie powinien znajdowac sie w ilosci co najmniej wystarczajacej do utworzenia przylegajacego filmu, w zasadzie równomiernie rozlozonego na co naj¬ mniej 20% powierzchni obrazowej w czasie cykli¬ cznego uzywania tej powierzchni obrazowej. Korzy¬ stnie, jesli materialem zmniejszajacym tarcie zosta¬ nie pokryte okolo 10% powierzchni obrazowej.Stwierdzono, ze do Uzyskania podanego powyzej stopnia pokrycia potrzeba okolo 0,01 — 10% wago¬ wych srodka zmniejszajacego tarcie w stosunku do materialu proszkowego. Stosunek szczególnie ko¬ rzystny wynosi okolo 0,1 — 2,0% wagowych srod¬ ka zmniejszajacego tarcie w stosunku do ciezaru proszku wywolujacego.Ustalono, ze material scierny powinien znajdo¬ wac sie w ilosci wystarczajacej do utrzymania gru¬ bosci warstwy materialu zmniejszajacego tarcie w granicach submikronowych, to znaczy ponizej 10.00 Ai' w celu unikniecia powstawania warstwy inter- ferujacej. Jednakze ilosc ta w stosunku do materia¬ lu zmniejszajacego tarcie musi byc dostatecznie mala, aby nie powodowala ona usuwania warstwy osadzonego materialu zmniejszajacego tarcie lub nie zapobiegala tworzeniu sie tej warstwy- Jesli wzgledna ilosc jest tak duza, ze film nie tworzy sie lub nie zostaje zatrzymany, material scierny bedzie oddzialywal bezposrednio na foto-' receptor, oo przy dlugotrwalej pracy moze spowo- dowac .skrócenie trwalosci fotoreceptora i niektó¬ rych srodków stosowanych w tym ukladzie do czy¬ szczenia. Nalezy przyjac, ze na powierzchni obrazo¬ wej musi znajdowac sie warstwa materialu zmniej¬ szajacego tarcie grubosci przynajmniej okolo 5 A« Mozna okreslic optymalnie stosunek ilosci obu substancji dodatkowych, kontrolujac grubosc pozo¬ stajacej warstwy materialu zmniejszajacego tarcie.Uzycie w materiale zmniejszajacym tarcie wskazni¬ ka promieniotwórczego stanowi doskonaly srodek optymalizacji stosunku obu dodatków. Nalezy wziac równiez pod uwage dlugosc czasu pracy.Ogólnie biorac stwierdzono, ze oczekiwane wyniki uzyskuje sie stosujac ilosci materialu sciernego wy¬ noszaca okolo 0,01 — 10% wagowych w stosunku do ciezaru materialu proszkowego, korzystnie 0,1 — 2% wagowych materialu sciernego w stosunku do materialu proszkowego.Nizej podane przyklady ilustruja przedmiot wyna¬ lazku. Czesc i stosunki procentowe, jesli nie za- znaczono inaczej podano w wielkosciach wagowych.Przyklady kontrolne maja na celu zilustrowac wy¬ brane zastosowanie niniejszego wynalazku.Przyklad kontrolny I. Próbke kontrol¬ na wywolywacza, skladajaca sie z 2 czesci pro- 40 szku wywolujacego z zabarwionej zywicy polisty¬ renowej, o przecietnej wielkosci czastek okolo 12 mikronów zmieszana ze 100 czesciami kulek no¬ snika ze srutu • stalowego wielkosci okolo 125 mi¬ kronów, poddano próbom. 45 W tym celu beben, z bezpostaciowego selenu, automatycznej maszyny do kopiowania naladowane za pomoca wyladowania koronowego do poten^- cjalu dodatniego okolo 800 V i wystawiono na dzia¬ lanie obrazu skladajacego sie ze swiatel i cieni, w 50 celu wy/tworzenia elektrostatycznego obrazu utajo¬ nego. Nastepnie beben selenowy obracano w urza¬ dzeniu z magnetyczna szczotka wywolujaca. Po wy¬ wolaniu elektrostatycznego obrazu utajonego w ,u- rzadzeniu wywolujacym powstaly obraz proszkowy 55 zostal przeniesiony na arkusz papieru w urzadze¬ niu kopiujacym. Czasteczki proszku, pozostajace na bebnie selenowym po jego przejsciu przez urzadze¬ nie przenoszace obraz, usuwano trzema róznymi me¬ todami. Zarówno