NL164702C - Geintegreerde halfgeleiderschakeling, voorzien van een door een reactie in de dampfase gevormde halfgeleidende laag, die bestaat uit monokristallijne gebieden en uit een polykristallijn gebied dat de monokristallijne gebieden van elkaar scheidt. - Google Patents

Geintegreerde halfgeleiderschakeling, voorzien van een door een reactie in de dampfase gevormde halfgeleidende laag, die bestaat uit monokristallijne gebieden en uit een polykristallijn gebied dat de monokristallijne gebieden van elkaar scheidt.

Info

Publication number
NL164702C
NL164702C NL6918283.A NL6918283A NL164702C NL 164702 C NL164702 C NL 164702C NL 6918283 A NL6918283 A NL 6918283A NL 164702 C NL164702 C NL 164702C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
regions
crystalline
mono
poly
layer formed
Prior art date
Application number
NL6918283.A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6918283A (https=
NL164702B (nl
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Publication of NL6918283A publication Critical patent/NL6918283A/xx
Publication of NL164702B publication Critical patent/NL164702B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL164702C publication Critical patent/NL164702C/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/60—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
    • H10D84/611—Combinations of BJTs and one or more of diodes, resistors or capacitors
    • H10D84/613—Combinations of vertical BJTs and one or more of diodes, resistors or capacitors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W10/00—Isolation regions in semiconductor bodies between components of integrated devices
    • H10W10/01—Manufacture or treatment
    • H10W10/041—Manufacture or treatment of isolation regions comprising polycrystalline semiconductor materials
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W10/00—Isolation regions in semiconductor bodies between components of integrated devices
    • H10W10/40—Isolation regions comprising polycrystalline semiconductor materials
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/049—Equivalence and options
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/051—Etching
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/085—Isolated-integrated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/122—Polycrystalline
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/135—Removal of substrate
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/151—Simultaneous diffusion
NL6918283.A 1968-12-05 1969-12-04 Geintegreerde halfgeleiderschakeling, voorzien van een door een reactie in de dampfase gevormde halfgeleidende laag, die bestaat uit monokristallijne gebieden en uit een polykristallijn gebied dat de monokristallijne gebieden van elkaar scheidt. NL164702C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP43089227A JPS4912795B1 (https=) 1968-12-05 1968-12-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL6918283A NL6918283A (https=) 1970-06-09
NL164702B NL164702B (nl) 1980-08-15
NL164702C true NL164702C (nl) 1981-01-15

Family

ID=13964838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL6918283.A NL164702C (nl) 1968-12-05 1969-12-04 Geintegreerde halfgeleiderschakeling, voorzien van een door een reactie in de dampfase gevormde halfgeleidende laag, die bestaat uit monokristallijne gebieden en uit een polykristallijn gebied dat de monokristallijne gebieden van elkaar scheidt.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3871007A (https=)
JP (1) JPS4912795B1 (https=)
DE (1) DE1961225A1 (https=)
GB (1) GB1288940A (https=)
NL (1) NL164702C (https=)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2151346C3 (de) * 1971-10-15 1981-04-09 Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg Verfahren zum Herstellung einer aus Einkristallschichtteilen und Polykristallschichtteilen bestehenden Halbleiterschicht auf einem Einkristallkörper
US4053335A (en) * 1976-04-02 1977-10-11 International Business Machines Corporation Method of gettering using backside polycrystalline silicon
JPS5951743B2 (ja) * 1978-11-08 1984-12-15 株式会社日立製作所 半導体集積装置
US4242697A (en) * 1979-03-14 1980-12-30 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Dielectrically isolated high voltage semiconductor devices
US4231819A (en) * 1979-07-27 1980-11-04 Massachusetts Institute Of Technology Dielectric isolation method using shallow oxide and polycrystalline silicon utilizing a preliminary etching step
US4283235A (en) * 1979-07-27 1981-08-11 Massachusetts Institute Of Technology Dielectric isolation using shallow oxide and polycrystalline silicon utilizing selective oxidation
GB2104722B (en) * 1981-06-25 1985-04-24 Suwa Seikosha Kk Mos semiconductor device and method of manufacturing the same
EP0109996B1 (fr) * 1982-11-26 1987-06-03 International Business Machines Corporation Structure de résistance autopolarisée et application à la réalisation de circuits d'interface
US4879585A (en) * 1984-03-31 1989-11-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device
US4860081A (en) * 1984-06-28 1989-08-22 Gte Laboratories Incorporated Semiconductor integrated circuit structure with insulative partitions
US4649630A (en) * 1985-04-01 1987-03-17 Motorola, Inc. Process for dielectrically isolated semiconductor structure
JPS6281745A (ja) * 1985-10-05 1987-04-15 Fujitsu Ltd ウエハ−規模のｌｓｉ半導体装置とその製造方法
US5212109A (en) * 1989-05-24 1993-05-18 Nissan Motor Co., Ltd. Method for forming PN junction isolation regions by forming buried regions of doped polycrystalline or amorphous semiconductor
JP2567472B2 (ja) * 1989-05-24 1996-12-25 日産自動車株式会社 半導体装置
JP2890601B2 (ja) * 1990-02-08 1999-05-17 株式会社デンソー 半導体センサ
US7112867B2 (en) * 2003-12-05 2006-09-26 Intel Corporation Resistive isolation between a body and a body contact
US20070042563A1 (en) * 2005-08-19 2007-02-22 Honeywell International Inc. Single crystal based through the wafer connections technical field

