NL194654C - Compact geconstrueerd magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel. - Google Patents
Compact geconstrueerd magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel. Download PDFInfo
- Publication number
- NL194654C NL194654C NL9400734A NL9400734A NL194654C NL 194654 C NL194654 C NL 194654C NL 9400734 A NL9400734 A NL 9400734A NL 9400734 A NL9400734 A NL 9400734A NL 194654 C NL194654 C NL 194654C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- assembly
- housing
- target
- rotor
- magnetic field
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/345—Magnet arrangements in particular for cathodic sputtering apparatus
- H01J37/3455—Movable magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
1 194654
Compact geconstrueerd magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel
De onderhavige uitvinding betreft een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel met een samenstelhuis, waarop aan de kopzijde een doelsamenstel is te monteren, in het samenstelhuis een ten 5 opzichte hiervan rond een as draaibaar gelagerd magneetdragersamenstel dat een magneetveld opwekt, waarvan de flux een gebied van een gemonteerd doelsamenstel doordringt, waarbij het gebied wordt verschoven door de relatieve draaibeweging, een elektromotoraandrijving met een ondraaibaar met het samenstelhuis verbonden aandrijfhuis en een daarin draaibaar gelagerde motor, die op zijn beurt op het magneetdragersamenstel inwerkt.
10 Het is bekend materialen, of ze nu elektrisch geleidend of elektrisch isolerend zijn, in vacuüm te verstuiven, doordat een elektrisch veld wordt opgewekt tussen het te verstuiven oppervlak van het materiaal, het doeloppervlak, en een tegenelektrode, daarmee een plasmaontlading, en met de positieve ionen van een aan de reactieruimte toegevoerd gas wordt het genoemde oppervlak verstoven. Het verstoven materiaal wordt hetzij direct voor het bekleden van werkstukken in de procesruimte gebruikt, hetzij 15 in de vorm van een reactieproduct na reactie met een aan de genoemde ruimte toegevoerd reactief gas.
Dergelijke verstuivingswerkwijzen worden uitgevoerd in DC-plasma’s HF-plasma’s of in plasma’s, die door DC en gesuperponeerde AC zijn opgewekt.
Daarbij is het verder bekend, om ondanks de totaal verschillende detailmechanismen van het eigenlijke verstuivingsproces voor het genoemde geval van plasmastimulering, de plasmadichtheid en daarmee de 20 mate van verstuiving te verhogen, door in het gebied van het te verstuiven doeloppervlak een magneetveld aan te leggen. Een dergelijk door een magneetveld ondersteund verstuiven is bijvoorbeeld bekend onder het begrip magnetronverstuiving.
Daarbij is het verder bekend, de flux van het genoemde magneetveld ten minste gedeeltelijk over het doeloppervlak tunnelvormig te sluiten.
25 Voor het overige is het bekend, zoals bijvoorbeeld bij het magnetronverstuiven in de octrooidocumenten EP-A 0.399.710, US-A 5.130.005, DE-A 3.331.245 of DE-A 3.506.227, de flux van het genoemde magneetveld met betrekking tot het doeloppervlak te bewegen en daarmee een gebied van maximale mate van verstuiving te bereiken, hetzij om het doel zo gelijkmatig mogelijk af te stoffen, hetzij om op het werkstuk een gewenste verdeling van de mate van zich afzettende materiaal te bereiken.
30 Ook bij reactief verstuiven is het bekend, de genoemde flux ten opzichte van het verstuifde vlak te bewegen.
Daarbij kunnen verder aangebrachte doelconfiguraties vlak zijn, zoals in het geval van de bekende vlakke magnetrons, of ze kunnen ruimtelijke vlakken definiëren, zoals bijvoorbeeld concave, waarvoor wordt verwezen naar de potmagnetronsamenstel volgens de Duitse octrooiaanvrage DE-A 3.506.227. Het 35 doelsamenstel kan daarbij eendelig zijn of meerdere doelen omvatten.
De onderhavige uitvinding betreft in zijn ruimste aspect alle genoemde verstuivingstechnieken respectievelijk overeenkomstige door een magneetveld ondersteunde verstuivingssamenstellen.
