PL111776B1 - Process for manufacturing optical quality films,sheets or plates from transparent plastics - Google Patents

Process for manufacturing optical quality films,sheets or plates from transparent plastics Download PDF

Info

Publication number
PL111776B1
PL111776B1 PL1978205159A PL20515978A PL111776B1 PL 111776 B1 PL111776 B1 PL 111776B1 PL 1978205159 A PL1978205159 A PL 1978205159A PL 20515978 A PL20515978 A PL 20515978A PL 111776 B1 PL111776 B1 PL 111776B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
separating agent
polyglycol ether
ethoxy groups
per molecule
separating
Prior art date
Application number
PL1978205159A
Other languages
English (en)
Other versions
PL205159A1 (pl
Inventor
Wolfgang Schaefer
Helmer Raedisch
Reinhold Fuchs
Gunther Esser
Original Assignee
Saint Gobain
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saint Gobain filed Critical Saint Gobain
Publication of PL205159A1 publication Critical patent/PL205159A1/pl
Publication of PL111776B1 publication Critical patent/PL111776B1/pl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/56Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
    • B29C33/60Releasing, lubricating or separating agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2201/00Inorganic compounds or elements as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2201/02Water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2209/00Organic macromolecular compounds containing oxygen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2209/10Macromolecular compoundss obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C10M2209/103Polyethers, i.e. containing di- or higher polyoxyalkylene groups
    • C10M2209/104Polyethers, i.e. containing di- or higher polyoxyalkylene groups of alkylene oxides containing two carbon atoms only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2219/00Organic non-macromolecular compounds containing sulfur, selenium or tellurium as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2219/04Organic non-macromolecular compounds containing sulfur, selenium or tellurium as ingredients in lubricant compositions containing sulfur-to-oxygen bonds, i.e. sulfones, sulfoxides
    • C10M2219/044Sulfonic acids, Derivatives thereof, e.g. neutral salts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/04Phosphate esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/04Phosphate esters
    • C10M2223/042Metal salts thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/14Layer or component removable to expose adhesive
    • Y10T428/1462Polymer derived from material having at least one acrylic or alkacrylic group or the nitrile or amide derivative thereof [e.g., acrylamide, acrylate ester, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/27Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified weight per unit area [e.g., gms/sq cm, lbs/sq ft, etc.]
    • Y10T428/273Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified weight per unit area [e.g., gms/sq cm, lbs/sq ft, etc.] of coating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2839Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer with release or antistick coating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31511Of epoxy ether
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31598Next to silicon-containing [silicone, cement, etc.] layer
    • Y10T428/31601Quartz or glass
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609Particulate metal or metal compound-containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652Of asbestos
    • Y10T428/31663As siloxane, silicone or silane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935Ester, halide or nitrile of addition polymer