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3320485A (en) * 1964-03-30 1967-05-16 Trw Inc Dielectric isolation for monolithic circuit
US3335038A (en) * 1964-03-30 1967-08-08 Ibm Methods of producing single crystals on polycrystalline substrates and devices using same

Also Published As

Publication number Publication date
GB1288940A (https=) 1972-09-13
JPS4912795B1 (https=) 1974-03-27
US3871007A (en) 1975-03-11
NL6918283A (https=) 1970-06-09
NL164702B (nl) 1980-08-15
DE1961225A1 (de) 1970-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL164702C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling, voorzien van een door een reactie in de dampfase gevormde halfgeleidende laag, die bestaat uit monokristallijne gebieden en uit een polykristallijn gebied dat de monokristallijne gebieden van elkaar scheidt.
CA920284A (en) Method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor device manufactured according to the method
CA951437A (en) Polycrystalline silicon interconnect structure for integrated circuits
NL142287B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
CA939830A (en) Packaging of semiconductor devices
NL180467C (nl) Halfgeleiderinrichting, omvattende een op een halfgeleidersubstraat aangegroeide epitaxiale laag van halfgeleidermateriaal, die in afzonderlijke eilandzones is verdeeld door een door plaatselijke oxydatie van halfgeleidermateriaal van de laag in de laag gevormd patroon van isolerend materiaal.
NL163372C (nl) Halfgeleiderinrichting, omvattende een monokristallijn halfgeleiderlichaam met een door aangroeien vanuit de dampfase verkregen halfgeleidende laag, die een gebied van monokristallijn materiaal en een gebied van polykristallijn materiaal omvat.
NL181766C (nl) Ladingsgekoppelde halfgeleiderschakeling, waarbij pakketten meerderheidsladingsdragers door een halfgeleiderlaag evenwijdig aan de halfgeleiderlaag kunnen worden overgedragen.
JPS584471B1 (https=)
CA1003576A (en) Semiconductor schottky barrier devices
CA992221A (en) Tantalum-gallium arsenide schottky barrier semiconductor device
CH501980A (de) Monolithische, integrierte Halbleiteranordnung
NL177263C (nl) Halfgeleiderinrichting voorzien van onderling gescheiden elektroden die zijn gevormd uit een samengestelde elektrodelaag.
CA1002208A (en) Semiconductor schottky barrier device
CA938383A (en) Semiconductor devices having a low minority carrier lifetime and process for producing same
AU2457071A (en) Method of fabricating a semiconductor device
JPS559827B1 (https=)
NL165004C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling voorzien van een monokristallijn halfgeleidersubstraat en een uit de dampfase daarop aangebrachte halfgeleidende laag, bestaande uit een polykristallijn gebied en uit ten minste twee monokristallijne gebieden.
NL142825B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een siliciumhalfgeleiderinrichting, en halfgeleiderinrichting, verkregen volgens deze werkwijze.
NL148360B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
CA838346A (en) Process for fabricating semiconductor wafer with oxide-isolated monocrystalline region
CA933675A (en) Method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor device obtained by using the method
NL170686B (nl) Halfgeleiderketen voor fasevergelijking.
CA912708A (en) Process for simultaneously gettering, passivating, and locating a junction within a silicon crystal
CA928870A (en) Method of manufacturing a semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee