NL9400734A - Magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel en vacuümbehandel-inrichting hiermee. - Google Patents
Magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel en vacuümbehandel-inrichting hiermee. Download PDFInfo
- Publication number
- NL9400734A NL9400734A NL9400734A NL9400734A NL9400734A NL 9400734 A NL9400734 A NL 9400734A NL 9400734 A NL9400734 A NL 9400734A NL 9400734 A NL9400734 A NL 9400734A NL 9400734 A NL9400734 A NL 9400734A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- assembly
- housing
- target
- rotor
- preferably according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/345—Magnet arrangements in particular for cathodic sputtering apparatus
- H01J37/3455—Movable magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Description
Magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel en vacuümbehandel-inrichting hiermee.
De onderhavige uitvinding betreft een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel met - een samenstelhuis, waarop aan de kopzijde een doelsamenstel is te monteren, - in het samenstelhuis een ten opzichte hiervan rond een eis draaibaar gelagerd magneetdragersamenstel dat een magneetveld opwekt, waarvan de flux een gebied van een gemonteerd doelsamenstel doordringt, waarbij het gebied wordt verschoven door de relatieve draai-beweging, - een elektromotoraandrijving met een ondraaibaar met het samenstelhuis verbonden aandrijfhuis en een daarin draaibaar gelagerde rotor, die op zijn beurt op het mangeetdragersamenstel inwerkt.
De uitvinding heeft verder betrekking op een vacuümbehandelinrich-ting uitgerust met een verstuivingssamenstel volgens de uitvinding.
Het is bekend materialen, of ze nu elektrisch geleidend of elektrisch isolerend zijn, in vacuüm te verstuiven, doordat een elektrisch veld wordt opgewekt tussen het te verstuiven oppervlak van het materiaal, het doeloppervlak, en een tegenelektrode, daarmee een plasmaontlading, en met de positieve ionen van een aan de reactieruimte toegevoerd gas wordt het genoemde oppervlak verstoven. Het verstoven materiaal wordt hetzij direct voor het bekleden van werkstukken in de procesruimte gebruikt, hetzij in de vorm van een reactieprodukt na reactie met een aan de genoemde ruimte toegevoerd reactief gas.
Dergelijke verstuivingswerkwijzen worden uitgevoerd in DC-plasma’s HF-plasma's of in plasma's, die door DC en gesuperponeerde AC zijn opgewekt.
Daarbij is het verder bekend, om ondanks de totaal verschillende detailmechanismes van het eigenlijke verstuivingsproces voor het genoemde geval van plasmastimulering, de plasmadichtheid en daarmee de mate van verstuiving te verhogen, door in het gebied van het te verstuiven doeloppervlak een magneetveld aan te leggen. Een dergelijk door een magneetveld ondersteund verstuiven is bijvoorbeeld bekend onder het begrip aag-netronverstuiving.
Daarbij is het verder bekend, de flux van het genoemde magneetveld ten minste gedeeltelijk over het doeloppervlak tunnelvormig te sluiten.
Voor het overige is het bekend, zoals bijvoorbeeld bij het magne-tronverstuiven uit EP-O.399-710, US-5.130.005, DE-A~3.331.245 of DE-A-3.506.227, de flux van het genoemde magneetveld met betrekking tot het doeloppervlak te bewegen en daarmee het gebied van maximale mate van verstuiving te bereiken, hetzij om het doel zo gelijkmatig mogelijk af te stoffen, hetzij om op het werkstuk een gewenste verdeling van de mate van zich afzettende materiaal te bereiken.
Ook bij reactief verstuiven is het bekend, de genoemde flux ten opzichte van het verstuifde vlak te bewegen.
Daarbij kunnen verder aangebrachte doelconfiguraties vlak zijn, zoals in het geval van de bekende vlakke magnetrons, of ze kunnen ruimtelijke vlakken definiëren, zoals bijvoorbeelf concave, waarvoor wordt verwezen naar de potmagnetronsamenstel volgens DE-3.506.227· Het doelsa-menstel kan daarbij een eendelig of meerdere doelen omvatten.
De onderhavige uitvinding betreft in zijn ruimste aspect alle genoemde verstuivingstechnieken respectievelijk overeenkomstige door een magneetveld ondersteunde verstuivingssamenstellen.
Uit DE-A-3.33I.245 alsook uit US-A-5.130.005 is het voor een vlakke magnetron bekend om voor het realiseren van een relatieve beweging tussen de genoemde magnetische veldflux en het doeloppervlak onder een doel-samenstel een magneetsamenstel te bewegen. Volgens DE-A~3.331.245 wordt hiertoe een magneetsamenstel in een koelmediumkamer, die aan één zijde van het doelsamenstel is afgesloten, en die bestaat uit bevestigings-platen en een doel, ten opzichte van een draaias excentrisch draaiend bewogen of aanvullend via nokgeleidingen langs het doelsamenstel bewogen en derhalve wordt een zich langs het te verstuiven doelvlak bewegend tunnelvormig magneetveld opwekt. De draaiaandrijving van het magnetron-samenstel vindt plaats hetzij door de stroming van het koelmedium, namelijk door water, door de koelkamer, hetzij via een door de kamerwand geleide aandrijfas.