w tym jak i w dalszych przykla- eo dach stosowano czysty beben selenowy.W pierwszym sposobie do czyszczenia bebna uzy¬ wano cylindrycznej szczotki o srednicy 10 cm, z wlókien polistyrenowych 15 den, o wysokosci oko¬ lo 9 mm, przy czym gestosc wlókien wynosila oko- 65 lo 9350 wlókien/cm*. Szczotka byla usytuowana w11 89 055 12 stosunku do bebna tak, ze luz miedzy wlóknami a powierzchnia bebna wynosil 2,4 mm, szczotka wy¬ konywala okolo 175 okrazen bebna na minute.Jakosc pierwszej kopii byla doskonala, jednakze po 25000 kopiach gestosc optyczna tla byla bardzo du¬ za, rozdzielczosc spadla w widoczny sposób, obraz rozmazywal sie, zle bylo odwzorowanie kreski, zla ostrosc brzegowa. Ogledziny bebna ujawnily nie¬ wielkie oznaki zuzycia i znaczne nawarstwianie sie proszku wywolujacego na powierzchni bebna.W drugim sposobie do czyszczenia bebna stoso¬ wano tkanine typu opisanego w opisie patentowym St. Zjednoczonych nr 3186858. Jako tkanine stoso¬ wano nietkana tkanine ze sztucznego jedwabiu wywierajaca nacisk okolo 1,3 kg/cm2, przy czym wzgledna szybkosc tkaniny w stosunku do fotore¬ ceptora wynosila Okolo 3,6 cm/sekunde, a dlugosc droga styku wynosila okolo 3 mm. Po powtórzeniu procesu kopiowania okolo 5.000 razy kopie wykazy¬ waly dobry (kontrast i maly osad w tle. Jednakze duze plaszczyzny obrazu wygladaly jak wyplowiale.Badania mikrpgraficzne powierzchni bebna wykazaly znaczne nawarstwienie sie filmu utworzonego z proszku wywolujacego- W trzecim sposobie "Czyszczenia do usuniecia re¬ sztek proszku ^ (wywolujacego stosowano skrobak.Rrostjokaltny kawalek poliuretanu, podobnego do gumy o grubosci 1,5 mm, którego jeden koniec byl sfazowany tworzac ostrze czyszczace nachylone pod katem okolo 60° równolegle do osi bebna. Sfazowa- na krawedz ostrza umieszczono w stosunku do po¬ ruszajacego sie bebna w pozycji przypominajacej raczej skrawanie niz wycieranie.Powstajaca w wyniku sila pionowa, uzyta do docisniecia calego ostrza do powierzchni bebna wy¬ nosila wedlug odczytu na sprezynowej skali o- kolo 1,35 kg. Pierwsze kopie wykazywaly dobra ja¬ kosc pod kazdym wzgledem, jednakze po wykona¬ niu okolo 2.000 kopii obraz stawal sie wyraznie gorszy, wykazywal wysoka gestosc optyczna tla, duze plaszczyzny byly niedostatecznie kryte, roz¬ dzielnosc obnizona. Badanie bebna ujawnilo znacz¬ ne nawarstwienie sie proszku wywolujacego na po¬ wierzchni fotoreceptora. Powyzsze próby ilustruja trudnosci oapotykane przy stosowaniu typowego ma¬ terialu proszkowego, charakteryzujacego sie duza sklonnoscia do nawarstwienia sie na fotoreceptorze.Wzmagajace sie nawarstwienie jest bez watpienia przyczyna obnizania sie jakosci kopii.Przyklad kontrolny II. Próbka kon¬ trolna wywolywacza uzytego w przykladzie I zmodyfikowano w ten sposób, ze na 1 czesc pro¬ szku wywolujacego delikatnie dodano 0,1 czesci na stearynianu cynku o wielkosci czastek 0,75 — 40 mikronów.Powstala mieszanine rozcierano w ciagu 10 minut w mlynku Szegvari. Po przeniesieniu wywolanego obrazu sposobem opisanym w przykladzie I stoso¬ wano skrobak i technike oczyszczania wedlug przy¬ kladu I z ta róznica, ze do skrobaka przykladano sile okolo 90 gram. Po przeprowadzeniu okolo 2.000 cykli kopie charakteryzowaly sie wysoka gestoscia optyczna tla i duzym nawarstwieniem sie osadów- Przy obserwacji na powierzchni bebna selenowego stwierdzono nadmierne nawarstwienie sie filmu.Film ten byl utworzony albo ze stearynianu cynku