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia blon, arkuszy lub plytek o jakosci optycznej z przezroczystych tworzyw sztucznych, w którym na równy i gladki podklad, np. ze szkla krzemiano¬ wego, tworzywa sztucznego lub polerowanego me- 5 talu, po uprzednim powleczeniu srodkiem separu¬ jacym, lub srodkiem ulatwiajacym rozformowanie, wylewa sie roztwór, substancje w postaci stopio¬ nej lub mieszanine reakcyjna, które zestalaja sie na podkladzie, po czym podklad odlacza sie. 10 Znany jest sposób, gdzie jako podklad zastosowa¬ no szklana tasme bez konca. W tym znanym spo¬ sobie jako srodka separujacego uzywano stearynia¬ nów, silikonów, fluorowanych weglowodorów, pa¬ rafiny lub wosków. Zamiast szklanej tasmy bez 15 konca mozna równiez bylo stosowac jako podklad tasme z polerowanego metalu lub plytki ze szkla lub tworzywa sztucznego o skonczonych wymia- rich albo liniowy ciag plytek.W opisie patentowym RFN nr 1 037 114 opisano 20 zastosowanie estru fosforowego jako srodka do wyjmowania wyrobu z formy przy wytwarzaniu formowanych wyrobów kauczukowych przez odle¬ wanie. Nie opisano tam jednakze zastosowania tego estru jako srodka pomocniczego do oddzielania 25 arkusza tworzywa sztucznego o wysokiej jakosci optycznej od podloza szklanego, a ponadto na pod¬ stawie tego opisu nie mozna bylo przypuszczac, ze ester fosforanowy moze tyc uzyty do wytwa¬ rzania arkuszy tworzywa sztucznego o jakosci 30 optycznej. W opisie patentowym RFN DOS nr 2459306 opisano roztwory wodne wysoko spolime- ryzowanych metakrylanów. Roztwory te zawieraja ponadto fosforany, które graja role inhibitorów korozji. W brytyjskim opisie patentowym nr 1449774 opisano sposób, w którym stosuje sie dwa srodki separujace, pierwszy z nich stanowi polimer chlorowcoorganiczny, zwlaszcza fluoroorganiczny a drugi utworzony jest z wosku, polietylenu lub po¬ lipropylenu. Opis ten nie ujawniono zastosowania pojedynczego produktu jako srodka separujacego.W opisie patentowym Stanów Zjed. Am. nr 3823020 opisano zwiazek majacy niezmodyfikowana grupe ketoetylenowa, który stosuje sie jako sro¬ dek emulgujacy przy sporzadzaniu wodnej emul¬ sji atramentu. W opisie patentowym Stanów Zjed.Am. nr 3835080 opisano dyspresje wodna polioksy- metylenów. W opisie tym nie opisano modyfiko¬ wanego etylenu ani srodka separujacego. W pracy N. Schónfeld'a „Grenzflachenaktive athylenoxid addukte" opisano wykorzystanie zwiazków mody¬ fikowanego tlenku jako srodka emulgujacego oraz detergentu. W pracy tej nie podano mozliwosci zastosowania zwiazku modyfikowanego tlenku ety¬ lenu jako srodka separujacego.Te znane srodki separujace nalezalo nakladac na podklad w oddzielnej operacji po przejsciu przez maszyne do mycia.W sposobie wedlug wynalazku, srodki separujace sa rozpuszczalne w wodzie i mozna je nanosic na 1117763 111 776 4 podklad przez rozpylanie, zanurzanie lub w kazdy inny sposób, np. w ostatnim stadium za maszyna do mycia.Srodki separujace musza ponadto w zadawalajacy i regularny sposób zwilzac powierzchnie podkladu 5 a po wyschnieciu tworzyc cienki regularny film, który z kolei musi byc zadawalajaco zwilzany przez przezroczyste tworzywo, które bedzie wylane na podklad.Ponadto srodek separujacy nie moze powodowac io wad powierzchniowych w warstwie przezroczystego tworzywa sztucznego ani miec ujemnego wplywu na pózniejsze stosowanie przezroczystych arkuszy.Wreszcie srodek separujacy powinien spelniac swa zasadnicza role, to jest ulatwiac oddzielenie przezro- 15 czystego arkusza od podkladu, na którym zostal zestalony gdyz inaczej arkusz zostalby rozciagniety lub uszkodzony na