NO155402B - Fremgangsmaate for ved elektrolyse aa avsette lag av nikkellegeringer paa et substrat. - Google Patents
Fremgangsmaate for ved elektrolyse aa avsette lag av nikkellegeringer paa et substrat. Download PDFInfo
- Publication number
- NO155402B NO155402B NO812053A NO812053A NO155402B NO 155402 B NO155402 B NO 155402B NO 812053 A NO812053 A NO 812053A NO 812053 A NO812053 A NO 812053A NO 155402 B NO155402 B NO 155402B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- mol
- concentration
- nickel
- substrate
- electrolytically
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 8
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 6
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 claims description 4
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 claims description 4
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 2
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229940071103 sulfosalicylate Drugs 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- MOODSJOROWROTO-UHFFFAOYSA-N salicylsulfuric acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1OS(O)(=O)=O MOODSJOROWROTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- XHHIVYOGJCWWCG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dipropylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(CCC)C(CCC)=CC2=C1 XHHIVYOGJCWWCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021585 Nickel(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- LPARUNFRVILVRU-UHFFFAOYSA-L iron(2+);2-sulfooxybenzoate Chemical compound [Fe+2].OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O LPARUNFRVILVRU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide Chemical compound [Ni+2].[Br-].[Br-] IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 235000015393 sodium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011684 sodium molybdate Substances 0.000 description 1
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N sodium molybdate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Oppfinnelsen angår en fremgangsmåte for ved elektrolyse å avsette lag av nikkellegeringer med legerende elementer i form av molybden, wolfram, fosfor eller jern på et substrat under oppnåelse av elektrolytisk avsatte tynne til tykke lag med forbedrede egenskaper.
Hittil har det ikke lykkes å avsette lag av nikkellegeringer med legerende elementer, f.eks. med molybden og wolfram. Legeringslag av nikkel med andre elementer blir avsatt fra svakt sure elektrolytter på basis av sulfater eller fra alkaliske elektrolyttbad som inneholder ammoniakk og organiske hydroxysyrer. Avsatte lag av disse legeringer er særpregede ved deres høye spenningstilstand som forårsaker at de blir sprøe og at deres vedheftning til grunnmaterialet blir utilstrekkelig. Anvendelsen av disse i praksis er problematisk på grunn av de nevnte årsaker.
De nevnte ulemper unngås ved den foreliggende fremgangsmåte hvor lag av nikkel med legerende elementer i form av molybden, wolfram, fosfor eller jern avsettes elektrolytisk fra en elektrolytt på basis av sulfosalisylat.
Oppfinnelsen angår en fremgangsmåte for ved elektrolyse å avsette lag av nikkellegeringer med legerende elementer i form av molybden, wolfram, fosfor eller jern på et substrat, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en elektrolytt som inneholder salter eller andre forbindelser av legeringselementene i en konsentrasjon av 0,001-0,25 x 10<3 >mol/m 3, eventuelt et halogenid i en konsentrasjon av 0,01-0,2x10 3 mol/m 3, et ionisk og/eller ikke-ionisk fuktemiddel, som natriumlaurylsulfat, i en konsentrasjon av 0,002-
0,04 x 10 3 mol/m 3 samt glansdannende tilsetningsmidler, som saccharin eller cumarin, i en konsentrasjon av 0,01-2,0 g/l, og fremgangsmåten er særpreget ved at substratet som skal belegges elektrolytisk, efter en avfetting først skylles med en aktiveringsoppløsning som inneholder sulfosalisylsyre,
og derefter aktiveres elektrolytisk i en nikkel(II)-klorid-oppløsning før den belegges.
Vanlige tekniske materialer, f.eks. stål, kobber og nikkellegeringer, kan belegges ved den foreliggende fremgangsmåte. Tynne til tykke lag av legeringsmaterialer kan dannes på belagte gjenstander, idet lagene har en tykkelse mellom 0,5^um og flere millimeter. De avsatte lag er særpregede ved at de har god vedheftning og mekaniske egenskaper, og deres mikrohardhet er mellom 300 og 800 HM med et samtidig lavt makrospenningsnivå som er 50-150 MPa. De nevnte legeringer kan anvendes som funksjonelle elektrolytisk avsatte lag på maskindeler med høyt spenningsnivå som ut-settes for friksjonsslitasje. Legeringene er særpregede ved at de dessuten oppviser god korrosjonsmotstand.