albo z mieszaniny tego stearynianu i proszku wywo¬ lujacego. Przez zwiekszenie sily ostrza w stosunku do fotoreceptora do okolo 1,35 kg jakosc kopii po- zostala bardzo dobra przez okolo 2.000 cykli.Przyklad ten ilustruje, ze przez uzycie w wywo¬ lywaczu odpowiedniego materialu zmniejszajacego tarcie tzn. stearynianu cynkowego, razem z urza¬ dzeniem przekazujacym dostateczna sile w czasie czyszczenia uzyskano regulacje szkodliwego nawar¬ stwiania sie filmu.Nastepne przyklady wskazuja, ze przez uzycie dwuskladnikowego dodaltku materialu sciernego ra¬ zem z tworzacym film materialem smarujacym, uzyskuje sie kopie o niezwykle wysokiej jakosci dzidki bardziej efektywnej regulacji nawarstwiania sie filmu.Przyklad III. Wywolywacz przygotowano w sposób opisany ponizej. Do proszku wywolujacego stosowanego w przykladzie I, skladajacego sie z za¬ barwionej zywicy polistyrenowej o wielkosci 12 mi¬ kronów dodano 0,25% stearynianu cynkowego i mielono w ciagu 10 minut w mlynku Szegvari. Na¬ stepnie dodano 1,0% wagowy oczyszczonego dwu- tlenku krzemu w rozdrobnieniu submikronowym i mielono przez dalsze 10 minut. Oczyszczony dwu¬ tlenek krzemu otrzymano w drodze plomieniowego rozkladu hydrolitycznego czterochlorku krzemu w fazie gazowej w plomieniu tlenowodorowym w temperaturze 1100°C i nastepna reakcje z dwume- tylodwuchlorosilanem w ogrzewanym reaktorze flu¬ idyzacyjnym.W reaktorze fluidyzacyjnym z silanem reagowalo okolo 75% grup silanolowych, znajdujacych sie na powierzchni swiezo przyrzadzonego dwutlenku krze¬ mu. Czasteczki dwutlenku krzemu, zawierajace w przyblizeniu 3 grupy silanolowe na 100A2 po¬ wierzchni szczególnie latwo reagowaly z silanem.Analiza koncowego produktu wykazala 99,8% dwu- 40 tlenku krzemu oraz drobne ilosci wegla, chlo¬ ru, metali ciezkich, trójtlenku zelazowego, , dwu¬ tlenku tytanu oraz trójtlenku azotu. Wymiary cza¬ steczki wyniosly 10—30 milimikronów, a powierzch¬ nia okolo 90 — 150 m2/g. 45 Wartosci wzglednego wspólczynnika tarcia okre¬ slone opisana wyzej technika, wynosily selen 5,23, proszek wywolujacy 3,92 i stearynian cynku 0,67.Proszek wywolujacy mial twardosc oznaczona na twardosciomierzu Shore^ wieksza niz 100 na skali 50 A,i B stearynian cynku 66 na skali A i 52 na ska¬ li B. Oczyszczony dwutlenek krzemu mial twardosc okolo 5 na skali Mohsa. Po przeniesieniu wywola¬ nego obrazu w sposób opisany w przykladzie I stosowano oczyszczanie za pomoca skrobaka stoso- 55 warnego w przykladzie I, uzywajac sily nacisku okolo 1,35 kg. Po 2.000 cyklach kopie charakteryzo¬ waly sie identyczna niezwykle wysoka jakoscia obrazu, taka jak kopie poczatkowe. Kontrola bebna selenowego stwierdzila osadzanie sie filmu o gru- 60 bosci mniejszej niz 300A» Przyklad IV. Postepowano w sposób ana¬ logiczny do opisanego w przykladzie III, z ta ró¬ znica, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,23% stearynianu kadmowego o wielkosci czaste- 65 czek 10 — 20 mikronów i 1,0% Kaophile 2, doste-13 pnego w handlu hydrofobowego krzemianu gli¬ nowego o wielkosci czasteczek 200 milimikronów Wspólczynnik tarcia stearynianu kadmowego wyno¬ sil 0,25 a twardosc mierzona twardosciomierzem Shore'a wynosila 78 na skali A i 66 na skali B. Po 2000 cykli wywolywacz ten dawal kopie o wyjat¬ kowo dobrej jakosci pod kazdym wzgledem. Osa¬ dzenie sie filmu na fotoreceptorze nie przekracza¬ lo 500A.Przyklad V. Postepowano w sposób analo¬ giczny do opisanego w przykladzie