skutek uzycia zbyt duzych sil przy oddzielaniu.W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Am. 20 nr 3 803 068 opisano uzycie jako srodka separuja¬ cego, zwlaszcza w przemysle papierniczym, kopoli¬ meru estru winylowego i bezwodnika maleinowego z dodatkiem srodka powierzchniowo czynnego lub zwilzajacego o ogólnym wzorze: R—O—/CH2CH2- 25 -O/n—X, w którym R oznacza grupe alkilowa, izo- alkilowa alkilofenylowa lub izoalkilofenylowa, n oznacza liczbe zawarta miedzy O a 5, a X oznacza sulfoester lub fosforoester w postaci wolnego kwa¬ su, soli amonowej lub soli metalu alkalicznego. 30 W sposobie wedlug wynalazku jako srodek se¬ parujacy stosuje sie sam modyfikowany produkt addycji tlenku etylenu , odpowiadajacy wzorowi Ri—H/C2H40/n—R2, w którym Ri oznacza reszte alkilowa zawierajaca 8—12 atomów wegla, lub 35 reszte alkiloarylowa zawierajaca 6—12 atomów wegla w lancuchu bocznym; R2 oznacza jedna z nastepujacych grup: SO3M, PO3M2, CO—CH- -/SO3M/—CH2COOM, CO—CeH4—COOM, w którym M oznacza metal alkaliczny; X oznacza jedna z na- 40 stepujacych grup: O, NH, CO—O, lub CO—NH; a n oznacza liczbe calkowita zawarta miedzy 1 a 100.Powyzsze modyfikowane produkty addycji tlenku etylenu sa produktami przylaczenia tlenku etylenu 45 do kwasów tluszczowych, amidów kwasów tlusz¬ czowych, alkanoloamidów kwasów tluszczowych, amin tluszczowych czyli alkoholi tluszczowych; wyzej wymienione produkty estryfikuje sie i ne¬ utralizuje w odpowiedni sposób takimi kwasami 50 jak: kwas siarkowy, kwas fosforowy lub kwasami dwukarboksylowymi jak kwas ftalowy lub wresz¬ cie kwasem maleinowym, który pózniej przeksztal¬ ca sie w kwas sulfobursztynowy.Fakt, ze modyfikowane pochodne tlenku etylenu 55 tak dobrze nadaja sie jako srodki separujace jest faktem nieoczekiwanym, gdyz powszechnie wiado¬ mo, ze podobne zwiazki moga byc stosowane w przeciwnym celu, a mianowicie dla ulatwienia przyczepnosci wlókien szklanych do tworzyw 60 sztucznych w wyrobach z tworzyw sztucznych wzmacnianych wlókienkaimi szklanymi (patrz np. opis patentowy RFN DAS nr 1 158 219).W korzystnym przykladzie wykonania wynalazku srodek seperujacy jest nanoszony na powierzchnie szklana w ilosci 100 mg — 2,5 g na m2. Korzystnie stosuje sie go w postaci 0,1—1% roztworu wodne¬ go.Niektóre pochodne szczególnie korzystne jako srodki separujace opisano w przykladach niniej¬ szego zgloszenia.Opisane powyzej srodki separujace sa ogólnie odpowiednie przy wytwarzaniu arkuszy, blon lub plytek z najrozmaitszych tworzyw sztucznych.Szczególnie sa one odpowiednie jako srodki se¬ parujace przy wytwarzaniu blon i arkuszy z przez¬ roczystego poliuretanu na podkladach ze szkla krzemianowego. Okazalo sie, ze dzieki srodkom separujacym stosowanym w sposobie wedlug wy¬ nalazku wlasciwosci blony z przezroczystego two¬ rzywa sztucznego od strony stykajacej sie z powle¬ czonym podkladem sa korzystniejsze, to znaczy, ze powierzchnia ta zostala w pewnej mierze uszla¬ chetniona. Na przyklad zmniejszyl sie wspólczynnik tarcia i/lub zmniejszylo sie powstawanie niepoza¬ danych ladunków elektrostatycznych albo zostalo ono wyeliminowane, co zmniejsza osadzanie sie pylów.Wynalazek zilustrowano w przykladach zamiesz¬ czonych ponizej.Przyklad I. Na tafle szklana o powierzchni optycznej bez wad, ogrzana do temperatury okolo 80°C naniesiono w ilosci 10 cm3 na m2 wodny roz¬ twór zawierajacy 0,5% sulfobursztynianu dwuso- dowego eteru dodecylopoliglikolowego, srednio o 3—4 grupach etoksy w czasteczce o nastepujacym wzorze /C12H25—O—/C2H40/3-^—CO—CH/S03Na/— —CH2—COONa/.Nakladanie moglo byc przeprowadzone w sposób regularny