NL8800354A - Spanwals alsmede inrichting voorzien van een dergelijke spanwals. - Google Patents

Description

% r

875152/BA/HH

Korte aanduiding: Spanwals alsmede inrichting voorzien van een dergelijke spanwals.

De uitvinding heeft betrekking op een spanwals voor het gecentreerd opnemen van een met energierijke straling patroonmatig te behandelen medium tenminste omvattende een centrale as en een daaromheen geplaatst, in omtreksrichting expandeerbaar en in geëxpandeerde 5 toestand symmetrisch rond de as opgesteld, ondersteunings-lichaam voor het te behandelen medium waarbij het onder-steuningslichaam, gezien in radiale richting uitgaande van de as, omvat een steuncylinder, een uit elastisch materiaal vervaardigde, opblaasbare zak, een daaromheen 10 aangebrachte dunwandige, metalen cylindrische huls, centreermiddelen voor het centreren van genoemde steuncylinder, opblaasbare zak en cylindrische huls en middelen voor het toe- en afvoeren van opblaasmedium voor de opblaasbare zak.

15 Een dergelijke spanwals is algemeen bekend en wordt bijvoorbeeld toegepast voor het dessineren van rotatiezeefdruksjablonen.

Een dergelijk rotatiezeefdruksjabloon wordt gevormd door een dunwandig, naadloos, metalen zeefmateriaal, 20 bijvoorbeeld een zeefmateriaal uit nikkel, waarbij bedoeld zeefmateriaal is bekleed met een lichtgevoelige bekledings-samenstelling. De binnen de cylindrische zeef aangebrachte rubberen zak verleent in opgepompte toestand het rotatiezeef druks jabloon een geschikte cylindervorm waarbij de 25 bevestiging van de zak zodanig is dat de centrale as van de cylindrische huls samenvalt met de centrale as van de steuncylinder waaromheen de opblaasbare zak is opgesteld.

Door een diapositief film te spannen met de emulsiezijde liggend tegen de op de zeef aanwezige lichtgevoelige laag 30 en vervolgens te belichten met ultraviolette straling wordt bijvoorbeeld ter plaatse van de lichtdoorlatende delen van de diapositief film de lichtgevoelige laag, bijvoorbeeld een polyvinylalcohol/ammoniumbichromaatlaag, zodanig gehard dat deze niet meer op kan lossen in water.

. 88 0 0354 -2-

Op die plaatsen waar de laag niet gehard is, d.w.z. waar de laag niet getroffen is door de actinische straling, bijvoorbeeld ultraviolet straling is de laag niet gehard en zal met behulp van water verwijderd kunnen worden.

5 Op deze wijze is een negatief beeld van het in de film aanwezige positieve patroon gevormd.

Bij drukken met een dergelijke drukvorm, bijvoorbeeld op een rotatiezeefdrukmachine, zal op alle plaatsen van de zeef die overeenkomen met de gezwarte 10 gedeelten in de positief film, drukmassa door de zeef worden doorgelaten zodat eeri positieve afdruk van het oorspronkelijke positieve patroon wordt gevormd op het oppervlak van het te bedrukken substraat.

Het element dat in de hiervoor gegeven 15 omschrijving van de spanwals overeenkomt met het te belichten medium is in dit geval de op de zeef aanwezige lichtgevoelige laag.

Uiteraard kan de in genoemde omschrijving aangegeven steuncylinder ook een gesloten cylinder zijn 20 en kan de inrichting waarin de spanwals is ondergebracht toegepast worden voor het patroonmatig met licht behandelen van bijvoorbeeld een filmmateriaal.

Een dergelijke spanwals kan bijvoorbeeld ook toegepast worden voor het met behulp van een laserbundel 25 open branden van de met een afdichtlak gesloten perforaties van een zeefdruksjabloonmateriaal.

Dergelijke bekende spanwalsen hebben gezien het metaalkarakter van de cylindrische huls een in hoofdzaak vaste omtreksmaat die slechts door grote variatie in de 30 toegepaste opblaasdruk binnen nauwe grenzen gevarieerd kan worden.

Voor veel toepassingen zou een grotere variatiemogelijkheid gewenst zijn, waarbij echter een tijdelijk toegepaste omtreksvergroting geen blijvende 35 deformatie van het materiaal van de cylindrische huls met zich mee mag brengen.

