PL61826B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL61826B1 PL61826B1 PL122228A PL12222867A PL61826B1 PL 61826 B1 PL61826 B1 PL 61826B1 PL 122228 A PL122228 A PL 122228A PL 12222867 A PL12222867 A PL 12222867A PL 61826 B1 PL61826 B1 PL 61826B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- tungsten
- cobalt
- bath
- coatings
- coating
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 8
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- JPNWDVUTVSTKMV-UHFFFAOYSA-N cobalt tungsten Chemical compound [Co].[W] JPNWDVUTVSTKMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- -1 tungsten ion Chemical class 0.000 claims description 4
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 claims 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000003893 lactate salts Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)oxane-4-carboxylic acid Chemical compound C=1C=C(F)C=CC=1C1(C(=O)O)CCOCC1 CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical class OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N Gluconic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric Acid Chemical class [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940001447 lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 239000001540 sodium lactate Substances 0.000 description 1
- 235000011088 sodium lactate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005581 sodium lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 17.VIII.1967 !(P 122 228) 30.111.1971 61826 KI. 48 a, 5/30 MKP C 23 b, 5/30 UKD 669.2A8: :B21.957il Wspóltwórcy wynalazku: Jan Socha. Jerzy Weber, Tadeusz Zak Wlasciciel patentu: Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) Kapiel do galwanicznego osadzania blyszczacych powlok ze stopu wolframowo-kobaltowego Przedmiotem wynalazku jest kapiel do galwa¬ nicznego osadzania powlok stopowych wolframo- wo-kobaltowych, oparta na zwiazkach chelatuja- cych te metale, pracujaca w szerokim zakresie pH od kwasnego do alkalicznego.Znane sa kapiele do galwanicznego osadzania powlok stopowych wolframowo-kobaltowych opar¬ te na zwiazkach zespolonych slabych kwasów or¬ ganicznych, np. kwasu cytrynowego, szczawiowego i winowego, pracujace w zakresie pH od 7 do oko¬ lo 9.Znane sa równiez z japonskich opisów paten¬ towych nr 6064/1958 i 5261/1969 kapiele do osa¬ dzania powlok stopowych zawierajacych metale z grupy zelaza, jak kobalt, zelazo i nikiel oraz po¬ wyzej 40% wolframu. Kapiele te zawieraja jony cy- trynianowe i hydrazyne.Z obu tych rodzajów kapieli nie mozna otrzy¬ mywac powlok blyszczacych, a jedynie matowe, przy czym powloki osadzane z kapieli znanych z opisów japonskich wymagaja dla uzyskania wy¬ maganej szczelnosci grubosci rzedu 50 mikrome¬ trów, a samo prowadzenie kapieli zawierajacej hy¬ drazyne nastrecza wiele klopotów.Celem wynalazku jest usuniecie wymienionych niedogodnosci i umozliwienie otrzymywania powlok blyszczacych, szczelnych juz przy malych grubos¬ ciach, ze stopu wolframowo-kobaltowego, w którym stosunek zawartosci wolframu do kobaltu moze byc dowolnie ustalany.Przeprowadzone badania wykazaly, ze otrzymuje sie takie powloki, gdy poza jonami wolframu i ko¬ baltu wprowadzi sie równoczesnie do kapieli zwiaz¬ ki chelatujace osadzane galwanicznie jony, substan- 5 cje stabilizujaca kapiel, oraz zwiazek buforujacy.Okazalo sie równiez, ze zawartosc wolframu w powloce mozna regulowac tak stezeniem skladni¬ ków podstawowych jak i stezeniem zwiazku che- latujacego, który zmniejsza w glównej mierze ste- 10 zenie jonu kobaltawego w kapieli.Kapiel wedlug wynalazku z której osadzaja sie blyszczace powloki ze stopu wolframowo-kobalto¬ wego zawiera: 5—200 g/l jonu wolframu wprowa¬ dzanego w postaci wdlfraimianu sodowego, 10— 15 150 g/l jonu kobaltu wprowadzanego w postaci uwodnionego siarczanu kobaltawego, 100—200 g/l substancji chelatujacej w postaci np. laktonów hy- droksykwasów organicznych zawierajacych co naj¬ mniej 3 grupy wodorotlenowe lub/i aminokwasów 20 organicznych zawierajacych co najmniej 2 grupy aminowe, 0,5—1,0 g/l fenolu lub jego pochodnych jako substancji stabilizujacej oraz 30—60 g/l mle¬ czanu lub winianu dowolnego metalu jako substan¬ cji buforujacej. 