Den foreliggende fremgangsmåte er nærmere beskrevet
ved hjelp av de nedenstående eksempler.
Eksempel 1
En elektromotoraksel med en minustoleranse på 0,06 mm ble skylt i 8% sulfosalisylsyre efter avfetting. Akselen ble derefter aktivert vec 25°C og derefter katodisk aktivert i en nikkel(II)-kloridoppløsning med en pH av 2. Belegning ble utført i en elektrolytt som inneholdt 0,75 x 10 3 mol/m<3 >3 3 nikkel(II)-sulfosalisylat, 0,005 x 10 mol/m dinatrium-molybdat, 0,0 4 x IO<3> mol/m<3> nikkel(II)-bromid og 1,2 g/l saccharin. Et lag av legeringsmetall som ble avsatt ved en gjennomsnittlig strømtetthet av 7 A/dm 2, inneholdt 2,4% molybden. Dets mikrohardhet var 4 90 HM.
Eksempel 2
En stålplate ble skylt i 8% sulfosalisylsyre efter avfetting. Den ble derefter aktivert ved 25°C, hvorefter den ble katodisk aktivert i en nikkel(II)-kloridoppløsning ved en pH av 2. Selve belegningen ble utført i en elektrolytt som inneholdt 0,8 x IO3 mol/m3 nikkel (II)-sulfosalisvlat 0,05 x 10 3 mol/m 3 fosforsyrling, 0,05 x 10 o mol/m kaliumbromid, 0,8 g/l saccharin, 0,1 g/l cumarin og 0,5 g/l dipropyl-nafthalensulfonsyre. Et lag med en tykkelse av 30^um ble avsatt ved hjelp av den beskrevne prosess. Dets mikrohardhet som var 738 HM, økte til 1020 HM efter å ha vært utsatt for varme inntil en temperatur av 450°C.
Eksempel 3
En lagerring med en minustoleranse av 0,1 mm ble av-fettet og efter skylling i 10% sulfosalisylsyre aktivert ved 20°C. Den ble derefter katodisk akt ivert i en nikkel(II)-kloridoppløsning med pH av 2,5, hvorefter den ble belagt i
3 3
en elektrolytt som inneholdt 0,71 x 10 mol/m nikkel(II)-3 3
sulfosalisylat, 0,10 x 10 mol/m jern(II)-sulfosalisylat, 0,05 x 10 3 mol/m 3 kaliumbromid og 0,2 g/l natriumlaurylsulfat. Et lag av legeringer av nikkel med jern med en tykkelse av 0,2 mm ble avsatt ved en gjennomsnittlig katodestrømtett-het av 6 A/ dm 2, og laget inneholdt 14,1% jern. Lagerringen ble anvendt for dens beregnede funksjon efter at den var blitt slipt til den ønskede størrelse.