Uit de Duitse octrooiaanvrage DE-A 3.331.245 alsook uit het Amerikaanse octrooi US-A 5.130.005 is het voor een vlakke magnetron bekend om voor het realiseren van een relatieve beweging tussen de genoemde 40 magnetische veldflux en het doeloppervlak onder een doelsamenstel een magneetsamenstel te bewegen. Volgens de Duitse aanvrage DE-A 3.331.245 wordt hiertoe een magneetsamenstel in een koelmedium-kamer, die aan één zijde van het doelsamenstel is afgesloten, en die bestaat uit bevestigingsplaten en een doel, ten opzichte van een draaias excentrisch draaiend bewogen of aanvullend via nokgeleidingen langs het doelsamenstel bewogen en derhalve wordt een zich langs het te verstuiven doelvlak bewegend 45 tunnelvormig magneetveld opgewekt. De draaiaandrijving van het magnetronsamenstel vindt plaats hetzij door de stroming van het koelmedium, namelijk door water, door de koelkamer, hetzij via een door de kamerwand geleide aandrijfas.
Uit het Amerikaanse octrooi US-A 5.130.005 is, als vlakke magnetron gevormd, een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel van de aan het begin genoemde soort bekend. Deze omvat een 50 samenstelhuis, waarop aan de kopzijde een doelsamenstel is te monteren, dat hier uitsluitend uit het doel bestaat, en waarbij de daaronder liggende dragerplaat slechts door het uit elkaar nemen van het samenstel monteerbaar respectievelijk demonteerbaar is. Grenzend aan de montageplaat begrenst het huis een ringkamer, waarin een rond een draaias beweegbaar gelagerd magneetdraagsamenstel is aangebracht, dat een magneetveld opwekt, waarvan de flux door een gebied van het op de dragerplaat gemonteerde doel 55 dringt en dat door de relatieve draaibeweging van het magneetdraagsamenstel ten opzichte van het vast aan het huis aangebrachte doel wordt verschoven.
Voor het overige is een elektromotor aangebracht, die via tandriemen en een overbrenging via een door 194654 2 de wand van de kamer geleide rondselas tenslotte op het magneetdraagsamenstel inwerkt. Bij dit samenstef is het nadelig, dat de elektromotor en de tussen het magneetdraagsamenstel en elektromotor aangebrachte aandrijfoverbrenging zeer veel plaats inneemt en verder moet de verzonken ten opzichte van de als koelkamer werkende ringkamer, met het magneetdraagsamenstel gemonteerde aandrijfmotor afzonderlijk 5 worden gekoeld. Een verder nadeel is, dat door middel van kostbare controle elektronica de beweging van het magneetsamenstel zelf moet worden gecontroleerd, om ook gebreken tussen aandrijfmotor en magneetsamenstel te detecteren.
Een roterende magnetronverstuiver volgens de aanhef van conclusie 1 is bekend uit de Europese octrooiaanvrage EP-A 0.439.360. De bekende magnetronverstuiver omvat een roteerbare reeks magneten, 10 opgesteld in het samenstelhuis en aandrijfbaar door een door het huis tredende as van een buiten het samenstelhuis gelegen elektromotor. Ook hier is het nadeel aanwezig dat de elektromotor zeer veel ruimte inneemt en dat de externe aandrijving onderhevig kan zijn aan ongewenste afwijkingen en verloop.
Het is een doel van de onderhavige uitvinding de genoemde nadelen bij een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel van de aan het begin genoemde soort op te heffen.
15 Dit wordt bereikt door een uitvoering waarbij het aandrijfhuis het samenstelhuis vormt en de rotor niet draaibaar met het magneetdraagsamenstel is verbonden. Zo wordt een zeer compacte bouwwijze verkregen. Daar verder het doelsamenstel effectief moet worden gekoeld en is gemonteerd aan het samenstelhuis, welk laatste huis weer het huis van de aandrijving is, wordt derhalve de grondslag verschaft om met de koeling van het doelsamenstel tegelijkertijd de elektromotorische aandrijving te koelen. De bouwwijze 20 volgens de uitvinding maakt het vermijden van een overbrenging mogelijk, waarmee een drastische vermindering van het aantal bewegende delen wordt gerealiseerd. Dit verhoogt de bedrijfszekerheid en doet de vervaardigingskosten dalen en leidt tot een uiterst compacte bouwwijze.
Onder elektromotorische aandrijvingen wordt daarbij in hoofdzaak een aandrijving verstaan, waarbij tussen stator en rotor een werkzame verbinding via een elektromagnetisch veld plaatsvindt.