Uit US-A-5.130.005 is, als vlakke magnetron gevormd, een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel van de aan het begin genoemde soort bekend. Deze omvat een samenstelhuis, waarop aan de kopzijde een doelsamenstel is te monteren, dat hier uitsluitend uit het doel bestaat, en waarbij de daaronder liggende dragerplaat slechts door het uit elkaar nemen van het samenstel monteerbaar respectievelijk demonteerbaar is. Grenzend aan de montageplaat begrenst het huis een ringkamer, waarin een rond een draaias beweegbaar gelagerd magneetdraagsamenstel is aangebracht, dat een magneetveld opwekt, waarvan de flux door een gebied van het op de dragerplaat gemonteerde doel dringt en dat door de relatieve draaibeweging van het magneetdraagsamenstel ten opzichte van het vast aan het huis aangebrachte doel wordt verschoven.
Voor het overige is een elektromotor aangebracht, di'e via tandriemen en een overbrenging via een door de wand van de kamer geleide rondselas ten slotte op het magneetdraagsamenstel inwerkt. Bij dit samenstel is het nadelig, dat de elektromotor en de tussen het magneetdraagsamenstel en elektromotor aangebracht aandrijfoverbrenging zeer veel plaats inneemt en verder moet de de verzonken ten opzichte van de als koelkamer werkende ringkamer, met het magneetdraagsamenstel gemonteerde aandrijfmotor afzonderlijk worden gekoeld. Een verder nadeel is, dat door middel van kostbare controle elektronica de beweging van het magneetsamenstel zelf moet worden gecontroleerd, om ook gebreken tussen aandrijfmotor en magneetsamenstel te detecteren.
Het is een doel van de onderhavige uitvinding de genoemde nadelen bij een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel van de aan het begin genoemde soort op te heffen.
Dit wordt bereikt door de uitvoering hiervan volgens de conclusie 1. Doordat namelijk het aandrijfhuis tegelijkertijd het samenstelhuis vormt en de rotor niet draaibaar met het magneetdraagsamenstel is verbonden, wordt een zeer compacte bouwwijze verkregen. Daar verder het doelsamen-stel effectief moet worden gekoeld en is gemonteerd aan het samenstelhuis, welk laatste huis weer het huis van de aandrijving is, wordt derhalve de grondslag verschaft om met de koeling van het doelsamenstel tegelijkertijd de elektromotorische aandrijving te koelen. De bouwwijze volgens de uitvinding maakt het in het bijzonder ook het vermijden van een overbrenging en dus een drastische vermindering van het aantal bewogen delen mogelijk. Dit verhoogt de bedrijfszekerheid en doet de ver-vaardigingskosten dalen en leidt tot een uiterst compacte bouwwijze.
Onder elektromotorische aandrijvingen wordt daarbij in hoofdzaak een aandrijving verstaan, waarbij tussen stator en rotor een werkzame verbinding via een elektromagnetische velden plaatsvindt.
De compacte bouwwijze van het verstuivingssamenstel wordt verder op voordelige wijze verder bevorderd door de uitvoeringsvorm volgens conclusie 2. Bij een voordelige uitvoeringsvariant volgens conclusie 3 gaat het bij het door het magneetveld ondersteunde verstuivingssamenstel volgens de uitvinding om het daarin gespecificeerde.
Volgens conclusie k wordt de aan het begin genoemde beweging van de magnetische veldflux langs het te verstuiven doeloppervlak in hoofdzaak als willekeurige baan uitgevoerd, een daarbij bij voorkeur als gesloten baan. Ten eerste is het daardoor zonder meer mogelijk, dat aan het mag-neetdraagsamenstel, dat primair een zuivere draaibeweging uitvoert, magneten zijn aangebracht, die ten opzichte hiervan weer gestuurd beweegbaar zijn, en/of elektromagneten, die naar tijdstip respectievelijk draaihoek selectief worden aangestuurd en/of de magneten excentrisch worden aangebracht. Dit overeenkomstig conclusie 5·
Alhoewel het doorgaans mogelijk is, bij het relatief bewogen stelsel tussen doel en magneetdraagsamenstel ten opzichte van een inrichting, waaraan het samenstel volgens de uitvinding is gemonteerd, dat wil zeggen aan het abosuluut in rust zijnde stelsel, het doel te bewegen en daarbij het magneetdraagsamenstel absoluut in rust te laten, wordt volgens een verdere voordelige uitvoeringsvariant volgens conclusie 6 het huis gevormd om te worden gemonteerd op een vacuüm bekledingsinrichting en dus aan het in rust zijnde referentiestelsel.
Verdere voordelige uitvoeringsvarianten zijn in de conclusies 7 tot en met 17 weergegeven. Een vacuümbehandelinginrichting volgens conclusie 18 onderscheid zich op grond van de genoemde en nog te beschrijven voordelen van de verstuivingsinrichting volgens de uitvinding en in het bijzonder ook door een zeer compacte opbouw.