III, z ta róznica; ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,25% monostearynianu glicerolu i 1,0% oczyszczonego S1O2 wedlug przykladu III. Wspólczynnik tarcia monostearynianu glicerolu wynosil 1,57, a twardosc mierzona twardosciomierzem Shore^ wynosila 67 na skali A i 31 na skali B- Po 2000 cykli wywoly¬ wacz ten dawal kopie o jakosci wyrózniajacej sie pod kazdym wzgledem. Osadzanie sie filmu na fotoreceptorze nie przekraczalo 300A- Przyklad VI. Postepowano w sposób analogi¬ czny do opisanego w przyklaidzie III, z tym wyjat¬ kiem, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 4,0% Carbowax 4000, dostepnego w handlu glikolu polietylenowego o ciezarze czasteczkowym okolo 4.000 i wielkosci czasteczek okolo 2 — 14 mikronów oraz 6,0% Aerosilu R 972. Aerosil R 972 jest ma¬ terialem dostepnym w haindlu, w zasadzie identy¬ cznym z oczyszczona krzemionka wedlug przy¬ kladu III. Wspólczynnik tarcia Carbowax'u 4000 wynosil 1,63 a twardosc na skali A twardoscio- mierza Shore'a wynosila 95. Resztki materialu wy¬ wolywacza pozostajace na bebnie selenowym po przejsciu bebna przez urzadzenie przenoszace usu¬ wano za pomoca obracajacej sie szczotki i ukladu prózniowego. Po 2000 cykli wywolywacz ten dawal kopie doskonalej jakosci. Osadzanie sie filmu na fotoreceptorze nie przekraczalo 700A- Przyklad VII. Postepowano w sposób analo¬ giczny do opisanego w przykladzie III z ta róz- róznica, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie 0,25°/o cholesterolu i 1,0% Aerosilu R 972. Chole¬ sterol mial czasteczki o wielkosci 5 — 140 mikro¬ nów, wspólczynnik tarcia 2,1 i twardosc 72 na ska¬ li B twardosnomienzia Shorete. Po 2000 cykli otrzy¬ mywano kopie doskonalej jakosci. Osadzanie sie filmu na fotoreceptorze nie przekraczalo 300A.Przyklad VIII. Postepowano w sposób analogiczny do opisanego w przykladzie III z ta róznica, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,25% PC1-150 dostepnego w handlu polikapiro- laktonu o ciezarze czasteczkowym okolo 4.000, oraz z 1% Aerosilu R 972 PCI-150 mial czasteczki o wielkosci 2 — 140 mikronów, wspólczynnik tarcia 2,0 i twardosc 95 na skali A twardosciomieirza Shore'a. Po 2000 cylkli wywolywacz ten dawal kopie niezwykle wysokiej jakosci pod kazdym wzgledem. Osadzanie sie filmu na fotopólprzewodni- ku nie przekraczalo 300A- Przyklad IX. Postepowano w sposób ana¬ logiczny do opisanego w przykladzie III z¦¦¦•ta róz¬ nica, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,25% Vydax'u woskowatego telemeru o niskim cie¬ zarze czasteczkowym, majacego wlasciwosci smaru¬ jace. Jest to telomer czterofluoromeitylenu, produ- 89 055 14 kowany przez firme S. I. DuPont. Drugim sklad¬ nikiem byl Aerosil R 972 w ilosci 1,0% Vydax o wielkosci czasteczek od 2 do 100 mikronów i wspól¬ czynnika tarcia mniejszym niz wspólczynnik tarcia materialu proszkowego, twardosc 72 w skali B twardosciómierza Shore'a i temperaturze topnienia 300°C. Po 2000 cykli wywolywacz ten dawal kopie o jakosci porównywalnej z jakoscia kopii otrzyma¬ nych w przykladach III—VIII. Resztkowe osadzanie sie filmu nie przkraczalo 300A- Przyklad X. Postepowano w sposób analo¬ giczny do opisanego w przykladzie III z ta róznica, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 1,25% kwasu tereftalowego i 1,0% Aerosilu R 972. Kwas , tereftalowy mial wspólczynnik tarcia 0,40 o twar¬ dosc na skali twardosciómierza Shore'a, wyno¬ sila 96- Wywolywacz ten po 2000 