przez natrysk pistoletem. Nalozona war¬ stwa wysychala po okolo 30 sekundach. Na tak przygotowana tafle szklana wylewano za pomoca odpowiedniego urzadzenia, warstwe cieklej mie¬ szaniny reakcyjnej zywicy poliuretanowej utwo¬ rzonej z nastepujacych skladników: 1000 g poliete- ru, otrzymanego przez kondensacje tlenku propy¬ lenu z triol'em, o ciezarze czasteczkowym okolo 450 i zawartosci 10,5—12% wolnych grup OH, 1000 g biuretu 1,6-szesciometylenodwuizocyjanianu o zawartosci 21—22% wolnych grup NCO, 0,5 g dwulaurynianu dwubutylocyny.Warstewke poliuretanu w ten sposób naniesiona podgrzewano z podkladem do temperatury okolo 80°C i utrzymywano w tej temperaturze przez okolo 6 minut co powodowalo zestalenie sie zywicy na skutek polimeryzacji bez zmian ksztaltu geome¬ trycznego w stosunku do stanu cieklego. Nastepnie podklad i blone z tworzywa sztucznego, która go pokrywala doprowadzono do temperatury otocze¬ nia. Po schlodzeniu blona dawala sie latwo od¬ dzielic od podkladu.Sila niezbedna do oddzielenia wynosila 0,3—0,6 kg na cm szerokosci tafli liczona dla rozciagania pod katem prostym. Gdyby oddzielac taki arkusz z tworzywa sztucznego bez wprowadzenia na pod¬ klad szklany srodka separujacego, to sila niezbedna do odklejenia wynosilaby 2—5 kg na cm szerokosci tafli co powodowaloby uszkodzenie arkusza.Przyklad II. Postepowano jak w przykladzie111 776 5 6 I, ale jako srodek separujacy zastosowano 0,5% wodny roztwór sulfobursztynianu dwusodowego eteru nonylofenylopoliglikolowego, zawierajacego okolo 50 grup etoksy w czasteczce, o nastepujacym wzorze /C9H19—C6H4—O-VC2H4O/50—CO—CH/SO3- 5 -Na/—CH2—COONa/.Roztwór ten naniesiono przez natrysk pistoletem w ilosci 10 cm8/m2. Na tafle szklana mozna bylo naniesc srodek zanurzajac ja w 0,5% roztworze, wyciagajac pionowo i pozostawiajac do wyschnie- le cia.Przyklad III. Postepowano jak w przykla¬ dzie I, ale jako srodek separujacy zastosowano 0,5% wodny roztwór fosforanu dwusodowego eteru 15 decylopoliglikolowego, zawierajacego okolo 20 grup w czasteczce, o nastepujacym wzorze /C10H21—O— —/C2H40/2o—P03Na2/.Przyklad IW Postepowano - jak w przykla¬ dzie I, ale jako srodek separujacy zastosowano 20 0,5% wodny roztwór siarczanu sodu eteru dode¬ cylopoliglikolowego zawierajacego srednio 3—4 grupy etoksy w czasteczce o nastepujacym wzorze C12H25—O—/C2H4O/3-4—S03Na. 25 Przyklad V. Postepowano jak w przykladzie I, ale jako srodek separujacy zastosowano 0,5% wodny roztwór ftalanu sodu eteru oktadecylopoli- glikolowego o okolo 25 grupach etoksy w czasteczce, 0 wzorze Ci8H37—O—/C2H4O/25—CO—C6H4—COONa. 20 W przykladach II—V tak jak w przykladzie I, sily uzyte do odklejenia arkusza przy rozciaganiu pionowym wynosily 0,3—0,6 kg na cm szerokosci tafli. Po oddzieleniu od podkladu arkusz mial po¬ wierzchnie optyczna bezwad. 35 Przyklad VI. Tafle szklana sluzaca jako podklad przygotowano jak opisano w przykladzie 1 i pokryto srodkiem separujacym opisanym w tym przykladzie. Na tafle nalozono warstwe zywicy poli- 40 estrowej UP 630 firmy Farbwerke Hoechst, do której dodano 2% wagowe dwubutylonadtlenku BUTA- NOX firmy Akzo, i 2% przyspieszacza na bazie wanadu VN2 firmy Oxydo. Po polimeryzacji zywicy utworzona blone z tworzywa sztucznego dawalo 45 sie latwo oddzielic od podkladu.Przyklad VII. Na tafle szklana pokryta srodkiem separujacym opisanym w przykladzie I naniesiono jednoskladnikowa zywice silikonowa 50 Silicon 1200 firmy General Electric. Po utwardze¬ niu powstala blona silikonowa latwo dawala sie oddzielic od podkladu.Przyklad VIII. Jako podklad stosowano 55 plaska plytke o równoleglych