De uitvinding wordt hierna bij wijze van voorbeeld aan de hand van figuren nader toegelicht. Hierin toont: figuur 1 schematisch het basisprincipe van het verstuivings- samenstel volgens de uitvinding bij in rust verkerend huis en vlak doel; figuur 2 schematisch analoog aan figuur 1 het principiële sa menstel volgens de uitvinding, potmagnetronachtig; en figuur 3 in langsdoorsnede een de voorkeur hebbende uit voeringsvariant van het door een magneetveld ondersteunde verstuivingssamenstel volgens de uitvinding, waaraan alle voordelige deelaspecten gecombineerd zijn aangebracht.
In figuur 1 is schematisch weergegeven een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel volgens de uitvinding weergegeven met een vlak doelsamenstel 1, dat in het bijzonder een doelplaat omvat. Het doelsamenstel 1 sluit het huis 3 van het verstuivingssamenstel naar de procesruimte ü toe af. Binnen het huis 3 is in een magneetdraagkamer 5a een een permanente magneet en/of een elektromagneet 7 omvattend magneetdraagsamenstel 5 draaibaar gelagerd rond een as A. Het door de magneet 7 gevormde samenstel kan daarbij stationair aan het draagsamenstel gemonteerde permanente magneten en/of elektromagneten omvatten, zoals bij r met streeplijnen schematisch is weergegeven, permanente magneten en/of elektromagneten, die extra voor de draaibeweging rond de as A ten opzichte van het draagsamenstel 5 worden bewogen, waarbij dit radiaal en/of azimutaal kan zijn, maar in het algemeen zodanig, dat de magneten ten opzichte van het huis 3 een voorafbepaalde baan doorlopen. Daardoor wordt het gebied bij de te verstuiven oppervlakken van het doelsamenstel 1, waardoor en waarlangs de magnetische veldflux (¾ werkzaam is, op overeenkomstige banen verschoven, hetgeen ook door aansturen van vast aan het magneetdraagsamenstel 5 aangebrachte elektromagneten kan plaatsvinden.
In de figuur is zuiver schematisch en kwalitatief het verloop van de flux % bij excentrisch ten opzichte van de as A aangebrachte magneten weergegeven (ononderbroken en gestreepte lijnen) en dit bij een tunnelvormige flux over het doeloppervlak. Met streep-punt-lijnen is een eveneens in het bijzonder bij HF-toepassingen toepasbaar fluxveld weergegeven.
De schematisch in figuur 1 weergegeven magnetische veldflux % is dus ten minste gedeeltelijk tunnelvormig gesloten over het te verstuiven doeloppervlak en/of is overwegend gesloten over dicht bij het doel gelegen structuren, zoals frames van het huis 3·
Het magneetdraagsamenstel 5 is volgens de uitvinding niet draaibaar gekoppeld met de rotor 9 van een elektromotorische aandrijving, waarvan de stator 10 ondraaibaar met het huis 3 is verbonden. Via een ringvormige luchtspleet 12 werkt de krachtoverdragende elektromagnetische aandrijf-flux Het af geheelde vers tuivingssamens tel wordt in de zin van een magnetron DC-aangedreven of hoogfrequent aangedreven of als mengvorm met DC en AC aangedreven, en dientengevolge wordt via een tegenelektrode 14 een plasmaontlading opgewekt. Daarbij kan zoals gebruikelijk het proces-kamerhuis 3a met tegenelektrode 14 gemeenschappelijk op de referentie-potentiaal, zoals bijvoorbeeld op de massapotentiaal worden gelegd. Verder kan, zoals de vakman bekend, de tegenelektrode l4 op de instelpoten-tiaal worden gelegd, of kan een instelelektrode (biaselektrode) afzonderlijk worden aangebracht.
In figuur 1 zijn aan de voedingseenheid 16 schematisch de verschillende mogelijkheden van de voeding voor de plasmaontlading weergegeven .
In figuur 2 is het verstuivingssamenstel volgens figuur 1 weergegeven voor een niet vlak, te verstuiven doeloppervlak, en wel als voorbeeld voor een kegelvormig oppervlak, waarbij zowel bij het doelsamenstel volgens figuur 1 alsook volgens dat van figuur 2 het te verstuiven oppervlak door een enkel doel of door meerdere doelen kan zijn gerealiseerd.
In figuur 3 is een de voorkeur hebbende uitvoeringsvorm van een verstuivingsbron volgens de uitvinding weergegeven, bijvoorbeeld in de vorm van een vlakke magnetron. Het kathodesamenstel 1 bestaat uit de eigenlijke doelplaat 21 en hier bijvoorbeeld een achterplaat 23, waarbij de platen in gemonteerde toestand zowel thermisch alsook elektrisch nauw zijn gekoppeld, zoals door wederzijds spannen of verbinden.