cykli równiez da¬ wal kopie jakosci porównywalnej z jakoscia ko¬ pii wedlug przykladów III — VIII. Resztkowe o- sadzanie sie filmu nie przekraczalo 400A« Przyklad XI. Postepowano w sposób ana¬ logiczny do opisanego w przykladzie III z ta rózni¬ ca, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,25% perchloropentacyklodekanu i 1% dwultlenku tytanu.Perchloropentacyklodekan mial wspólczynnik tar¬ cia 1,0 i twardosc 87 na skali B twardosciómierza Shore*a. Dwutlenek tytanu mial przecietna wiel¬ kosc czasteczek okolo 30 milimikronów. Wywoly¬ wacz ten, po 2000 cykli dawal kopie o jakosci porównywalnej z jakoscia kopii wedlug przykla¬ dów 3 — 8. Resztkowe osadzanie sie filmu nie przekraczalo 300A- Przyklad XII. Postepowano w sposób ana¬ logiczny do opisanego w przykladzie III z ta rózni- ca, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,25% alkoholu stearylowego i 1,0% trójtlenku antymonu.Alkohol stearylowy mial wspólczynnik tarcia mniej¬ szy niz wspólczynnik tarcia proszku wywolujacego i twardosc mierzona twardosciomierzem Shore'a 40 mniejsza niz twardosc' proszku. Sproszkowany trój¬ tlenek antymonu mial srednia wielkosc czasteczek 100 mikronów. Wywolywacz ten, po 2000 cykli da¬ wal kopie o jakosci porównywalnej z jakoscia ko¬ pii wedlug przykladów III — VIII. Resztkowe 45 osadzanie sie filmu nie przekraczalo 400A- Przyklad XIII. Postepowano w sposób analogiczny do opisanego w przykladzie III, z ta róznica, ze dwuskladnikowy dodatek skladal sie z 0,25% stearynianu cynku i 1,0% surowego dwutlen- 50 ku krzemu w rozdrobnieniu submikronowym. Do¬ datek krzemu byl identyczny z dwutlenkiem krze¬ mu uzywanym w przykladzie III jednak z ta róz¬ nica, ze nie byl poddany procesowi nadajacemu mu wlasciwosci organofilowe. Proces prowadzono 55 przy wilgotnosci wzglednej okolo 80% i przeciet¬ nej temperaturze 24°C. W poczatkowych kopiach gestosc optyczna tla, rozdzielczosc, ostrosc brzego¬ wa — byly dobre. Jednakze po wykonaniu okolo 9000 kopii gestosc optyozna tla wzrosla dwukrotnie, 60 rozdzielczosc obnizyla sie, ostrosc brzegowa stala sie zla. Kontrola fotoreceptora ujawnila na nim metny, wilgotny, gliniasty film, który nie dawal sie usunac za pomoca zwyklych technik, stosowanych do czyszczenia. 65 Ten sam proces, prowadzony przy wilgotnosci15 89 055 16 wzglednej 30% i temperaturze okolo 24° dawal po okolo 2000 cykli doskonale kopie. Na powierzchni fotoreceptora nie zauwazano gliniastego filmu.Jesli w skladzie wywolywacza uzywano prepa¬ rowanego dwutlenku krzemu wedlug przykladu III i prowadzono proces przy stosunkowo wysokiej wilgotnosci 60% i w temperaturze 24°C, jakosc obra¬ zu pozosltawala doskonala a na fotoreceptorze nie zauwazono osadu koloidalnej krzemionki.Uwaza sie, ze krzemionka nie preparowana o bardzo rozwinietej powierzchni dziala jako srodek suszacy i pochlonieta przez nia woda dziala szkodli^ wie na caloksztalt procesu wywolywania i czysz¬ czenia. Natomiast nie obserwuje sie tego dzialania, jesli proces prowadzi sie w warunkach malej wil¬ gotnosci.Przyklad XIV. Posltepowano w sposób analogiczny do opisanego w przykladzie III z ta róznica, ze stosowano wywolywanie odwracalne.Okolo 100 czesci srutu stalowego wielkosci 250 mi¬ kronów o czasteczkach pokryitych mieszanina kopo¬ limeru polichlorku winylu i polioctanu winylu z blekitem Luxol Fast Blue, barwnikiem dostepnym w handlu, zmieszano z 1 czescia proszku wywolu¬ jacego skladajacego sie z 65°/o