powierzchniach z polimetakrylanu metylu „Plexiglas firmy Rohm und Hass). Na ten podklad naniesiono srodek sepa¬ rujacy opisany w przykladzie III. Na tak przygoto¬ wany podklad wylano warstewke zywicy epoksy- 60 dowej dwuskladnikowej zlpzonej ze 100 czesci Lekutherm X 50 firmy Bayer i 18 czesci utwar¬ dzacza T 3 firmy Rayr. Pozostawiono : warstewke do utwardzenia. Nastepnie dawala sie ona lekko oddzielic w postaci blony od podkladu.Przyklad IX. Jako podklad stosowano po¬ lerowana plytke ze stali chromoniklowej 18—8, na która nakladano srodek separujacy opisany w przy¬ kladzie I lub w przykladzie III.Na tak przygotowany podklad wylewano zywice poliuretanowa opisana w przykladzie I. Gdy war¬ stewka utwardzila sie przez polimeryzacje mozna bylo latwo oddzielic blone od podkladu.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania blon, arkuszy lub plytek o jakosci optycznej, z przezroczystych tworzyw sztucznych, w którym na równy i gladki podklad taki jak ze szkla krzemianowego, tworzywa sztucz¬ nego lub polerowanego metalu po uprzednim powle¬ czeniu srodkiem separujacym, wylewa sie roztwór, substancje w stanie stopionym lub ciekla mie¬ szanine reakcyjna; które zestalaja sie na podkladzie, po czym podklad odlacza sie znamienny tym, ze jako srodek separujacy stosuje sie modyfikowane produkty addycji tlenku etylenu o ogólnym wzorze: Ri—X—/C2H40/n—R2, w którym Ri oznacza reszte alkilowa zawierajaca 8—18 atomów wegla lub reszte alkiloarylowa zawierajaca 6—12 atomów wegla w lancuchu bocznym; R2 oznacza jedna z nastepujacych grup: SO3M, PO3M2, CO—CH/SO3M/- —CH2COOM, CO—C6H4—COOM, w którym M ozna¬ cza metal alkaliczny; X oznacza jedna z nastepuja¬ cych grup: O, NH, CO—O lub CO—NH; a n ozna¬ cza liczbe calkowita zawarta miedzy 1 a 100. * 2. Sposób wedlug zastrz, 1, znamienny tym, ze srodek separujacy nanosi sie w postaci wodnego roztworu w ilosci 100 mg — 2,5 g srodka separu¬ jacego na m2 podkladu. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ze srodek separujacy nanosi sie w postaci wodnego roztworu o stezeniu 0,1-^1%. 4. Sposób wedlug zastrz. l, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie sulfobursztynian dwusodowego eteru dodecylopoliglikolowego zawie¬ rajacego przecietnie 3—4 grupy etoksylowe w cza¬ steczce. 5. Sposób wedlug zastrz." 1, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie sulfobursztynian dwusodowego eteru nonylofenylopoliglikolowego zawierajacego okolo 50 grup etoksylowe w cza¬ steczce. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie fosforan dwu- sodowy eteru decylopoliglikolowego zawierajacego okolo 20 grup etoksylowe w czasteczce. 7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze ze jako srodek separujacy uzywa sie siarczan so¬ dowy eteru dodecylopoliglikolowego zawierajacego przecietnie 3—4 grapy etoksylowe w czasteczce. 8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie ftalan sodowy111 776 7 C eteru oktadecylopoliglikolowego zawierajacego oko- nego przez kondensacje tlenku propylenu z trio- lo 25 grup etoksylowe w czasteczce. lem, o ciezarze czasteczkowym okolo 450 i zawar¬ tosci 10,5—12% wolnych grup OH, 1000 g biuretu 9. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 1,6-szesciometylenodwuizocyjanianu o zawartosci na podklad ze szkla krzemianowego powleczony 5 21—22% wolnych grup NCO, 0,5 g dwulaurynianu srodkiem separujacym wylewa sie mieszanine dwubutylocyny, z której formuje sie blone poliure- reakcyjna utworzona ze 1000 g polieteru otrzyma- tanowa.Opolskie Zaklady Graficzne im. J. Langowskiego w Opolu, zam. 1034-1400-81,110 egz.Cena 45 zl PL PL PL