Het elektrisch als een blok werkende doelsamenstel 1 is losneembaar aan het huis 3 van het samenstel gemonteerd, en wel aan een metalen mon-tageflens 25. Het doelsamenstel 1 wordt daarbij (niet weergegeven) met een spanframe op de montageflens 25 gespannen of gevormd, zoals hier, met de flens 25 een doelwissel-snelsluiting, zoals een bajonetsluiting. Een dergelijke sluiting is uit EP-A-0.512.456 bekend, welk document met betrekking daartoe als een hierin opgenomen onderdeel van de onderhavige uitvinding dient te worden beschouwd.
Via een isolatieflens 27 is de montageflens 25 verbonden met de overige delen van het huis 3» dat in hoofdzaak klokvormig is gevormd, en aan de zijde van het doelsamenstel met een in hoofdzaak uit een stijf kunststofmateriaal gevormde wand 29 gemeenschappelijk met het doelsamenstel 1 een koelkamersamenstel 31 bepaald. Daarbij is het koelkamersamen-stel 31 aan een zijde direct door het doelsamenstel 1 bepaald, of er is een warmtegeleidende folie 31a aangebracht, die door de druk in het koelmedium tegen het doelsamenstel 1 wordt gedrukt.
Wanneer het doelsamenstel 1 door middel van een snelsluiting verwisselbaar is, dient de door medium bediende folie, volgens de genoemde EP-A-512.456, als spanorgaan respectievelijk ontspanorgaan voor de sluiting, zoals bijvoorbeeld voor de genoemde bajonetsluiting.
De wand 29 zet zich coaxiaal ten opzichte van de as A in een buis-wand 33 voort, welke laatste wand samen met de wand 29 in het huis 3 een als magneetdrager dienende ringkamer 35 vastlegt. Met lagers 37 is op een centraal de buis 33 respectievelijk in het algemeen de centrale as vasthoudend centraal huisdeel 39 een rotor 4l draaibaar gelagerd. Een on-draaibaar aan het huis 3 aangebrachte stator 43 bepaalt tezamen met de rotor 41 de ringvormige luchtspleet 12, waarlangs de elektromotorische aandrijving van de rotor 4l plaatsvindt. Aan de rotor 4l is niet draaibaar het magneetdraagsamenstel 5 gelagerd, dat in de kamer 35 voor het magneetdraagsamenstel bij aandrijving van de rotor rondloopt. De diameter van de ringvormige spleet 12 is daarbij in hoofdzaak groter dan de axiale uitzetting van de spleet 12, waardoor een precieze en in het bijzonder voldoende langzame draaiaandrijving van de rotor kan plaatsvinden en tegelijkertijd de toch al door het doelsamenstel 1 opgespannen ruimte in de zin van de compactheid van het samenstel optimaal wordt benut en daarbij een overbrenging kan worden uitgespaard.
Als aandrijving wordt bij voorkeur een a-synchrone motor met stator-wikkelingen 45 gebruikt en een rotor zonder wikkelingen, in het bijzonder een asynchrone motor met optimaal, in axiale richting beschouwde, vlakke bouwwijze.
Afhankelijk van de toepassing kan ook een andere aandrijfmotor, bijvoorbeeld een elektronisch gecommuteerde motor of een DC-motor worden toegepast, bijvoorbeeld een elektronisch gestuurde.
De inwendige ruimte van de buis 33. zoals al vermeld, van elektrisch isolerend materiaal, bij voorkeur kunststof, wordt door middel van een als scheidingswand dienende binnenbuis 47 in een toevoerleiding 49 en een terugvoerleiding 51 onderverdeeld ten behoeve van circulatie van een koelmedium naar en vanaf de koelkamer 31· De metalen binnenbuis 47 is elektrisch met een metalen verdeelwand 53 verbonden, welke zich in hoofdzaak evenwijdig aan de wand 29 en aan het doelsamenstel 1 uitstrekt door de koelkamer 31· In het centrale gebied is in de scheidingwand 53 een uittreedopening 55 aangebracht, waardoor in pijlrichting door de toevoerleiding 49 toestromend koelmedium langs het doelsamenstel 1 naar buiten stroomt. Aan de omtrek van de scheidingswand 53 zijn terugstroomopeningen 57 aangebracht, waarlangs het koelmedium radiaal terug in de terugvoerleiding 51 stroomt. Is een folie 31a aangebracht, dan verzekert deze, wanneer deze elektrisch geleidend is, bij het doelsamenstel een contact-gebied met een groot oppervlak.