25 De compacte bouwwijze van het verstuivingssamenstel wordt op voordelige wijze verder bevorderd doordat het huis een centrisch door de rotor stekende elektrisch isolerende holle as omvat, waarin een toe-en/of afvoerleidingssamenstel voor een koelmedium naar respectievelijk vanaf een koelkamersamenstel is aangebracht, alsmede een elektrische aansluitverbinding voor het doelsamenstel, waarbij het koelkamersamenstel voor het koelen van het doelsamenstel aan de kopzijde van het huis aangebracht is en direct of 30 via een warmtegeleidende folie, welke ook elektrisch geleidend is, van het doelsamenstel is afgesloten. Hierdoor wordt de constructie verder verkleind en hoeven geen complexe vloeistofkoppelingen van het koelleidingsysteem naar het doelsamenstel te worden aangebracht.
De aan het begin genoemde beweging van de magnetische veldflux langs het te verstuiven doel-oppervlak kan in hoofdzaak als willekeurige baan worden uitgevoerd, daarbij bij voorkeur als gesloten baan. 35 Ten eerste is het daardoor zonder meer mogelijk, dat aan het magneetdraagsamenstel, dat primair een zuivere draaibeweging uitvoert, magneten zijn aangebracht, die ten opzichte hiervan weer gestuurd beweegbaar zijn, en/of elektromagneten, die naar tijdstip respectievelijk draaiboek selectief worden aangestuurd en/of de magneten excentrisch worden aangebracht.
Alhoewel het doorgaans mogelijk is, bij het relatief bewogen stelsel tussen doel en magneetdraag-40 samenstel ten opzichte van een inrichting, waaraan het samenstel volgens de uitvinding is gemonteerd, dat wil zeggen aan het absoluut in rust zijnde stelsel, het doel te bewegen en daarbij het magneetdraagsamenstel absoluut in rust te laten, wordt volgens een voordelige uitvoeringsvariant het huis gevormd om te worden gemonteerd op een vacuüm bekledingsinrichting en dus aan het in rust zijnde referentiestelsel.
45 De uitvinding wordt hierna bij wijze van voorbeeld aan de hand van figuren nader toegelicht. Hierin toont: figuur 1 schematisch het basisprincipe van een verbeterd verstuivingssamenstel bij in rust verkerende huis en vlak doel; figuur 2 schematisch analoog aan figuur 1 een potmagnetronachtig samenstel; en figuur 3 in langsdoorsnede een de voorkeur hebbende uitvoeringsvariant van het door een magneetveld 50 ondersteunde verstuivingssamenstel waaraan alle voordelige deelaspecten gecombineerd zijn aangebracht.
In figuur 1 is schematisch weergegeven een door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel weergegeven met een vlak doelsamenstel 1, dat in het bijzonder een doelplaat omvat. Het doelsamenstel 1 sluit het huis 3 van het verstuivingssamenstel naar de procesruimte U toe af. Binnen het huis 3 is in een 55 magneetdraagkamer 5a een een permanente magneet en/of een elektromagneet 7 omvattend magneetdraagsamenstel 5 draaibaar gelagerd rond een as A. Het door de magneet 7 gevormde samenstel kan daarbij stationair aan het draagsamenstel gemonteerde permanente magneten en/of elektromagneten 3 194654 omvatten, zoals bij r met streeplijnen schematisch is weergegeven, die extra voor de draaibeweging rond de as A ten opzichte van het draagsamenstel 5 worden bewogen, waarbij dit radiaal en/of azimutaal kan zijn, maar in het algemeen zodanig, dat de magneten ten opzichte van het huis 3 een vooraf bepaalde baan doorlopen. Daardoor wordt het gebied bij de te verstuiven oppervlakken van het doelsamenstel 1, waardoor 5 en waarlangs de magnetische veldflux (½ werkzaam is, op overeenkomstige banen verschoven, hetgeen ook door aansturen van vast aan het magneetdraagsamenstel 5 aangebrachte elektromagneten kan plaatsvinden.
In de figuur is zuiver schematisch en kwalitatief het verloop van de flux φΒ bij excentrisch ten opzichte van de as A aangebrachte magneten weergegeven (ononderbroken en gestreepte lijnen) en dit bij een 10 tunnelvormige flux over het doeloppervlak. Met streep-punt-lijnen is een eveneens in het bijzonder bij HF-toepassingen toepasbaar fluxveld weergegeven.
De schematisch in figuur 1 weergegeven magnetische flux φΒ is dus ten minste gedeeltelijk tunnelvormig gesloten over het te verstuiven doeloppervlak en/of is overwegend gesloten over dicht bij het doel gelegen structuren, zoals frames van het huis 3.