Claims (9)

1.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania blon, arkuszy lub plytek o jakosci optycznej, z przezroczystych tworzyw sztucznych, w którym na równy i gladki podklad taki jak ze szkla krzemianowego, tworzywa sztucz¬ nego lub polerowanego metalu po uprzednim powle¬ czeniu srodkiem separujacym, wylewa sie roztwór, substancje w stanie stopionym lub ciekla mie¬ szanine reakcyjna; które zestalaja sie na podkladzie, po czym podklad odlacza sie znamienny tym, ze jako srodek separujacy stosuje sie modyfikowane produkty addycji tlenku etylenu o ogólnym wzorze: Ri—X—/C2H40/n—R2, w którym Ri oznacza reszte alkilowa zawierajaca 8—18 atomów wegla lub reszte alkiloarylowa zawierajaca 6—12 atomów wegla w lancuchu bocznym; R2 oznacza jedna z nastepujacych grup: SO3M, PO3M2, CO—CH/SO3M/- —CH2COOM, CO—C6H4—COOM, w którym M ozna¬ cza metal alkaliczny; X oznacza jedna z nastepuja¬ cych grup: O, NH, CO—O lub CO—NH; a n ozna¬ cza liczbe calkowita zawarta miedzy 1 a 100. 2. *
2. Sposób wedlug zastrz, 1, znamienny tym, ze srodek separujacy nanosi sie w postaci wodnego roztworu w ilosci 100 mg — 2,5 g srodka separu¬ jacego na m2 podkladu.
3. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ze srodek separujacy nanosi sie w postaci wodnego roztworu o stezeniu 0,1-^1%.
4. Sposób wedlug zastrz. l, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie sulfobursztynian dwusodowego eteru dodecylopoliglikolowego zawie¬ rajacego przecietnie 3—4 grupy etoksylowe w cza¬ steczce.
5. Sposób wedlug zastrz." 1, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie sulfobursztynian dwusodowego eteru nonylofenylopoliglikolowego zawierajacego okolo 50 grup etoksylowe w cza¬ steczce.
6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie fosforan dwu- sodowy eteru decylopoliglikolowego zawierajacego okolo 20 grup etoksylowe w czasteczce.
7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze ze jako srodek separujacy uzywa sie siarczan so¬ dowy eteru dodecylopoliglikolowego zawierajacego przecietnie 3—4 grapy etoksylowe w czasteczce.
8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako srodek separujacy uzywa sie ftalan sodowy111 776 7 C eteru oktadecylopoliglikolowego zawierajacego oko- nego przez kondensacje tlenku propylenu z trio- lo 25 grup etoksylowe w czasteczce. lem, o ciezarze czasteczkowym okolo 450 i zawar¬ tosci 10,5—12% wolnych grup OH, 1000 g biuretu
9. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 1,6-szesciometylenodwuizocyjanianu o zawartosci na podklad ze szkla krzemianowego powleczony 5 21—22% wolnych grup NCO, 0,5 g dwulaurynianu srodkiem separujacym wylewa sie mieszanine dwubutylocyny, z której formuje sie blone poliure- reakcyjna utworzona ze 1000 g polieteru otrzyma- tanowa. Opolskie Zaklady Graficzne im. J. Langowskiego w Opolu, zam. 1034-1400-81,110 egz. Cena 45 zl PL PL PL
PL1978205159A 1977-03-08 1978-03-08 Process for manufacturing optical quality films,sheets or plates from transparent plastics PL111776B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7706758A FR2383000A1 (fr) 1977-03-08 1977-03-08 Procede pour la preparation de films, feuilles ou plaques de hautes qualites optiques en matiere plastique transparente