De toevoerleiding 49 in de buis 33 is via een verbindingsleidings-amenstel 59 net een flexibele kunststof slang 61 verbonden, die, in een kunststofdeel 63 van het huis 3 ingebed, naar buiten wordt geleidt en daar meerdere malen om het buitenvlak van het huis 3 is gewikkeld. De terugvoerleiding 51 communiceert met het radiaal naar buiten leidende leidingssamenstel 65·
Via buis 33. wand 29 en kunststofdeel 63 van het huis is de wand 47. die zich als scheidingswand door de buis 33 uitstrekt, elektrisch geïsoleerd van de metalen delen van het huis 3 en is deze met een elektrische aansluiting 67 verbonden, waarop het elektrische signaal voor het in werking brengen van het doelsamenstel 1 wordt aangesloten. Het elektrisch contacteren van de laatste vindt verder plaats via de scheidingsplaat 53. die rondom het metalen steunframe 25 is verbonden, en eventueel met de folie 31a·
Als koelmedium wordt bij voorkeur water gebruikt. Vanaf de aansluiting 67 met de hoogspanning voor het doelsamenstel 1 valt * de spanning langs het radiaal naar buiten geleide segment van de slang 61 respectievelijk van de daarin bevatte waterzuil als waterweerstand zodanig af, dat buiten het huis 3 praktisch de referentiepotentiaal, dat wil zeggen de massapotentiaal, wordt bereikt.
De koelkamer is in axiale richting optimaal dun, zodat in totaal een optimale uitwerking van het magneetstelsel op het te verstuiven oppervlak van het doelsamenstel 1 wordt verkregen.
Door het aanbrengen van de elektrisch isolerende, bij voorkeur uit kunststof vervaardigde, met de wand 29 als één geheel gevormde buis wordt de isolatie tussen de spanning voerende wand 47 sis elektrische toevoer naar het doelsamenstel alsook plaat 53 naar de metalen delen van het huis 3 verzekerd, zonder gecompliceerde isolatievoorzieningen, hetgeen het volume vein het verstuivingssamenstel volgens de uitvinding verder verkleind. Het aanbrengen van de scheidingswand 53 in combinatie met de toe-en afvoeren voor het koelmedium in de buis 33 verschaft op optimale wijze een stroming van vers koelmedium langs het doelsamenstel en het terugstromen hiervan in het gebied van de wand 29. waarbij tegelijkertijd de scheidingswanden voor de toe- en afvoeren voor het koelmedium als elektrische aansluitleidingen voor het doelsamenstel 1 worden gebruikt.
In figuur 3. slechts aan de rechterzijde aangegeven, worden verder aangeduid een montageflens 70 aan de vacuümkamer, een vacuüm-ringafdich-ting 72, een eventueel aangebrachte HF-dichting 74 en een afscherming 76.
Het doelsamenstel 1 is van een bajonetsluiting voorzien, die door de druk van het koelmedium over de folie 31a is te spannen, en wordt door verdraaien ten opzichte van de montage- respectievelijk bajonetflens 25 vanaf de zijde van de vacuümkamer verwijderd respectievelijk vervangen. Het gehele samenstel met aandrijving en koelkamer inclusief folie 31a kan, in de figuur, naar beneden, dus van de normaal atmosfeer N af gedemonteerd en van de flens 70 verwijderd worden.
Ook door deze constructieve maatregelen, die de opbouw van het samenstel drastisch vereenvoudigen, wordt de compactheid bereikt respectievelijk het volume van het verstuivingssamenstel wezenlijk verkleind.
Door het aanbrengeri van de flexibele slang 61 en dus het realiseren van een waterweerstand wordt enerzijds een voldoende spanningsverminde- ring tussen hoogspanningvoerende delen en het huis 3 verzekerd met geringe elektrische verliezen, en anderzijds wordt daardoor tegelijkertijd het huis 3 gekoeld. Met hetzelfde, voor het koelen van het doelsamenstel toch al aan te brengen stelsel wordt aldus het huis van het aandrijfstelsel en dus de stator daarvan door warmtegeleiding gekoeld.
Ten gevolge van de grote diameter van de spleet van de koppelring tussen stator en rotor kan het omwentelen van de rotor optimaal langzaam en gelijkmatig worden aangestuurd, waarmee kostbare en volumineuze overbrengingen worden vermeden. Het omwentelgedrag van het aandrijfstelsel kan eenvoudig elektronisch gestuurd respectievelijk geregeld worden. In zijn geheel beschouwd wordt het aantal benodigde onderdelen, vergeleken met gebruikelijke constructies van verstuivingsbronnen, drastisch verminderd, hetgeen de betrouwbaarheid verhoogt en de vervaardigingskosten verminderd.
Claims (18)
1. Door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel met - een samenstelhuis (3), waarop aan de kopzijde een doelsamenstel (1) is te monteren, - in het samenstelhuis een ten opzichte hiervan rond een as draaibaar gelagerd magneetdragersamenstel (5), dat een magneetveld opwekt, waarvan de flux (¾) een gebied van een gemonteerd doelsamenstel (1) doordringt, waarbij het gebied wordt verschoven door de relatieve draaibeweging, - een elektromotoraandrijving (9, 10) met een ondraaibaar met het samenstelhuis (3) verbonden aandrijfhuis en een daarin draaibaar gelagerde rotor, die op zijn beurt op het mangeetdragersamenstel (5) inwerkt, met het kenmerk, dat het aandrijfhuis het samenstelhuis (3) vormt en dat de rotor (9) ondraaibaar met het magneetdragersamenstel (5) is verbonden.
2. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de elektromotorische overbrenging (%) tussen het huis (3) en de rotor (9) plaatsvindt via een met de genoemde as coaxiale ringvormige luchtspleet (12), waarvan de diameter in hoofdzaak groter is dan zijn axiale afmeting.
3. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat deze als magnetron is gevormd, bij voorkeur als vlakke magnetron en/of bij voorkeur de veldflux tunnelvormig uit het gemonteerde doelsamenstel naar buiten komt en weer daarin naar binnen gaat.
4. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk. dat het gebied bij de draaibeweging een bepaalde baan doorloopt, bij voorkeur een gesloten baan.
5. Verstuivingssamenstel bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het magneetdragersamenstel (5) ten opzichte hiervan verschuifbare magneten (7) omvat en/of ten minste een deel van de magneten (7) door elektromagneten is gevormd en/of de magneten excentrisch zijn aangebracht.
6. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het huis (3) is gevormd voor montage aan of in een vacuümbekledingsinrichting.
7· Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de rotor (9) cirkelschijfvormig is gevormd.
8. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het huis een centrisch door de rotor stekende holle as (33) omvat, waarin een toe- (49) en/of afvoerleidings-samenstel (51) voor een koelmedium naar respectievelijk .vanaf een koel-kamersamenstel (31) is aangebracht, waarbij het koelkamersamenstel (31) voor het koelen van het doelsamenstel (1) aan de kopzijde van het huis (3) aangebracht is en direct of via een warmtegeleidende folie (31a), bij voorkeur ook elektrisch geleidend, van het doelsamenstel is afgesloten.
9. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het huis een centrisch door de rotor gaande as (33) omvat, die een elektrische aansluitverbinding (47) voor het doelsamenstel (1) omvat.
10. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk. dat de binnenruimte van de holle as (33) door een scheidingswand (47) is onderverdeeld in het toe- (49) en het afvoerleidingssamenstel (51), en bij voorkeur de scheidingswand (47) de elektrische toevoerleiding voor het doelsamenstel (1) vormt.
11. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat een huiskamer (35) met het magneet-dragersamenstel (5) aan de kopzijde is afgesloten door een wand (29), die uit elektrisch isolerend materiaal, bij voorkeur in hoofdzaak uit kunststof bestaat.
12. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk. dat het huis een centrisch door de rotor stekende holle as (33) omvat, waarin een toe- (49) en afvoerleidingssamenstel (51) voor een koelmedium naar en vanaf een door het doelsamenstel direct of indirect via een warmtegeleidende, bij voorkeur ook elektrisch geleidende folie, afgesloten koelkamer (31) is aangebracht.
13. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat: - de doelplaat aan het doelsamenstel (1) of - het doelsamenstel uit doelplaat en achterplaat of - het doelsamenstel met de koelkamer (31) en eventueel delen van het leidings amens tel (33) ten behoeve van het verwisselen van een doel verwisselbaar is respectievelijk zijn gevormd.
14. Verstuivingssamenstel bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat voor het koelen van het huis het toe- en of afvoerleidingssamenstel i£ de holle as (33) is verbonden met een het huis (3) onwikkelende, bij voorkeur meervoudig omwikkelende, bij voorkeur flexibele leiding voor koelmedium.
15. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk. dat het huis een centrisch door de rotor stekende holle as (33) omvat, welke enerzijds een deel van een stromings-stelsel (31, 49, 51) voor een koelmedium voor het doelsamenstel vormt en waarin, anderzijds, een elektrische aansluitleiding (47) voor het doelsamenstel is geleid, waarbij de holle ruimte van de holle as via ten minste een als waterweerstand (61) gevormde leiding door het huis naar buiten is geleid, zodanig dat de voedingsspanning voor het doelsamenstel over de waterweerstand staat.
16. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat - het huis (3) een centrisch door de rotor geleide holle as (33) omvat, - in de holle as (33) een elektrische toevoerleiding (47) naar het doelsamenstel (1) is geleidt, - de holle as een deel van een koelmediumstelsel (41, 49, 51) voor het koelen van het doelsamenstel (1) is, - de buitenwand van de holle as (33) door een elektrisch isolerende wand, bij voorkeur in hoofdzaak van kunststof, is gevormd en zich aan de kopzijde van het huis voor het afsluiten van een huiskamer (35) met het magneetdragersamenstel (5) radiaal naar buiten uitstrekt , - een door het huis (3) geleid, met de binnenruimte van de holle as communicerend leidingsamenstel (6l) voor het koelmedium als waterweerstand is gevormd en bij voorkeur in of langs het huis (3) gelust is.
17. Verstuivingssamenstel, bij voorkeur volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de elektromotorische aandrijving een asynchrone motor is, of een elektronisch gecommuteerde motor of een DC-motor, bijvoorbeeld elektronisch gestuurd, waarbij de axiale afmeting van de luchtspleet in hoofdzaak kleiner is dan de diameter van de rotor.