polistyrenu, 35°/o polimetarkylanu n-butylu i 10%' sadzy. Ten wywo¬ lywacz odwracalny zawieral równiez, obok steary¬ nianu cynku wedlug przykladu II równiez 1,0% wagowych tlenku glinowego w przeliczeniu na cie¬ zar proszku wywolujacego. Przecietny rozmiar cza¬ steczek tlenku glinu wynosil 30 milimikronów.Efektywne wywolywanienastepowalo w miejscach po wierzchni obrazowej pozbawionych ladunku. Po 1000 cykli kopie byly doskonale pod kazdym wzgledem.Grubosc pozostalosci wywolywacza na powierzchni obrazowej nie przekraczala 300A- Przyklad XV. Postepowano w isposób ana¬ logiczny do opisanego w przykladzie III z tym, ze zamiast stearynianu cynku uzywano Q,25% steary¬ nianu miedzi. Wspólczynnik tarcia stearynianu mie¬ dzi byl mniejszy niz wspólczynnik tarcia proszku wywolujacego, a twardosc mierzona za pomoca twaildosciomierza Shore'a byla mniejsza niz twar¬ dosc tego proszku. Po 2000 cykli wywolywacz ten dawal kopie dobre pod kazdym wzgledem. PL PL PL PL PL
Claims (4)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Wywolywacz elektrostatograficzny skladajacy sie z proszku wywolujacego stanowiacego zabarwio¬ na zywice, w kltórej ilosc barwnika wynosi 1—30% wagowych w przeliczeniu na proszek wywolu¬ jacy oraz dodatku stalej substancji zmniejszaja¬ cej tarcie i ewentualnie nosnika w ilosci 10 — —-1000 czesci na jedna czesc proszku wywolujacego, 5 znamienny tym, ze zawiera dwuskladnikowy do^ datek skladajacy sie ze stalej substancji zmniejsza¬ jacej tarcie w ilosci 0,01 — 10% wagowych oraz rozdrobnionego materialu sciernego o wymiarach submikronowych w ilosci 0,01 — 10% wagowych io w przeliczeniu na ilosc proszku wywolujacego, przy czym substancja zmniejszajaca tarcie stanowi na¬ sycone lub nienasycone, ewentualnie podstawione kwasy tluszczowe o 8 — 35 atomach wegla, sole metaliczne powyzszych kwasów tluszczowych, al- 15 kohole tluszczowe odpowiadajace powyzszym kwa¬ som, estry alkoholi mono- lub poliwodorotleno- wych z powyzszymi kwasami i odpowiadajace im amidy, glikole polietylenowe i glikole polimeto- ksyetylenowe, kwas tereftalowy, kwas izoftalowy, 20 kwas 2,5-dwumetylotereftalowy , kwas 2,5-dwu- chlorotereftalowy, kwas p-fenylenodwuakrylowy, kwas anyzowy, aldehyd tereftalowy, sole kwasu te- refttalowego, cholesterol, perclijoropentacyklodekan, polikaprolaktam o ciezarze czasteczkowym poni^ 25 zej 4000, zwiazki fluoroweglowe o niskim cieza¬ rze czasteczkowym jak krótkolancuchowe telomery czterofluoroetylenu oraz policzlterofluoroetyleny o niskim ciezarze czasteczkowym, natomiast ma¬ terial scierny stanowi koloidalna krzemionke orga- 30 nofilowa o modyfikowanej powierzchni, ewentual¬ nie traktowany powierzchniowo krzemian glinowy, krzemian wapnia, weglan wapnia, dwutlenek tyta¬ nu, tlenek glinu, itrójtlenek antymonu, tytanian ba¬ ru, wapnia lub strontu, tlenek magnezu, dwutle- 35 nek cyrkonu lub ich mieszaniny.
2. Wywolywacz wedlug izastrz. 1, znamienny tym, ze jako substancje zmniejszajaca tarcie zawiera ko¬ rzystnie stearynian cynku, stearynian miedzi, ste¬ arynian kadmu, monostearynian glicerolu, glikol 40 polietylenowy o ciezarze czasteczkowym 4000, cholesterol, polikaprolaktam o ciezarze czasteczko¬ wym 4000, woskowate telomery czterofluoroetylenu o niskim -ciezarze czasteczkowym, kwas tereftalo¬ wy, perchloropentacyklodekan- 45
3. Wywolywacz wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera material scierny o wymiarach czastek 1—500 milimikronów.