Claims (1)
- Fremgangsmåte for ved elektrolyse å avsette lag av nikkellegeringer med legerende elementer i form av molybden, wolfram, fosfor eller jern på et substrat, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en elektrolytt som inneholder salter eller andre forbindelser av legeringselementene i en konsentrasjon av 0,001-0,25 x 10 3 mol/m 3, eventuelt et halogenid i en konsentrasjon av 0,01-0,2 x 10<3 >mol/m 3, et ionisk og/eller ikke-ionisk fuktemiddel, som natriumlaurylsulfat, i en konsentrasjon av 0,002-0,04 x 10<3 >mol/m 3 samt glansdannende tilsetningsmidler, som saccharin eller cumarin, i en konsentrasjon av 0,01-2,0 g/l, karakterisert ved at substratet som skal belegges elektrolytisk, efter en avfetting først skylles med en aktiveringsoppløsning som inneholder sulfosalisylsyre, og derefter aktiveres elektrolytisk i en nikkel(II)-klorid-oppløsning før den belegges.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS804292A CS212001B1 (en) | 1980-06-18 | 1980-06-18 | Method of electrolytic precipitation of the nickle and alloying elements alloys layers |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO812053L NO812053L (no) | 1981-12-21 |
NO155402B true NO155402B (no) | 1986-12-15 |
NO155402C NO155402C (no) | 1987-03-25 |
Family
ID=5385303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO812053A NO155402C (no) | 1980-06-18 | 1981-06-17 | Fremgangsmaate for ved elektrolyse aa avsette lag av nikkellegeringer paa et substrat. |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4525248A (no) |
JP (1) | JPS5713192A (no) |
AT (1) | AT374832B (no) |
BE (1) | BE887328A (no) |
BG (1) | BG36277A1 (no) |
CH (1) | CH647821A5 (no) |
CS (1) | CS212001B1 (no) |
DD (1) | DD160486A3 (no) |
DE (1) | DE3108202A1 (no) |
DK (1) | DK158158B (no) |
ES (1) | ES8201641A1 (no) |
FR (1) | FR2485042A1 (no) |
GB (1) | GB2078257A (no) |
HU (1) | HU190671B (no) |
IT (1) | IT1135214B (no) |
NL (1) | NL8100919A (no) |
NO (1) | NO155402C (no) |
SE (1) | SE441011B (no) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CS215178B1 (en) * | 1980-03-07 | 1982-07-30 | Vaclav Landa | Electrolyte for catodic separation of the alloys of nickel and iron |
JPS615078U (ja) * | 1984-06-13 | 1986-01-13 | 美和ロツク株式会社 | ホテルのテレビなどの料金表示カ−ド |
US4908280A (en) * | 1989-07-10 | 1990-03-13 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Scratch and corrosion resistant, formable nickel plated steel sheet, and manufacturing method |
US5171419A (en) * | 1990-01-18 | 1992-12-15 | American Cyanamid Company | Metal-coated fiber compositions containing alloy barrier layer |
US6045682A (en) * | 1998-03-24 | 2000-04-04 | Enthone-Omi, Inc. | Ductility agents for nickel-tungsten alloys |
JP4618907B2 (ja) * | 2001-02-14 | 2011-01-26 | 株式会社サトーセン | ニッケル−タングステン−リン合金皮膜及びそのめっき液 |
US7951600B2 (en) | 2008-11-07 | 2011-05-31 | Xtalic Corporation | Electrodeposition baths, systems and methods |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CS201412B1 (en) * | 1978-10-06 | 1980-11-28 | Vaclav Landa | Electrolyt for cathodic production of zinc-tungsten alloys |
CS201413B1 (en) * | 1978-10-06 | 1980-11-28 | Vaclav Landa | Electrolyte for cathodic production of nickel-molybdenum alloys |
US4282073A (en) * | 1979-08-22 | 1981-08-04 | Thomas Steel Strip Corporation | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates |
-
1980
- 1980-06-18 CS CS804292A patent/CS212001B1/cs unknown
- 1980-10-28 DD DD80224884A patent/DD160486A3/xx not_active IP Right Cessation
- 1980-10-29 BG BG8049495A patent/BG36277A1/xx unknown
-
1981
- 1981-01-14 AT AT0011681A patent/AT374832B/de not_active IP Right Cessation