15 Het magneetdraagsamenstel 5 is niet draaibaar gekoppeld met de rotor 9 van een elektromotorische aandrijving, waarvan de stator 10 ondraaibaar met het huis 3 is verbonden. Via een ringvormige luchtspfeet 12 werkt de krachtoverdragende elektromagnetische aandrijfflux <pM. Het afgebeelde verstuivingssamenstel wordt in de zin van een magnetron DC-aangedreven of hoogfrequent aangedreven of als mengvorm met DC en AC aangedreven, en dientengevolge wordt via een tegenelektrode 14 een plasmaontlading 20 opgewekt. Daarbij kan zoals gebruikelijk het proces-kamerhuis 3a met tegenelektrode 14 gemeenschappelijk op de referentiepotentiaal, zoals bijvoorbeeld op de massapotentiaal worden gelegd. Verder kan, zoals de vakman bekend, de tegenelektrode 14 op de instelpotentiaal worden gelegd, of kan een instelelektrode (bïaselektrode) afzonderlijk worden aangebracht.
In figuur 1 zijn bij de voedingseenheid 16 schematisch de verschillende mogelijkheden van de voeding 25 voor de plasmaontlading weergegeven.
In figuur 2 is het verstuivingssamenstel volgens figuur 1 weergegeven voor een niet planair, te verstuiven doeloppervlak, en wel als voorbeeld een kegelvormig oppervlak, waarbij zowel bij het doelsamenstel volgens figuur 1 alsook volgens dat van figuur 2 het te verstuiven oppervlak door een enkel doel of door meerdere doelen kan worden gerealiseerd.
30 In figuur 3 is een de voorkeur hebbende uitvoeringsvorm van een verstuivingsbron weergegeven, bijvoorbeeld in de vorm van een vlakke magnetron. Het kathodesamenstel 1 bestaat uit de eigenlijke doelplaat 21 en bijvoorbeeld een achterplaat 23, waarbij de platen in gemonteerde toestand zowel thermisch alsook elektrisch nauw zijn verbonden, bijvoorbeeld door wederzijds spannen of verbinden.
Het elektrisch als een blok werkende doelsamenstel 1 is losneembaar in het huis 3 van het samenste! 35 gemonteerd, en wel middels een metalen montageflens 25. Het doelsamenstel 1 wordt daarbij (niet weergegeven) met een spanframe op de montageflens 25 gespannen of gevormd, zoals hier, met de flens 25 een doelwissel-snelsluiting, zoals een bajonetsluiting. Een dergelijke sluiting is uit de Europese octrooiaanvrage EP-A 0.512.456 bekend, welk document met betrekking daartoe als een hierin opgenomen onderdeel van de onderhavige inrichting dient te worden beschouwd.
40 Via een isolatieflens 27 is de montageflens 25 verbonden met de overige dèlen van het huis 3, dat in hoofdzaak klokvormig is gevormd, en aan de zijde van het doelsamenstel met een in hoofdzaak uit een stijf kunststofmateriaal gevormde wand 29 gemeenschappelijk met het doelsamenstel 1 een koelkamersamen-stel 31 bepaald. Daarbij is het koelkamersamenstel 31 aan een zijde direct door het doelsamenstel 1 bepaald, of er is een warmtegeleidende folie 31a aangebracht, die door de druk in het koelmedium tegen 45 het doelsamenstel 1 wordt gedrukt.
Wanneer het doelsamenstel 1 door middel van een snelsluiting verwisselbaar is, dient de folie, volgens de genoemde Europese aanvrage EP-A 512.456, als spanorgaan respectievelijk ontspanorgaan voor de sluiting, zoals bijvoorbeeld voor de genoemde bajonetsluiting.
De wand 29 zet zich coaxiaal ten opzichte van de as A als een buiswand 33 voort, welke laatste wand 50 samen met de wand 29 in het huis 3 een als magneetdrager dienende ringkamer 35 vastlegt. Met lagers 37 is op een de buis 33, respectievelijk in het algemeen de centrale as vasthoudend, centraal huisdeel 39 een rotor 41 draaibaar gelagerd. Een ondraaibaar aan het huis 3 aangebrachte stator 43 bepaalt tezamen met de rotor 41 de ringvormige luchtspleet 12, waarlangs de elektromotorische aandrijving van de rotor 41 plaatsvindt. Aan de rotor 41 is niet-draaibaar het magneetdraagsamenstel 5 verbonden, dat in de kamer 35 55 bij aandrijving van de rotor rondloopt. De diameter van de ringvormige spleet 12 is daarbij in hoofdzaak groter dan de axiale uitzetting van de spleet 12, waardoor een precieze en in het bijzonder voldoende langzame draaiaandrijving van de rotor kan plaatsvinden en tegelijkertijd de toch al door het doelsamenstel 194654 4 1 bepaalde ruimte in de zin van de compactheid van het samenstel optimaal wordt benut en daarbij een overbrenging kan worden uitgespaard.