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL205159A1 PL205159A1 (pl) 1978-11-20
PL111776B1 true PL111776B1 (en) 1980-09-30

Family

ID=9187732

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1978205159A PL111776B1 (en) 1977-03-08 1978-03-08 Process for manufacturing optical quality films,sheets or plates from transparent plastics

Country Status (31)

Country Link
US (1) US4331736A (pl)
JP (1) JPS53110668A (pl)
AR (1) AR217278A1 (pl)
AT (1) AT371490B (pl)
AU (1) AU519325B2 (pl)
BE (1) BE864651A (pl)
BR (1) BR7801393A (pl)
CA (1) CA1126461A (pl)
CH (1) CH628836A5 (pl)
CS (1) CS203187B2 (pl)
DD (1) DD136237A5 (pl)
DE (1) DE2809440C3 (pl)
DK (1) DK150620C (pl)
ES (1) ES467619A1 (pl)
FI (1) FI68068C (pl)
FR (1) FR2383000A1 (pl)
GB (1) GB1590512A (pl)
HU (1) HU177740B (pl)
IE (1) IE46669B1 (pl)
IL (1) IL54212A (pl)
IN (1) IN147127B (pl)
IT (1) IT1093161B (pl)
LU (1) LU79178A1 (pl)
MX (1) MX147402A (pl)
NL (1) NL7802470A (pl)
NO (1) NO151662C (pl)
PL (1) PL111776B1 (pl)
PT (1) PT67744A (pl)
SE (2) SE432379B (pl)
YU (1) YU39099B (pl)
ZA (1) ZA781339B (pl)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3587413D1 (de) * 1984-03-16 1993-07-29 Air Products And Chemicals Pur Formtrennmittel und mit diesem durchfuehrbares verfahren zur herstellung von gegenstaenden aus polyurethanschaum.
US4900388A (en) * 1984-10-19 1990-02-13 Biflex Development Partners, Ltd. Method for laminating polymeric sheet material
US4690844A (en) * 1984-10-26 1987-09-01 Saudagar Abdul S Method for parting rubber and products formed thereby, and a method of making a blood vessel
US4670313A (en) * 1984-10-26 1987-06-02 Polymed Laboratories Method for parting rubber and products formed thereby, and a method of making a blood vessel
FR2600588B1 (fr) * 1986-06-24 1988-09-09 Saint Gobain Vitrage Procede et dispositif pour la fabrication d'une feuille de polyurethane de haute qualite optique
DE3629149C1 (de) * 1986-08-27 1987-11-19 Goldschmidt Ag Th Modifiziertes Polyethylen,Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung des modifizierten Polyethylens zur Verguetung der aeusseren Oberflaechen von Glasbehaeltern
US4936917A (en) * 1988-01-12 1990-06-26 Air Products And Chemicals, Inc. Water based mold release compositions containing poly(siloxane-glycol) surfactants for making polyurethane foam article in a mold
US5028366A (en) * 1988-01-12 1991-07-02 Air Products And Chemicals, Inc. Water based mold release compositions for making molded polyurethane foam
US5505808A (en) * 1989-02-02 1996-04-09 Armstrong World Industries, Inc. Method to produce an inorganic wear layer
DE69010640T2 (de) * 1989-11-23 1995-02-09 Saint Gobain Vitrage Anwendung von nichthaftenden Verbundfolien aus Polyester als Grundlage für die Herstellung wenigstens einer in Sicherheitsgläsern verwendbaren Schicht aus Polyurethan.
US5106384A (en) * 1990-05-08 1992-04-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Zone adhesive/release coated tape and process
JP2972824B2 (ja) * 1990-11-16 1999-11-08 株式会社ネオス 水性離型剤
DE69319347T2 (de) * 1992-09-18 1998-12-17 Adchem Corp Verfahren zum verkleben von oberflächen
US5405475A (en) * 1993-05-28 1995-04-11 Ward/Kraft Method and apparatus for continuous manufacture of printed laminated stock from uncoated web
JP3231151B2 (ja) * 1993-07-23 2001-11-19 サン−ゴバン ビトラージュ 複層フィルムの製造方法
US5478880A (en) * 1994-02-01 1995-12-26 Moore Business Forms, Inc. Printable release
US6372160B1 (en) 1998-08-06 2002-04-16 Genesee Polymers Corporation Process for using aqueous release compound
US7635262B2 (en) * 2000-07-18 2009-12-22 Princeton University Lithographic apparatus for fluid pressure imprint lithography
US20030066955A1 (en) * 2001-10-09 2003-04-10 Schaub Michael P. Integrated field flattener for sensors
US7030066B1 (en) 2001-11-12 2006-04-18 Charles Piskoti Wetting composition for high temperature metal surfaces, and method of making the same

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1037114B (de) * 1954-05-25 1958-08-21 Dehydag Gmbh Formeneinstreichmittel fuer die Herstellung heissgeformter Artikel aus hochpolymeren Stoffen
US2923646A (en) * 1957-12-12 1960-02-02 Rohm & Haas Release-coatings, film- and sheetcasting bases for substrates
US3413390A (en) * 1963-08-19 1968-11-26 Mobay Chemical Corp Process of molding polyurethane plastics
US3640954A (en) * 1967-07-31 1972-02-08 Stauffer Chemical Co Treatment of polyvinyl halides
US3855052A (en) * 1971-07-27 1974-12-17 Gaf Corp Adhesive tape coated with a controlled release coating composition
US3803068A (en) * 1971-12-17 1974-04-09 Gaf Corp Release coating compositions
DE2306940A1 (de) 1973-02-13 1974-08-22 Huels Chemische Werke Ag Antielektrostatische formmassen und formkoerper aus polymeren
JPS5038653B2 (pl) * 1973-03-09 1975-12-11
US3882071A (en) * 1973-06-04 1975-05-06 Dow Chemical Co Rapid setting non-elastomeric polyurethane compositions prepared in the presence of an organic phosphate, phosphite or phosphonate
US3882072A (en) * 1973-06-04 1975-05-06 Dow Chemical Co Rapid setting non-elastomeric polyurethane compositions prepared in the presence of non-hydroxyl containing polyoxyalkylene compounds
FR2251608B1 (pl) * 1973-11-16 1977-09-23 Saint Gobain
JPS5110856A (ja) * 1974-07-16 1976-01-28 Nippon Synthetic Chem Ind Horibiniruarukoorukeiseikeibutsuno seizohoho