De onderhavige aanvrage heeft ten doel een spanwals van de aangegeven soort te verschaffen waarbij echter door variatie van de toegepaste druk van het op- .8800354 -3- blaasmedium de omtrek van de toegepaste cylindrische huls binnen aanzienlijk ruimere grenzen gevarieerd kan worden dan tot op heden het geval is.

Het aangegeven doel wordt bereikt met een 5 spanwals van het aangegeven type die volgens de uitvinding is gekenmerkt doordat de cylindrische huls voorzien is van, in omtreksrichting gelijkmatig verdeelde, zich in hoofdzaak in axiale richting uitstrekkende, sleuven.

Door een toegepaste cylindrische huls te 10 voorzien van een aantal gelijkmatig over de omtrek verdeelde sleuven wordt een omtreksexpansie van de toegepaste cylindrische huls mogelijk waarbij echter bij normaal gebruik geen blijvende vervorming van het hulsmateriaal optreedt.

15 In het bijzonder strekken de zich in de wand van de cylindrische huls bevindende sleuven zich uit tot buiten de maximale breedte van een door de cylindrische huls te ondersteunen, te belichten medium.

Het is niet noodzakelijk dat de zich in 20 de huls bevindende sleuven zich uitstrekken over de volle lengte van de huls. Onder handhaving van de gunstige omstandigheid dat de sleuven zich uitstrekken tot buiten de maximale breedte van het te belichten materiaal kunnen in elk der sleuven één of meer onderbrekingen zijn aan-25 gebracht. Het gunstig effekt van de eerder aangegeven expansiemogelijkheid zonder blijvende materiaalvervorming blijft dan gehandhaafd.

In het geval dat de sleuven zich niet over de volle lengte van de huls uitstrekken is het niet nodig 30 dat de deelsleuven in eikaars verlengde liggen; de deel-sleuven kunnen in omtreksrichting ten opzichte van elkaar versprongen zijn waarbij de werking van de spanwals gehandhaafd wordt.

Om bij het expanderen van de cylindrische 35 huls uitscheuring van de sleuven te voorkomen, zijn aan de beide uiteinden van elke sleuf resp. de beide uiteinden van elk sleufdeel perforaties aangebracht in het materiaal van de cylindrische huls met een kleinste afmeting, gezien loodrecht op de looprichting van de sleuf, die groter .8800354 ·* * -4- is dan de breedte van de betreffende sleuf of deel van een sleuf.

In zijn algemeenheid is het voordelig als de perforatie een cirkelvormige perforatie is waarbij 5 geldt, dat:

Breedte sleuf < D perforatie < 10 x Breedte sleuf

In een typische uitvoeringsvorm van een spanwals volgens de uitvinding bezit de cylindrische huls 10 een uitgekozen lengte en wordt gevormd door een naadloze, galvanisch vervaardigde, nikkelen huls met een wanddikte liggend tussen 100 en 200 micrometer die tien over de omtrek daarvan verdeelde sleuven omvat, die al dan niet in axiale richting onderbroken kunnen zijn, waarbij elke 15 sleuf of deel van een sleuf een breedte heeft liggende tussen 50 en 200OyUm en bij voorkeur 250 en 500 ^um.

De uitvinding heeft eveneens betrekking op een inrichting voor het patroonmatig met energierijke straling behandelen van een medium tenminste omvattende 20 een spanwals voor het dragen van het te behandelen medium, middelen voor het roterend aandrijven van de genoemde spanwals, een geschikt opgestelde bron van actinische straling en middelen voor het in geëxpandeerde toestand brengen van de spanwals voorafgaand aan het met licht 25 behandelen van het medium waardoor genoemd medium draaiingssymmetrisch rond de as van de spanwals komt te liggen waarbij de spanwals in een dergelijke inrichting gevormd wordt door een spanwals zoals hiervoor is beschreven en die een onderwerp van de onderhavige uitvinding vormt.

30 De hiervoor beschreven spanwals volgens de uitvinding kan worden toegepast voor het opspannen van allerlei soorten met licht te behandelen media, bijvoorbeeld een met lichtgevoelige lak bekleed rotatiezeefdruksjabloon; een met lichtgevoelige lak bekleed 35 offsetplaat-materiaal; kunststoffilmmateriaal dat is voorzien van een lichtgevoelige emulsie etc.

Bijzonder voordelig blijkt de spanwals volgens de uitvinding te zijn indien het met energierijke .8800354 -5- straling te behandelen medium een naadloos, cylindrisch, metalen rotatiezeefdruksjabloon is waarbij de perforaties van genoemd sjabloon zijn afgedicht met een lakmateriaal.