Als aandrijving wordt bij voorkeur een asynchrone motor met statorwikkelingen 45 gebruikt en een rotor zonder wikkelingen, in het bijzonder een asynchrone motor met optimaal, in axiale richting beschouwde, 5 vlakke bouwwijze.
Afhankelijk van de toepassing kan ook een andere aandrijfmotor, bijvoorbeeld een elektronisch gecommuteerde motor of een DC-motor worden toegepast, bijvoorbeeld een elektronisch gestuurde.
De inwendige ruimte van de buis 33, welke zoals al vermeld, van elektrisch isolerend materiaal, bij voorkeur kunststof is, wordt door middel van een als scheidingswand dienende binnenbuis 47 in een 10 toevoerleiding 49 en een terugvoerleiding 51 onderverdeeld ten behoeve van circulatie van een koelmedium naar en vanaf de koelkamer 31. De metalen binnenbuis 47 is elektrisch met een metalen verdeelwand 53 verbonden, welke zich in hoofdzaak evenwijdig aan de wand 29 en aan het doelsamenstel 1 uitstrekt door de koelkamer 31. In het centrale gebied is in de scheidingswand 53 een uittreedopening 55 aangebracht, waardoor in pijlrichting door de toevoerleiding 49 toestromend koelmedium langs het doelsamenstel 1 naar 15 buiten stroomt. Aan de omtrek van de scheidingswand 53 zijn terugstroomopeningen 57 aangebracht, waarlangs het koelmedium radiaal terug in de terugvoerleiding 51 stroomt. Is een folie 31a aangebracht, dan verzekert deze, wanneer deze elektrisch geleidend is, bij het doelsamenstel een contactgebied met een groot oppervlak.
De toevoerleiding 49 in de buis 33 is via een verbindingsleidingsamenstel 59 met een flexibele kunststof-20 slang 61 verbonden, die, in een kunststofdeel 63 van het huis 3 ingebed, naar buiten wordt geleidt en daar meerdere malen om het buitenvlak van het huis 3 is gewikkeld. De terugvoerleiding 51 communiceert met het radiaal naar buiten leidende leidingsamenstel 65.
Via buis 33, wand 29 en kunststofdeel 63 van het huis is de wand 47, die zich als scheidingswand door de buis 33 uitstrekt, elektrisch geïsoleerd van de metalen delen van het huis 3 en is deze met een 25 elektrische aansluiting 67 verbonden, waarop het elektrische signaal voor het in werking brengen van het doelsamenstel 1 wordt aangesloten. Het elektrisch contacteren van de laatste vindt verder plaats via de scheidingsplaat 53, die rondom het metalen steunframe 25 is verbonden, en eventueel met de folie 31a.
Als koelmedium wordt bij voorkeur water gebruikt. Vanaf de aansluiting 67 met de hoogspanning voor het doelsamenstel 1 valt de spanning langs het radiaal naar buiten geleide segment van de slang 61 respectie-30 velijk van de daarin bevatte waterzuil als waterweerstand zodanig af, dat buiten het huis 3 praktisch de referentiepotentiaal, dat wil zeggen de massapotentiaal, wordt bereikt.
De koelkamer is in axiale richting optimaal dun, zodat in totaal een optimale uitwerking van het magneet-stelsel op het te verstuiven oppervlak van het doelsamenstel 1 wordt verkregen.
Door het aanbrengen van de elektrisch isolerende, bij voorkeur uit kunststof vervaardigde, met de wand 35 29 als één geheel gevormde buis 33 wordt de isolatie tussen de spanning voerende wand 47 als elektrische toevoer naar het doelsamenstel alsook plaat 53 naar de metalen delen van het huis 3 verzekerd, zonder gecompliceerde isolatievoorzieningen, hetgeen het volume van het verstuivingssamenstel verder verkleind. Het aanbrengen van de scheidingswand 53 in combinatie met de toe- en afvoeren voor het koelmedium in de buis 33 verschaft op optimale wijze een stroming van vers koelmedium langs het doelsamenstel en het 40 terugstromen hiervan in het gebied van de wand 29, waarbij tegelijkertijd de scheidingswanden voor de toe-en afvoeren voor het koelmedium als elektrische aansluitleidingen voor het doelsamenstel 1 worden gebruikt.