25 Z kapieli tej o pH w granicach 3,3—8,5, pracu¬ jacej przy gestosci pradu 0,5— 3,0 A/dm2, w tem¬ peraturze 20—60°C . otrzymuje sie przy anodach nierozpuszczalnych, stopowe blyszczace powloki wolframowo-kobaltowe o budowie drobnokrysta- 30 licznej, o wysokiej szczelnosci, posiadajace twardosc 618263 do 950 HV, przy czym zawartosc wolframu w powloce moze byc regulowana w bardzo szerokich granicach rzedu od 5 do 50%.Przyklad I. Przygotowano kapiel o skladzie: 20 g/l Na2W04, 10 g/1 C0SO4, 120 g/1 soli sodowej 5 kwasu glukonowego, 1,0 g/l tymolu i 30 g/l winia¬ nu sodowego i podgrzano do temperatury 30°C, utrzymujac pH 4,2. Prowadzac proces pokrywania elementów przy gestosci pradu 1,0 A/dm2 otrzyma¬ no po uplywie 30 minut szczelna blyszczaca powlo- 10 ke stopowa o grubosci 4 mikrometrów. Ustalony analitycznie sklad powloki wykazal zawartosc 25% wagowych wolframu, reszta kobalt.Przyklad II. Przygotowano kapiel o skladzie 10 g/l Na2W04, 20 g/l C0SO4, 100 g/1 glukonianu 15 sodowego i 50 g/l soli kwasu etylenodwuaminoczte- rooctowego, 1,0 g/l fenolu i 35 g/l mleczanu sodo¬ wego oraz podgrzano do temperatury 35°C, utrzy¬ mujac pH 4,5. Prowadzac proces osadzania powloki przy gestosci 1,5 A/dm2 otrzymano po uplywie 30 20 4 minut szczelna, blyszczaca powloke stopowa o gru¬ bosci 6 imikroimetrów. Ustalony analitycznie sklad powloki wykazal zawartosc 14% wagowych wolframu. PL PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do galwanicznego osadzania blyszczacych powlok ze stopu wolframowo-kobaltowego, zawie¬ rajaca wolframian sodu i uwodniony siarczan ko¬ baltu, znamienna tym, ze sklada sie z 5—200 g/l jonu wolframu dodawanego w postaci wolframianu sodu, 10—150 g/l jonu kobaltu dodawanego w po¬ staci uwodnionego siarczanu kobaltowego, 100— 200 g/l substancji chelatujacych w postaci lakto- nów hydroksykwasów organicznych, zawierajacych co najmniej 3 grupy wodorotlenowe i/lub w posta¬ ci aminokwasów organicznych, zawierajacych co najmniej 2 grupy aminowe, 0,5—1,0 g/l substancji stabilizujacej w postaci fenoli lub ich pochodnych, 30—60 g/l zwiazku buforujacego w postaci winia¬ nów lub mleczanów dowolnego metalu. Lubelskie Zaklady Graficzne. Zam. 2354. 12.IX,70. 280 PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL61826B1 true PL61826B1 (pl) | 1970-10-25 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0907767B1 (de) | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen | |
| US6183545B1 (en) | Aqueous solutions for obtaining metals by reductive deposition | |
| EP0666342B1 (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Zinn-Legierungen | |
| JP3718790B2 (ja) | 銀及び銀合金メッキ浴 | |
| US4192723A (en) | Aqueous solution of monovalent gold and ammonium sulfite complex, process for the preparation thereof and electrolytic bath obtained therefrom for the plating of gold or gold alloys | |
| JP7695086B2 (ja) | 白金電解めっき浴および白金めっき製品 | |
| KR20200096239A (ko) | 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 크롬 도금 방법 | |
| EP3940119B1 (en) | Microporous plating solution and method of using this plating solution to perform microporous plating on object to be plated | |
| EP3819404A1 (en) | Trivalent chromium plating solution and chromium plating method using same | |
| JP3632499B2 (ja) | 錫−銀系合金電気めっき浴 | |
| PL61826B1 (pl) | ||
| JPS609116B2 (ja) | パラジウム及びパラジウム合金の電着方法 | |
| GB1320373A (en) | Copper electroplating in a citric acid bath | |
| JP6960677B2 (ja) | 無電解Ni−Fe合金めっき液 | |
| DE3347384A1 (de) | Palladiumbad | |
| FR2400571A1 (fr) | Procede et composition d'electrodeposition acide de zinc | |
| FR2411901A1 (fr) | Nouveau procede d'electrodeposition de zinc et composition pour sa mise en oeuvre | |
| US4436595A (en) | Electroplating bath and method | |
| NL8202237A (nl) | Bad en werkwijze voor elektrolytisch afzetten van ruthenium. | |
| US2726175A (en) | Iron ion control in lead coating bath | |
| JPH05271981A (ja) | 白金合金めっき浴及びそれを用いた白金合金めっき品の製造方法 | |
| JP2006144073A (ja) | 鉛フリーのスズ−銀系合金又はスズ−銅系合金電気メッキ浴 | |
| KR800001242B1 (ko) | 크롬 전기도금액 조성물 | |
| JPH0394092A (ja) | 電気めっき製品の製造法 | |
| US4028116A (en) | Solution for electroless chrome alloy plating |