18. Vacuümbehandelinrichting met ten minste een samenstel volgens een van de conclusies 1 tot en met 17. **«I1j***
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH136293 | 1993-05-04 | ||
CH01362/93A CH690805A5 (de) | 1993-05-04 | 1993-05-04 | Magnetfeldunterstützte Zerstäubungsanordnung und Vakuumbehandlungsanlage hiermit. |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9400734A true NL9400734A (nl) | 1994-12-01 |
NL194654B NL194654B (nl) | 2002-06-03 |
NL194654C NL194654C (nl) | 2002-10-04 |
Family
ID=4208668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9400734A NL194654C (nl) | 1993-05-04 | 1994-05-04 | Compact geconstrueerd magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel. |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5490913A (nl) |
JP (1) | JP3727669B2 (nl) |
KR (1) | KR100349407B1 (nl) |
AU (1) | AU673727B2 (nl) |
CH (1) | CH690805A5 (nl) |
DE (1) | DE4405747B4 (nl) |
FR (1) | FR2704870B1 (nl) |
GB (1) | GB2278368B (nl) |
NL (1) | NL194654C (nl) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6689254B1 (en) | 1990-10-31 | 2004-02-10 | Tokyo Electron Limited | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
US5433835B1 (en) * | 1993-11-24 | 1997-05-20 | Applied Materials Inc | Sputtering device and target with cover to hold cooling fluid |
EP0704878A1 (en) * | 1994-09-27 | 1996-04-03 | Applied Materials, Inc. | Uniform film thickness deposition of sputtered materials |
EP0824760A1 (en) * | 1995-05-11 | 1998-02-25 | Materials Research Corporation | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
DE19546826C1 (de) * | 1995-12-15 | 1997-04-03 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung zur Vorbehandlung von Substraten |
JPH10195649A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-28 | Sony Corp | マグネトロンスパッタ装置および半導体装置の製造方法 |
US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
JP4928692B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2012-05-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | スパッタリング装置のマグネトロンユニット及びスパッタリング装置 |
EP1336985A1 (de) * | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Singulus Technologies AG | Zerstäubungskathode und Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrates mit mehreren Schichten |
US7297247B2 (en) * | 2003-05-06 | 2007-11-20 | Applied Materials, Inc. | Electroformed sputtering target |
US7910218B2 (en) | 2003-10-22 | 2011-03-22 | Applied Materials, Inc. | Cleaning and refurbishing chamber components having metal coatings |
DE102004027897A1 (de) * | 2004-06-09 | 2006-01-05 | Leybold Optics Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Zerstäubung mit einem bewegbaren planaren Target |
US7670436B2 (en) | 2004-11-03 | 2010-03-02 | Applied Materials, Inc. | Support ring assembly |
US8617672B2 (en) | 2005-07-13 | 2013-12-31 | Applied Materials, Inc. | Localized surface annealing of components for substrate processing chambers |
US7762114B2 (en) * | 2005-09-09 | 2010-07-27 | Applied Materials, Inc. | Flow-formed chamber component having a textured surface |
US9127362B2 (en) * | 2005-10-31 | 2015-09-08 | Applied Materials, Inc. | Process kit and target for substrate processing chamber |
US8647484B2 (en) | 2005-11-25 | 2014-02-11 | Applied Materials, Inc. | Target for sputtering chamber |
US20070283884A1 (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Applied Materials, Inc. | Ring assembly for substrate processing chamber |
US7981262B2 (en) | 2007-01-29 | 2011-07-19 | Applied Materials, Inc. | Process kit for substrate processing chamber |
US7942969B2 (en) | 2007-05-30 | 2011-05-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate cleaning chamber and components |
US8968536B2 (en) * | 2007-06-18 | 2015-03-03 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target having increased life and sputtering uniformity |
US20090084317A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Applied Materials, Inc. | Atomic layer deposition chamber and components |
US7901552B2 (en) * | 2007-10-05 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target with grooves and intersecting channels |
DE102008033904B4 (de) | 2008-07-18 | 2012-01-19 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Antriebsendblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
DE102009056241B4 (de) | 2009-12-01 | 2012-07-12 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Stützeinrichtung für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
DE102010031259B4 (de) * | 2010-07-12 | 2012-07-12 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Stützeinrichtung für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
DE102011111779A1 (de) * | 2011-09-01 | 2013-03-07 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Medienanschlussstutzen, Sputterbeschichtungseinrichtung und Vakuumbeschichtungsanlage |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4444643A (en) * | 1982-09-03 | 1984-04-24 | Gartek Systems, Inc. | Planar magnetron sputtering device |