Een dergelijk lakmateriaal kan een niet-lichtgevoelig 5 lakmateriaal zijn waarbij de behandeling met licht bestaat uit een met behulp van een geprogrammeerde laser- bundel wegbranden van genoemde lak uit de perforaties in gebieden die overeenkomen met die gebieden waarin het zeef materiaal doorlatend gewenst wordt.

10 Voor een beschrijving van de hiervoor genoemd patroonvormingswerkwijze onder toepassing van een geprogrammeerde laserbundel wordt verwezen naar de PCT-octrooiaanvrage WO 86/04549 van aanvraagster.

Gebleken is dat de hiervoor beschreven 15 spanwals volgens de uitvinding een zodanig goede omloop-nauwkeurig- heid vertoont dat de eventueel optredende slingering ruimschoots blijft binnen het in-focus traject van een op het oppervlak van het te behandelen medium bij stilstaande wals gefocusseerde laserbundel.

20 De uitvinding zal nu worden toegelicht aan de hand van de tekening, waarin fig. 1 een zijaanzicht toont van een axiale doorsnede van de wals volgens de uitvinding toont, en fig. 2a, b een tweetal uitvoeringsvormen 25 van een wals volgens de uitvinding toont.

In fig. 1 is een spanwals 1 aangegeven welke voorzien is van een dunwandige cylindrische huls 2 waarbij de cylindrische huls 2 volgens de uitvinding is voorzien van sleuven 3 met aan de uiteinden van elk 30 der sleuven een perforatie 5 waarvan de afmeting groter is dan de breedte van elk der sleuven. De cylindrische huls 2 welke onderdeel uitmaakt van de spanwals 1 is bevestigd aan de centreerkop 7 die op zijn beurt wordt gedragen door een centreerhuls 7'. De centreerhuls 7' 35 is gecentreerd rond de centrale as van de spanwals.

Op de centreerhuls 71 is eveneens aangebracht een bevestiging 9 waarop aansluit een van één of meer opblaasmediumdoorlaatopeningen 14 voorziene steuncylinder ---- - η ^ .8800354 « -6- 13 aansluit. Tussen de steuncyUnder 13 en de cylindrische huls 2 is een opblaasbare zak, bijvoorbeeld een opblaasbare rubberzak 12 opgenomen die afdichtend is bevestigd aan de ondersteuning 9.

5 Met 8 resp. 8' zijn een opblaasmediumtoevoer en -afvoer aangegeven waarbij de door het medium gevolgde weg met een stippellijn is aangeduid. Door via 8 opblaas-medium, bijvoorbeeld lucht toe te voeren, wordt de rubberen zak 12 krachtig tegen het binnenoppervlak van de cylin-10 drische huls 2 aangeduwd wat de cylindrische huls 2 in een uitstekend gecentreerde cylindrische geëxpandeerde vorm brengt. Door aanwezigheid van de sleuven 3 wordt bereikt dat de omtrek van de cylindrische huls 2 binnen bepaalde grenzen kan variëren, onder behoud van de juiste 15 gecentreerde cylindervorm en zonder dat blijvende vervorming van het materiaal van de huls 2 optreedt.

In een specifieke uitvoeringsvorm bestaat de cylindrische huls 2 uit nikkelmateriaal met een wanddikte van 200 micrometer, en een omtrek van 64 cm waarbij sleuven 20 3 aanwezig zijn met een breedte van 0,05 mm terwijl aan de uiteinden van elk der sleuven een cirkelvormige perforatie aanwezig is met een diameter van 2,6 mm.

Bij toepassing van een dergelijk sleuvenpatroon wordt een expandeerbaarheid van de cylindrische 25 huls verkregen waarbij, zonder blijvende vervorming van het materiaal, bijvoorbeeld een omtreksvariatie van + 10 mm kan worden gerealiseerd. Op deze wijze kunnen de in bepaalde gvallen gewenste omtreksvariaties van de tot de spanwals volgens de uitvinding behorende cylindrische 30 huls op eenvoudige wijze en reproduceerbaar worden gerealiseerd.

In fig. 2a en 2b zijn twee verschillende uitvoeringsvormen van de spanwals volgens de onderhavige uitvinding weergegeven waarbij deze met name wat betreft 35 de uitvoering van de aanwezige sleuven de aandacht verdienen.

In fig. 2a strekken de sleuven zich in axiale richting en ononderbroken uit terwijl in fig. 2b .880 0354 -7- met 4 een onderbrekingsgebied in de sleuven is aangegeven.