In figuur 3, slechts aan de rechterzijde aangegeven, worden verder aangeduid een montageflens 70 aan de vacuümkamer, een vacuüm-ringafdichting 72, een eventueel aangebrachte HF-dichting 74 en een 45 afscherming 76.
Het doelsamenstel 1 is van een bajonetsluiting voorzien die door de druk van het koelmedium over de folie 31a is te spannen, en wordt door verdraaien ten opzichte van de montage- respectievelijk bajonetflens 25 vanaf de zijde van de vacuümkamer verwijderd respectievelijk vervangen. Het gehele samenstel met aandrijving en koelkamer inclusief folie 31a kan, in de figuur, naar beneden, dus van de normale atmosfeer 50 N af gedemonteerd en van de flens 70 verwijderd worden.
Ook door deze constructieve maatregelen, die de opbouw van het samenstel drastisch vereenvoudigen, wordt compactheid bereikt respectievelijk het volume van het verstuivingssamenstel wezenlijk verkleind.
Door het aanbrengen van de flexibele slang 61 en dus het realiseren van een waterweerstand wordt enerzijds een voldoende spanningsvermindering tussen hoogspanningsvoerende delen en het huis 3 55 verzekerd met geringe elektrische verliezen, en anderzijds wordt daardoor tegelijkertijd het huis 3 gekoeld. Met hetzelfde, voor het koelen van het doelsamenstel toch al aan te brengen stelsel wordt aldus het huis van het aandrijfstelsel en dus de stator daarvan door warmtegeleiding gekoeld.
Claims (2)
1. Door een magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel met een samenstelhuis, waarop aan de kopzijde een doelsamenstel is te monteren, in het samenstelhuis een ten opzichte hiervan rond een as draaibaar gelagerd magneetdragersamenstel, dat een magneetveld opwekt, waarvan de flux een gebied van een gemonteerd doelsamenstel doordringt, waarbij het gebied wordt verschoven door de relatieve 15 draaibeweging, een elektromotoraandrijving met een ondraaibaar met het samenstelhuis verbonden aandrijfhuis en een daarin draaibaar gelagerde rotor, die op zijn beurt op het magneetdragersamenstel inwerkt, met het kenmerk, dat het aandrijfhuis het samenstelhuis (3) vormt en dat de rotor (9) ondraaibaar met het magneetdragersamenstel (5) is verbonden.
2. Verstuivingssamenstel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het huis een centrisch door de rotor 20 stekende elektrisch isolerende holle as (33) omvat, waarin een toe- (49) en/of afvoerleidingssamenstel (51) voor een koelmedium naar respectievelijk vanaf een koelkamersamenstel (31) is aangebracht, alsmede een elektrische aansluitverbinding (47) voor het doelsamenstel (1), waarbij het koelkamersamenstel (31) voor het koelen van het doelsamenstel (1) aan de kopzijde van het huis (3) aangebracht is en direct of via een warmtegeleidende folie (31a), welke ook elektrisch geleidend is, van het doelsamenstel is afgesloten. Hierbij 2 bladen tekening
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH136293 | 1993-05-04 | ||
CH01362/93A CH690805A5 (de) | 1993-05-04 | 1993-05-04 | Magnetfeldunterstützte Zerstäubungsanordnung und Vakuumbehandlungsanlage hiermit. |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9400734A NL9400734A (nl) | 1994-12-01 |
NL194654B NL194654B (nl) | 2002-06-03 |
NL194654C true NL194654C (nl) | 2002-10-04 |
Family
ID=4208668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9400734A NL194654C (nl) | 1993-05-04 | 1994-05-04 | Compact geconstrueerd magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel. |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5490913A (nl) |
JP (1) | JP3727669B2 (nl) |
KR (1) | KR100349407B1 (nl) |
AU (1) | AU673727B2 (nl) |
CH (1) | CH690805A5 (nl) |
DE (1) | DE4405747B4 (nl) |
FR (1) | FR2704870B1 (nl) |
GB (1) | GB2278368B (nl) |
NL (1) | NL194654C (nl) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6689254B1 (en) | 1990-10-31 | 2004-02-10 | Tokyo Electron Limited | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
US5433835B1 (en) * | 1993-11-24 | 1997-05-20 | Applied Materials Inc | Sputtering device and target with cover to hold cooling fluid |
EP0704878A1 (en) * | 1994-09-27 | 1996-04-03 | Applied Materials, Inc. | Uniform film thickness deposition of sputtered materials |