- 1981-01-23 HU HU81140A patent/HU190671B/hu not_active IP Right Cessation
- 1981-01-28 IT IT19385/81A patent/IT1135214B/it active
- 1981-01-30 BE BE0/203666A patent/BE887328A/fr unknown
- 1981-02-05 SE SE8100830A patent/SE441011B/sv not_active IP Right Cessation
- 1981-02-19 ES ES499580A patent/ES8201641A1/es not_active Expired
- 1981-02-25 NL NL8100919A patent/NL8100919A/nl not_active Application Discontinuation
- 1981-03-04 DE DE19813108202 patent/DE3108202A1/de active Granted
- 1981-04-24 JP JP6153681A patent/JPS5713192A/ja active Granted
- 1981-05-27 GB GB8116169A patent/GB2078257A/en not_active Withdrawn
- 1981-06-09 DK DK249881A patent/DK158158B/da not_active Application Discontinuation
- 1981-06-15 FR FR8111735A patent/FR2485042A1/fr active Granted
- 1981-06-17 NO NO812053A patent/NO155402C/no unknown
- 1981-06-18 CH CH4045/81A patent/CH647821A5/de not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-05-27 US US06/498,957 patent/US4525248A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6350437B2 (no) | 1988-10-07 |
DE3108202A1 (de) | 1982-02-18 |
IT1135214B (it) | 1986-08-20 |
SE441011B (sv) | 1985-09-02 |
DK249881A (da) | 1981-12-19 |
ES499580A0 (es) | 1981-12-16 |
DD160486A3 (de) | 1983-08-10 |
FR2485042A1 (fr) | 1981-12-24 |
CS212001B1 (en) | 1982-02-26 |
NO155402C (no) | 1987-03-25 |
HU190671B (en) | 1986-10-28 |
FR2485042B1 (no) | 1985-01-11 |
DK158158B (da) | 1990-04-02 |
NL8100919A (nl) | 1982-01-18 |
AT374832B (de) | 1984-06-12 |
BG36277A1 (en) | 1984-10-15 |
BE887328A (fr) | 1981-05-14 |
US4525248A (en) | 1985-06-25 |
ES8201641A1 (es) | 1981-12-16 |
JPS5713192A (en) | 1982-01-23 |
SE8100830L (sv) | 1981-12-19 |
IT8119385A0 (it) | 1981-01-28 |
GB2078257A (en) | 1982-01-06 |
ATA11681A (de) | 1983-10-15 |
CH647821A5 (de) | 1985-02-15 |
NO812053L (no) | 1981-12-21 |
DE3108202C2 (no) | 1990-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1922343B (zh) | 用于电镀锌-镍三元的和更高的合金的电镀液,系统和方法及其电镀产品 | |
EP2054539B1 (en) | Method for deposition of chromium layers as hard- chrome plating, electroplating bath and hard- chrome surfaces | |
US4804446A (en) | Electrodeposition of chromium from a trivalent electrolyte | |
CN101243211B (zh) | 用于电镀的镁基材的预处理 | |
JP6582353B1 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム | |
KR101624759B1 (ko) | 구리 층의 갈바닉 침착을 위한 시안화물-무함유 전해질 조성물 | |
EP2980279B1 (en) | Zinc-nickel alloy plating solution and plating method | |
JP2015212417A (ja) | 光沢ニッケル層の析出のための電解浴、または光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための混合物、および光沢ニッケル層を有する物品の製造方法 | |
US6755960B1 (en) | Zinc-nickel electroplating | |
EP1292724A1 (en) | Zinc-nickel electroplating | |
NO155402B (no) | Fremgangsmaate for ved elektrolyse aa avsette lag av nikkellegeringer paa et substrat. | |
US20060096868A1 (en) | Nickel electroplating bath designed to replace monovalent copper strike solutions | |
US6699379B1 (en) | Method for reducing stress in nickel-based alloy plating | |
EP3241928B1 (en) | Trivalent chromium plating formulations and processes | |
KR20110032540A (ko) | 니켈플래쉬 도금용액, 전기아연강판 및 이의 제조방법 | |
US5516419A (en) | Hard iron plating of aluminum/aluminum alloys using sulfamate/sulfate solutions | |
US3475290A (en) | Bright gold plating solution and process | |
JPH11323565A (ja) | 無電解ニッケルメッキの前処理法 | |
US2817629A (en) | Antimony plating bath | |
RU2765839C1 (ru) | Коррозионно-устойчивый электрод для электрохимического получения водорода и способ его получения | |
JPH0995796A (ja) | 金属表面処理用電解化成処理液及び電解化成処理方法 | |
US3373092A (en) | Electrodeposition of platinum group metals on titanium | |
JP4672309B2 (ja) | 鋳鉄へのアルカリ性亜鉛系めっき方法 | |
JPH08100290A (ja) | 陽極酸化皮膜形成アルミニウムの接着下地処理方法 | |
JP2899333B2 (ja) | 白金合金メッキ浴と白金合金メッキ方法 |