4. Wywolywacz wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze jako material scierny zawiera hydrofobowy pre- 50 parowany dwutlenek krzemu, hydrofobowy krze¬ mian glinowy, dwutlenek tytanu, trójtlenek anftymo- nu i tlenek glinowy. Druk: Opolskie Zaklady Graficzne im. Jana l^angowskiego w Opolu, zam. 2457/76 105 egz. Cena 10 zl PL PL PL PL PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18857071A | 1971-10-12 | 1971-10-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL89055B1 true PL89055B1 (en) | 1976-10-30 |
Family
ID=22693704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1972158183A PL89055B1 (en) | 1971-10-12 | 1972-10-10 | Electrostatographic developing material[gb1402009a] |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS4847346A (pl) |
| AR (1) | AR194232A1 (pl) |
| AT (1) | AT321106B (pl) |
| AU (1) | AU462045B2 (pl) |
| BE (1) | BE789987A (pl) |
| BR (1) | BR7202823D0 (pl) |
| CA (1) | CA983305A (pl) |
| DE (1) | DE2249385C3 (pl) |
| ES (1) | ES407564A1 (pl) |
| FI (1) | FI57184C (pl) |
| FR (1) | FR2157521A5 (pl) |
| GB (1) | GB1402009A (pl) |
| IT (1) | IT968815B (pl) |
| PL (1) | PL89055B1 (pl) |
| SE (1) | SE379251B (pl) |
| SU (1) | SU615875A3 (pl) |
| ZA (1) | ZA727225B (pl) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52136635A (en) * | 1976-05-12 | 1977-11-15 | Toshiba Corp | Electrostatic image developing toner |
| JPS6040018B2 (ja) * | 1977-08-08 | 1985-09-09 | 株式会社リコー | 電子写真現像剤用トナ− |
| JPS6038699B2 (ja) * | 1977-09-14 | 1985-09-02 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像剤 |
| JPS56140356A (en) * | 1980-04-03 | 1981-11-02 | Toray Ind Inc | Dry toner |
| JPS585752A (ja) * | 1981-07-01 | 1983-01-13 | Bando Chem Ind Ltd | 静電転写型電子写真用磁性トナ− |
| JPS58132757A (ja) * | 1982-02-03 | 1983-08-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 静電荷像現像剤及び画像形成方法 |
| JPS58205160A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 静電荷像現像剤及び画像形成方法 |
| US4626487A (en) * | 1983-08-03 | 1986-12-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Particulate developer containing inorganic scraper particles and image forming method using the same |
| US4517272A (en) * | 1983-08-12 | 1985-05-14 | Eastman Kodak Company | Electrostatic dry toner composition |
| JPH0623859B2 (ja) * | 1983-12-08 | 1994-03-30 | 株式会社リコー | 静電荷像現像用トナ− |
| US5164275A (en) * | 1987-01-19 | 1992-11-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of forming a multicolor image with color toner and two-component developer containing same |
| US5149610A (en) * | 1987-01-19 | 1992-09-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Color toner and two-component developer containing same |
| EP0275636B1 (en) * | 1987-01-19 | 1993-07-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Color toner and two-component developer containing same |
| US5256512A (en) * | 1987-01-19 | 1993-10-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Color toner and two-component developer containing same |
| US5307122A (en) * | 1989-07-28 | 1994-04-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus apparatus unit facsimile apparatus and developer comprising hydrophobic silica fine powder for developing electrostatic images |
| US5139914A (en) * | 1989-07-28 | 1992-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Developer for developing electrostatic images and image forming apparatus |
| US5210617A (en) * | 1989-07-28 | 1993-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Developer for developing electrostatic images and image forming apparatus |
| SG78355A1 (en) * | 1990-10-26 | 2001-02-20 | Canon Kk | Developer for developing electrostatic image image forming method electrophotographic apparatus apparatus unit and facsimile apparatus |
| US5418102A (en) * | 1990-11-29 | 1995-05-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Developer for developing electrostatic image, image forming method, toner imager fixing method and image forming apparatus |
| US5424810A (en) * | 1991-09-13 | 1995-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic toner, magnetic developer, apparatus unit, image forming apparatus and facsimile apparatus |
| US5447815A (en) * | 1992-06-04 | 1995-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Developer for developing electrostatic image and image forming method |
| JPH0695426A (ja) * | 1992-09-16 | 1994-04-08 | Fuji Xerox Co Ltd | 静電荷像現像用乾式トナー |
| JP3336838B2 (ja) * | 1995-08-22 | 2002-10-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤および画像形成方法 |