CH659484A5 (de) * | 1984-04-19 | 1987-01-30 | Balzers Hochvakuum | Anordnung zur beschichtung von substraten mittels kathodenzerstaeubung. |
JP2627651B2 (ja) * | 1988-10-17 | 1997-07-09 | アネルバ株式会社 | マグネトロンスパッタリング装置 |
US5130005A (en) * | 1990-10-31 | 1992-07-14 | Materials Research Corporation | Magnetron sputter coating method and apparatus with rotating magnet cathode |
GB8909747D0 (en) * | 1989-04-27 | 1989-06-14 | Ionic Coatings Limited | Sputtering apparatus |
US4995958A (en) * | 1989-05-22 | 1991-02-26 | Varian Associates, Inc. | Sputtering apparatus with a rotating magnet array having a geometry for specified target erosion profile |
DE4022345A1 (de) * | 1989-08-22 | 1991-02-28 | Bosch Gmbh Robert | Einrichtung zum uebertragen einer stellposition eines bedienelements |
US5252194A (en) * | 1990-01-26 | 1993-10-12 | Varian Associates, Inc. | Rotating sputtering apparatus for selected erosion |
EP0439361B1 (en) * | 1990-01-26 | 2003-06-11 | Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. | Sputtering apparatus with a rotating magnet array having a geometry for specified target erosion profile |
EP0439360A3 (en) * | 1990-01-26 | 1992-01-15 | Varian Associates, Inc. | Rotating sputtering apparatus for selected erosion |
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
DE59208623D1 (de) * | 1991-05-08 | 1997-07-24 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
US5194131A (en) * | 1991-08-16 | 1993-03-16 | Varian Associates, Inc. | Apparatus and method for multiple ring sputtering from a single target |
-
1993
- 1993-05-04 CH CH01362/93A patent/CH690805A5/de not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-02-23 DE DE4405747A patent/DE4405747B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-02-25 FR FR9402187A patent/FR2704870B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-24 JP JP05367294A patent/JP3727669B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-13 KR KR1019940007782A patent/KR100349407B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-04-27 GB GB9408346A patent/GB2278368B/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-02 AU AU61831/94A patent/AU673727B2/en not_active Ceased
- 1994-05-02 US US08/236,535 patent/US5490913A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-04 NL NL9400734A patent/NL194654C/nl not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100349407B1 (ko) | 2002-12-11 |
FR2704870A1 (fr) | 1994-11-10 |
JP3727669B2 (ja) | 2005-12-14 |
GB2278368B (en) | 1997-04-23 |
AU673727B2 (en) | 1996-11-21 |
CH690805A5 (de) | 2001-01-15 |
GB2278368A (en) | 1994-11-30 |
DE4405747B4 (de) | 2006-04-27 |
NL194654C (nl) | 2002-10-04 |
GB9408346D0 (en) | 1994-06-15 |
FR2704870B1 (fr) | 1997-01-17 |
DE4405747A1 (de) | 1994-11-10 |
AU6183194A (en) | 1994-11-10 |
US5490913A (en) | 1996-02-13 |
NL194654B (nl) | 2002-06-03 |
JPH06330312A (ja) | 1994-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL9400734A (nl) | Magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel en vacuümbehandel-inrichting hiermee. | |
US5597459A (en) | Magnetron cathode sputtering method and apparatus | |
JPH0565636A (ja) | 円筒マグネトロンシールド構造 | |
CA2791288A1 (en) | Cylindrical rotating magnetron sputtering cathode device and method of depositing material using radio frequency emissions | |
US20060137968A1 (en) | Oscillating shielded cylindrical target assemblies and their methods of use | |
WO2006044001A1 (en) | Method for magnetron sputter deposition | |
WO2006044002A2 (en) | System and apparatus for magnetron sputter deposition | |
CN111500994A (zh) | 磁控管溅射装置用旋转式阴极单元 | |
US20050139467A1 (en) | Sputtering device | |
US5688388A (en) | Apparatus for coating a substrate | |
CA2626127A1 (en) | Soft x-ray generator | |
JP4559544B2 (ja) | 中空ターゲットを用いて陰極スパッタリングによって基板を被覆するための装置 | |
US6231726B1 (en) | Plasma processing apparatus | |
JPH0688229A (ja) | 二重円筒マグネトロンに於けるスパッタリングターゲットの磁場ゾーン回転の電気制御 | |
MXPA04000872A (es) | Dispositivo para granular un termoplastico, el cual es extruido por boquillas. | |
CN112877658A (zh) | 用于金属复合材料表面镀层的磁控喷射装置及工作方法 | |
JP3173708B2 (ja) | スパツタ装置 | |
CN113403591A (zh) | 新型阴极靶及旋转进气方法 | |
KR100568131B1 (ko) | 마그네트론 스퍼터링 타겟장치 | |
JPS6137982A (ja) | マグネトロンスバツタエツチング装置 | |
JPH0425223Y2 (nl) | ||
JPH0516215Y2 (nl) | ||
JP2003249343A (ja) | 加熱調理器 | |
JPS61159571A (ja) | スパツタリング装置 | |
KR20220139382A (ko) | 회전식 캐소드 유닛용 구동 블록 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
SNR | Assignments of patents or rights arising from examined patent applications |
Owner name: OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH Effective date: 20080618 |
|
TNT | Modifications of names of proprietors of patents or applicants of examined patent applications |
Owner name: OC OERLIKON BALZERS AG Effective date: 20080618 Owner name: UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT Effective date: 20080618 |
|
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |
Effective date: 20140504 |