EP0824760A1 (en) * | 1995-05-11 | 1998-02-25 | Materials Research Corporation | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
DE19546826C1 (de) * | 1995-12-15 | 1997-04-03 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung zur Vorbehandlung von Substraten |
JPH10195649A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-28 | Sony Corp | マグネトロンスパッタ装置および半導体装置の製造方法 |
US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
JP4928692B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2012-05-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | スパッタリング装置のマグネトロンユニット及びスパッタリング装置 |
EP1336985A1 (de) * | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Singulus Technologies AG | Zerstäubungskathode und Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrates mit mehreren Schichten |
US7297247B2 (en) * | 2003-05-06 | 2007-11-20 | Applied Materials, Inc. | Electroformed sputtering target |
US7910218B2 (en) | 2003-10-22 | 2011-03-22 | Applied Materials, Inc. | Cleaning and refurbishing chamber components having metal coatings |
DE102004027897A1 (de) * | 2004-06-09 | 2006-01-05 | Leybold Optics Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Zerstäubung mit einem bewegbaren planaren Target |
US7670436B2 (en) | 2004-11-03 | 2010-03-02 | Applied Materials, Inc. | Support ring assembly |
US8617672B2 (en) | 2005-07-13 | 2013-12-31 | Applied Materials, Inc. | Localized surface annealing of components for substrate processing chambers |
US7762114B2 (en) * | 2005-09-09 | 2010-07-27 | Applied Materials, Inc. | Flow-formed chamber component having a textured surface |
US9127362B2 (en) | 2005-10-31 | 2015-09-08 | Applied Materials, Inc. | Process kit and target for substrate processing chamber |
US8647484B2 (en) | 2005-11-25 | 2014-02-11 | Applied Materials, Inc. | Target for sputtering chamber |
US20070283884A1 (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Applied Materials, Inc. | Ring assembly for substrate processing chamber |
US7981262B2 (en) | 2007-01-29 | 2011-07-19 | Applied Materials, Inc. | Process kit for substrate processing chamber |
US7942969B2 (en) | 2007-05-30 | 2011-05-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate cleaning chamber and components |
US8968536B2 (en) * | 2007-06-18 | 2015-03-03 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target having increased life and sputtering uniformity |
US20090084317A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Applied Materials, Inc. | Atomic layer deposition chamber and components |
US7901552B2 (en) * | 2007-10-05 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target with grooves and intersecting channels |
DE102008033904B4 (de) * | 2008-07-18 | 2012-01-19 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Antriebsendblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
DE102009056241B4 (de) * | 2009-12-01 | 2012-07-12 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Stützeinrichtung für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
DE102010031259B4 (de) * | 2010-07-12 | 2012-07-12 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Stützeinrichtung für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
DE102011111779A1 (de) * | 2011-09-01 | 2013-03-07 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Medienanschlussstutzen, Sputterbeschichtungseinrichtung und Vakuumbeschichtungsanlage |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4444643A (en) * | 1982-09-03 | 1984-04-24 | Gartek Systems, Inc. | Planar magnetron sputtering device |
CH659484A5 (de) * | 1984-04-19 | 1987-01-30 | Balzers Hochvakuum | Anordnung zur beschichtung von substraten mittels kathodenzerstaeubung. |
JP2627651B2 (ja) * | 1988-10-17 | 1997-07-09 | アネルバ株式会社 | マグネトロンスパッタリング装置 |
US5130005A (en) * | 1990-10-31 | 1992-07-14 | Materials Research Corporation | Magnetron sputter coating method and apparatus with rotating magnet cathode |
GB8909747D0 (en) * | 1989-04-27 | 1989-06-14 | Ionic Coatings Limited | Sputtering apparatus |
US4995958A (en) * | 1989-05-22 | 1991-02-26 | Varian Associates, Inc. | Sputtering apparatus with a rotating magnet array having a geometry for specified target erosion profile |