Het zal duidelijk zijn dat binnen de omvang van de uitvinding het toegepaste sleuvenpatroon in de cylindrische huls ook andere vormen kan hebben dan in 5 fig. 2a en 2b. Elke sleuf kan bijvoorbeeld vele onderbrekingen vertonen en men kan de sleuven in de aldus gevormde sleufrijen versprongen ten opzichte van elkaar opstellen.

Ook kunnen de sleuven in plaats van een 10 recht karakter een gegolfd karakter bezitten terwijl eveneens afwijkingen van de zuiver axiale richting van de sleuven toelaatbaar zijn.

De spanwals volgens de onderhavige uitvinding is uitstekend bruikbaar voor het hiervoor beschreven met 15 een laser behandelen van dichtgelakte rotatiezeefdruksja-blonen; de spanwals kan echter ook uitstekend dienst doen in elke gebruikte belichtingsinrichting voor het belichten van bijvoorbeeld rotatiezeefdruksjablonen terwijl ook toepassing in een zogenaamde filmomloopmachine zeer goede 20 mogelijkheden biedt.

Andere toepassingen van de spanwals volgens de onderhavige uitvinding liggen in het gebied van het mechanisch bewerken van oppervlakken van cylindrische voorwerpen zoals bijvoorbeeld graveren, slijpen, polijsten 25 enz.

30 35 8800354

Claims (7)

1. Spanwals voor het gecentreerd opnemen van een met energierijke straling patroonmatig te behandelen medium tenminste omvattende een centrale as en een daaromheen geplaatst, in omtreksrichting expandeerbaar en in geëx- 5 pandeerde toestand symmetrisch rond de as opgesteld, ondersteuningslichaam voor het te behandelen medium waarbij het ondersteuningslichaam, gezien in radiale richting uitgaande van de as, omvat een steuncylinder, een uit elastisch materiaal vervaardigde, opblaasbare zak, een daaromheen 10 aangebrachte dunwandige, metalen cylindrische huls, centreer-middelen voor het centreren van genoemde steuncylinder, opblaasbare zak en cylindrische huls en middelen voor het toe- en afvoeren van opblaasmedium voor de opblaasbare zak, met het kenmerk, dat de cylindrische huls (2) voorzien 15 is van, in omtreksrichting gelijkmatig verdeelde, zich in hoofdzaak in axiale richting uitstrekkende, sleuven (3, 3').

2. Spanwals volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de zich in de cylinderwand bevindende sleuven 20 (3, 3') zich uitstrekken tot buiten de maximale breedte van een door de cylindrische huls (2) teondersteunen, te belichten medium.

3. Spanwals volgens conclusie 1-2, met het kenmerk, dat elk der sleuven (3, 3') één of meer onder- 25 brekingen (4) vertoont.

4. Spanbwals volgens conclusie 1-3, met het kenmerk, dat beide uiteinden van elk der sleuven (3) of delen van sleuven (3') uitmonden in een perforatie (5) waarvan de kleinste afmeting groter is dan de breedte van 30 de betreffende sleuf (3) of deel van een sleuf (3').

5. Spanwals volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de perforatie (5) een cirkelvormige perforatie is met een diameter waarvoor geldt: Breedte sleuf < D perforatie < 10 x Breedte sleuf.

6. Spanwals volgens conclusie 1-5, met het kenmerk, dat de cylindrische huls (2) een uitgekozen lengte bezit en gevormd wordt door een naadloze, galvanisch .8800354 e, % -9- vervaardigde nikkelen huls met een wanddikte liggend tussen 100-200 yum die tien over de omtrek daarvan verdeelde sleuven (3), die al dan niet in axiale richting onderbroken kunnen zijn, omvat waarbij elke sleuf (3) of deel van een sleuf 5 (3') een breedte heeft liggend tussen 50 en 2000 ^,um.

7. Inrichting voor het patroonmatig met energierijke straling behandelen van een medium tenminste omvattende een spanwals voor het dragen van het te behandelen medium, middelen voor het roterend aandrijven van genoemde 10 spanwals, een geschikt opgestelde bron van actinische straling en middelen voor het in geëxpandeerde toestand brengen van de spanwals voorafgaand aan het belichten van het medium waardoor genoemd medium draaiingssymmetrisch rond de as van de spanwals komt te liggen, met het kenmerk, 15 dat de spanwals (1) een spanwals volgens één of meer van de conclusies 1-6 is. 20 .8800354