| US5863684A (en) * | 1996-06-07 | 1999-01-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Developer, image forming method, and multicolor image forming method |
| US5891600A (en) * | 1996-10-14 | 1999-04-06 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Mono-component developer, method of forming image and method of forming multi-color image |
| JP3575203B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2004-10-13 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像剤、画像形成方法及び画像形成装置 |
| JP4000209B2 (ja) * | 1997-12-17 | 2007-10-31 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電潜像現像剤用トナー、静電潜像現像剤用トナーの製造方法、静電潜像現像剤、および画像形成方法 |
| WO2004023215A2 (en) | 2002-09-09 | 2004-03-18 | Mitsubishi Chemical America, Inc. | Electrostatic toner composition to enhance copy quality by improved fusing and method of manufacturing same |
| JP3988936B2 (ja) | 2003-05-13 | 2007-10-10 | 信越化学工業株式会社 | シラン表面処理球状シリカチタニア系微粒子、その製造方法、および、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 |
| TWI703746B (zh) * | 2015-08-28 | 2020-09-01 | 國立大學法人千葉大學 | 有機半導體裝置的製造方法及粉體 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3392139A (en) * | 1965-05-03 | 1968-07-09 | Monsanto Graphic Syst | Electroscopic powder containing titania-calcium sulfate pigment |
-
0
- BE BE789987D patent/BE789987A/xx unknown
-
1972
- 1972-03-10 CA CA136,770A patent/CA983305A/en not_active Expired
- 1972-04-12 JP JP47036830A patent/JPS4847346A/ja active Pending
- 1972-04-13 AR AR241447A patent/AR194232A1/es active
- 1972-05-05 BR BR002823/72A patent/BR7202823D0/pt unknown
- 1972-10-06 SU SU721835353A patent/SU615875A3/ru active
- 1972-10-06 AT AT859172A patent/AT321106B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-10-06 FI FI2768/72A patent/FI57184C/fi active
- 1972-10-09 FR FR7236617A patent/FR2157521A5/fr not_active Expired
- 1972-10-09 DE DE2249385A patent/DE2249385C3/de not_active Expired
- 1972-10-10 IT IT30315/72A patent/IT968815B/it active
- 1972-10-10 SE SE7213035A patent/SE379251B/xx unknown
- 1972-10-10 PL PL1972158183A patent/PL89055B1/pl unknown
- 1972-10-11 GB GB4689072A patent/GB1402009A/en not_active Expired
- 1972-10-11 AU AU47653/72A patent/AU462045B2/en not_active Expired
- 1972-10-11 ES ES407564A patent/ES407564A1/es not_active Expired
- 1972-10-11 ZA ZA727225A patent/ZA727225B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU4765372A (en) | 1974-04-26 |
| GB1402009A (en) | 1975-08-06 |
| ZA727225B (en) | 1973-06-27 |
| DE2249385A1 (de) | 1973-04-19 |
| JPS4847346A (pl) | 1973-07-05 |
| DE2249385C3 (de) | 1978-12-14 |
| FI57184C (fi) | 1980-06-10 |
| BE789987A (fr) | 1973-04-12 |
| CA983305A (en) | 1976-02-10 |
| ES407564A1 (es) | 1976-01-16 |
| IT968815B (it) | 1974-03-20 |
| SE379251B (pl) | 1975-09-29 |
| DE2249385B2 (de) | 1978-04-06 |
| AR194232A1 (es) | 1973-06-29 |
| AT321106B (de) | 1975-03-10 |
| FI57184B (fi) | 1980-02-29 |
| FR2157521A5 (pl) | 1973-06-01 |
| SU615875A3 (ru) | 1978-07-15 |
| BR7202823D0 (pt) | 1973-07-24 |
| AU462045B2 (en) | 1975-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL89055B1 (en) | Electrostatographic developing material[gb1402009a] | |
| US3983045A (en) | Three component developer composition | |
| FI57492B (fi) | Elektrostatografiska framkallningsaemnen | |
| US3900588A (en) | Non-filming dual additive developer | |
| EP0990954B1 (en) | Resin-coated carrier, two component type developer, and developing method | |
| US4051077A (en) | Non-filming dual additive developer | |
| EP0950928B1 (en) | Developing apparatus, apparatus unit, and image forming method | |
| JPH01221755A (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
| JPH02990A (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
| US5298950A (en) | Image forming apparatus | |
| KR0172645B1 (ko) | 정전하 현상용 토너 조성물 및 그를 사용한 화상 형성방법 | |
| GB2075209A (en) | Carrier particles for electro-photographic developers | |
| CN109932880B (zh) | 盒和成像装置 | |
| JP3323741B2 (ja) | 現像剤担持体及び現像剤担持体の製造方法 | |
| JP2000242029A (ja) | 画像形成方法、画像形成装置及び画像形成用磁性トナー | |
| PL88884B1 (pl) | ||
| JPH05303235A (ja) | 現像剤の製造方法 | |
| JPH0352857B2 (pl) | ||
| JP7199914B2 (ja) | カートリッジおよび画像形成装置 | |
| JPH0264561A (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
| JPWO2007080826A1 (ja) | 静電荷像現像用トナー | |
| JPH06148910A (ja) | 電子写真法 | |
| KR100652245B1 (ko) | 정전하상 현상용 토너 | |
| JP3997034B2 (ja) | 現像装置、画像形成方法及び装置ユニット | |
| JP2675974B2 (ja) | 静電荷像現像用磁性トナー |