DE4022345A1 (de) * | 1989-08-22 | 1991-02-28 | Bosch Gmbh Robert | Einrichtung zum uebertragen einer stellposition eines bedienelements |
DE69133275T2 (de) * | 1990-01-26 | 2004-04-29 | Varian Semiconductor Equipment Associates Inc., Gloucester | Sputtervorrichtung mit rotierender Magnetanordnung, deren Geometrie ein vorgegebenes Targetabtragsprofil erzeugt |
EP0439360A3 (en) * | 1990-01-26 | 1992-01-15 | Varian Associates, Inc. | Rotating sputtering apparatus for selected erosion |
US5252194A (en) * | 1990-01-26 | 1993-10-12 | Varian Associates, Inc. | Rotating sputtering apparatus for selected erosion |
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
DE59208623D1 (de) * | 1991-05-08 | 1997-07-24 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
US5194131A (en) * | 1991-08-16 | 1993-03-16 | Varian Associates, Inc. | Apparatus and method for multiple ring sputtering from a single target |
-
1993
- 1993-05-04 CH CH01362/93A patent/CH690805A5/de not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-02-23 DE DE4405747A patent/DE4405747B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-02-25 FR FR9402187A patent/FR2704870B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-24 JP JP05367294A patent/JP3727669B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-13 KR KR1019940007782A patent/KR100349407B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-04-27 GB GB9408346A patent/GB2278368B/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-02 US US08/236,535 patent/US5490913A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-02 AU AU61831/94A patent/AU673727B2/en not_active Ceased
- 1994-05-04 NL NL9400734A patent/NL194654C/nl not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9408346D0 (en) | 1994-06-15 |
JP3727669B2 (ja) | 2005-12-14 |
CH690805A5 (de) | 2001-01-15 |
JPH06330312A (ja) | 1994-11-29 |
NL9400734A (nl) | 1994-12-01 |
NL194654B (nl) | 2002-06-03 |
DE4405747A1 (de) | 1994-11-10 |
US5490913A (en) | 1996-02-13 |
KR100349407B1 (ko) | 2002-12-11 |
DE4405747B4 (de) | 2006-04-27 |
AU673727B2 (en) | 1996-11-21 |
AU6183194A (en) | 1994-11-10 |
GB2278368A (en) | 1994-11-30 |
FR2704870B1 (fr) | 1997-01-17 |
FR2704870A1 (fr) | 1994-11-10 |
GB2278368B (en) | 1997-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL194654C (nl) | Compact geconstrueerd magneetveld ondersteund verstuivingssamenstel. | |
JP2013524015A (ja) | 円筒形の回転する磁電管スパッタリング陰極装置及び無線周波放射を使用して材料を蒸着する方法 | |
CA2567372A1 (en) | Cylindrical target with oscillating magnet from magnetron sputtering | |
CA2593063A1 (en) | Oscillating shielded cylindrical target assemblies and their methods of use | |
WO2006044001A1 (en) | Method for magnetron sputter deposition | |
CA2221624A1 (en) | Microwave-driven plasma spraying apparatus and method for spraying | |
WO2006044002A2 (en) | System and apparatus for magnetron sputter deposition | |
CN111500994A (zh) | 磁控管溅射装置用旋转式阴极单元 | |
US20070086572A1 (en) | Soft x-ray generator | |
JPH0688229A (ja) | 二重円筒マグネトロンに於けるスパッタリングターゲットの磁場ゾーン回転の電気制御 | |
JPH0893687A (ja) | 真空ポンプ装置 | |
JPH05247635A (ja) | スパッタリング装置 | |
EP0066632B1 (en) | Microwave heat cooking device | |
CN112877658A (zh) | 用于金属复合材料表面镀层的磁控喷射装置及工作方法 | |
KR100502000B1 (ko) | 플라스틱 제품의 진공증착 코팅장치 | |
JP2853610B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
CN219449847U (zh) | 一种具有柱状电弧镀膜源的卧式真空镀膜器 | |
JPS6137982A (ja) | マグネトロンスバツタエツチング装置 | |
JP2962206B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
KR100568131B1 (ko) | 마그네트론 스퍼터링 타겟장치 | |
KR200349262Y1 (ko) | 마그네트론 스퍼터링 타겟장치 | |
KR20010111921A (ko) | 스퍼터링 장치용 캐소드 | |
JPH08236062A (ja) | スパツタ装置 | |
JPH0127548B2 (nl) | ||
JPH09983A (ja) | 遠心分離機 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
SNR | Assignments of patents or rights arising from examined patent applications |
Owner name: OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH Effective date: 20080618 |
|
TNT | Modifications of names of proprietors of patents or applicants of examined patent applications |
Owner name: OC OERLIKON BALZERS AG Effective date: 20080618 Owner name: UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT Effective date: 20080618 |
|
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |
Effective date: 20140504 |