Also Published As

Publication number Publication date
BE864651A (fr) 1978-09-07
IN147127B (pl) 1979-11-24
CS203187B2 (en) 1981-02-27
IT7820866A0 (it) 1978-03-03
DK101478A (da) 1978-09-09
NO780780L (no) 1978-09-11
US4331736A (en) 1982-05-25
DE2809440A1 (de) 1978-09-14
ATA161578A (de) 1982-11-15
DD136237A5 (de) 1979-06-27
ZA781339B (en) 1979-02-28
PT67744A (fr) 1978-04-01
AU3383678A (en) 1979-09-06
DE2809440B2 (de) 1980-01-10
JPS53110668A (en) 1978-09-27
DE2809440C3 (de) 1980-09-11
IE46669B1 (en) 1983-08-24
HU177740B (en) 1981-12-28
YU48178A (en) 1982-06-30
NO151662B (no) 1985-02-04
CA1126461A (en) 1982-06-29
IT1093161B (it) 1985-07-19
IE780466L (en) 1978-09-08
IL54212A (en) 1980-11-30
YU39099B (en) 1984-04-30
AR217278A1 (es) 1980-03-14
NO151662C (no) 1985-05-15
JPS6316244B2 (pl) 1988-04-08
FI68068B (fi) 1985-03-29
FI780728A (fi) 1978-09-09
FR2383000B1 (pl) 1979-09-07
LU79178A1 (fr) 1978-11-27
AU519325B2 (en) 1981-11-26
IL54212A0 (en) 1978-06-15
MX147402A (es) 1982-11-30
AT371490B (de) 1983-06-27
FI68068C (fi) 1985-07-10
DK150620C (da) 1987-11-23
GB1590512A (en) 1981-06-03
NL7802470A (nl) 1978-09-12
PL205159A1 (pl) 1978-11-20
BR7801393A (pt) 1978-09-26
SE432379B (sv) 1984-04-02
DK150620B (da) 1987-04-21
ES467619A1 (es) 1978-10-16
CH628836A5 (fr) 1982-03-31
FR2383000A1 (fr) 1978-10-06
SE7802519L (sv) 1978-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL111776B1 (en) Process for manufacturing optical quality films,sheets or plates from transparent plastics
US4585829A (en) Internal mold release for reaction injection molded polyurethanes
US5945462A (en) Temporary protective coatings for precision surfaces
JPH0210193B2 (pl)
US4309453A (en) Process and compounds for surface modification of macromolecular substances
US4200671A (en) Method for removing paint from a substrate
US4592930A (en) Perfluorocarbon based polymeric coatings having low critical surface tensions
US5035849A (en) Process for producing molded article using a releasing agent
US4110119A (en) Release agents
JPH0126601B2 (pl)
US4764564A (en) Perfluorocarbon based polymeric coatings having low critical surface tensions
US3893868A (en) Separation agent for molded polyurethane foams
KR910002826B1 (ko) 웨이퍼 접착용 시이트
JP2021507957A (ja) 接着剤組成物及び3d印刷におけるその使用
US4554325A (en) Perfluorocarbon based polymeric coatings having low critical surface tensions
US4588643A (en) Perfluorocarbon polymeric coatings having low critical surface tensions
US4606973A (en) Substrate with perfluorocarbon polymeric coatings having low critical surface tensions
US4469836A (en) Perfluorocarbon based polymeric coatings having low critical surface tensions
US3382128A (en) Heat sealable polystyrene pellicles
JPH01249343A (ja) 表面被覆されたポリビニルアルコール系フイルム及びその製造方法
JPH0474362B2 (pl)
JPH064683B2 (ja) 改質ポリエチレン、その製造方法およびその使用方法
JP6817147B2 (ja) 親水性保持剤
JPS6324040B2 (pl)
JPH0319870B2 (pl)