NL7510994A - Werkwijze voor het vervaardigen van een mono- lithische complementaire transistor in een p-type substraat met een hoge specifieke weer- stand. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een mono- lithische complementaire transistor in een p-type substraat met een hoge specifieke weer- stand.Info
- Publication number
- NL7510994A NL7510994A NL7510994A NL7510994A NL7510994A NL 7510994 A NL7510994 A NL 7510994A NL 7510994 A NL7510994 A NL 7510994A NL 7510994 A NL7510994 A NL 7510994A NL 7510994 A NL7510994 A NL 7510994A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- manufacture
- specific resistance
- high specific
- type substrate
- complementary transistor
- Prior art date
Links
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 title 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/082—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including bipolar components only
- H01L27/0823—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including bipolar components only including vertical bipolar transistors only
- H01L27/0826—Combination of vertical complementary transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8222—Bipolar technology
- H01L21/8228—Complementary devices, e.g. complementary transistors
- H01L21/82285—Complementary vertical transistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US50757074A | 1974-09-19 | 1974-09-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7510994A true NL7510994A (nl) | 1976-03-23 |
Family
ID=24019174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7510994A NL7510994A (nl) | 1974-09-19 | 1975-09-18 | Werkwijze voor het vervaardigen van een mono- lithische complementaire transistor in een p-type substraat met een hoge specifieke weer- stand. |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5157172A (it) |
BE (1) | BE833455A (it) |
CA (1) | CA1038968A (it) |
DE (1) | DE2541161A1 (it) |
ES (1) | ES440909A0 (it) |
FR (1) | FR2285717A1 (it) |
GB (1) | GB1525247A (it) |
IT (1) | IT1042581B (it) |
NL (1) | NL7510994A (it) |
SE (1) | SE403214B (it) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55143064A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-08 | Nec Corp | Semiconductor device |
JPS57106046A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
JPH0713969B2 (ja) * | 1986-01-13 | 1995-02-15 | 三洋電機株式会社 | 縦型pnpトランジスタ |
GB2186117B (en) * | 1986-01-30 | 1989-11-01 | Sgs Microelettronica Spa | Monolithically integrated semiconductor device containing bipolar junction,cmosand dmos transistors and low leakage diodes and a method for its fabrication |
EP0347550A3 (en) * | 1988-06-21 | 1991-08-28 | Texas Instruments Incorporated | Process for fabricating isolated vertical and super beta bipolar transistors |
-
1975
- 1975-08-27 CA CA234,241A patent/CA1038968A/en not_active Expired
- 1975-09-10 SE SE7510075A patent/SE403214B/xx unknown
- 1975-09-16 DE DE19752541161 patent/DE2541161A1/de not_active Withdrawn
- 1975-09-16 IT IT27273/75A patent/IT1042581B/it active
- 1975-09-16 BE BE160072A patent/BE833455A/xx unknown
- 1975-09-18 JP JP50112210A patent/JPS5157172A/ja active Pending
- 1975-09-18 NL NL7510994A patent/NL7510994A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-09-18 FR FR7528624A patent/FR2285717A1/fr active Granted
- 1975-09-19 GB GB38498/75A patent/GB1525247A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-01-23 ES ES440909A patent/ES440909A0/es active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2285717A1 (fr) | 1976-04-16 |
DE2541161A1 (de) | 1976-04-01 |
GB1525247A (en) | 1978-09-20 |
SE403214B (sv) | 1978-07-31 |
BE833455A (fr) | 1976-01-16 |
SE7510075L (sv) | 1976-03-22 |
JPS5157172A (it) | 1976-05-19 |
IT1042581B (it) | 1980-01-30 |
ES440909A0 (es) | 1977-03-16 |
CA1038968A (en) | 1978-09-19 |
FR2285717B1 (it) | 1980-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL7506519A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekt- transistor, en veldeffekttransistor vervaardigd vol- gens deze werkwijze. | |
NL161302B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting. | |
NL175346C (nl) | Inrichting voor het procesgewijs vervaardigen van een stempel te gebruiken voor de fabricage van een gespecificeerd onderdeel. | |
NL160512C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een van uitsteeksels voorziene plaat. | |
NL161305B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting. | |
NL158025B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL7513346A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van platen van al- uminiumlegeringen. | |
NL7414007A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting. | |
NL7416779A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een bipolai- re transistor en bipolaire transistor vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL181696C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met tenminste een halfgeleiderelement in een voor de halfgeleiderelementen gemeenschappelijk halfgeleiderlichaam. | |
NL7413266A (nl) | Werkwijze met planar-diffusie voor de vervaar- diging van een monolytisch geintegreerde vaste-stof-schakeling. | |
NL158022B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL7604904A (nl) | Vergassingsinrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een gasvormig mengsel. | |
NL7506030A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een fluores- centieweergeefinrichting en inrichting vervaar- digd volgens deze werkwijze. | |
NL7413791A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting. | |
NL159824B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelig half- geleiderelement. | |
NL7509107A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een druk- plaat voor diepdrukken en volgens deze werkwijze vervaardigde diepdrukplaat. | |
NL7508514A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geper- foreerd werkstuk en werkstuk vervaardigd vol- gens deze werkwijze. | |
NL7510994A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een mono- lithische complementaire transistor in een p-type substraat met een hoge specifieke weer- stand. | |
NL164070C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van polylaurinelactam- vormlichamen. | |
NL180727C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een borgmoer. | |
NL7505288A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte schakeling en gedrukte schakeling vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL7506257A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een samenge- steld voorwerp. | |
NL7510492A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een voor een halfgeleiderinrichting bedoelde drager, en een volgens een dergelijke werkwijze vervaardigde drager. | |
NL7612257A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |