NL148360B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.Info
- Publication number
- NL148360B NL148360B NL6704404A NL6704404A NL148360B NL 148360 B NL148360 B NL 148360B NL 6704404 A NL6704404 A NL 6704404A NL 6704404 A NL6704404 A NL 6704404A NL 148360 B NL148360 B NL 148360B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- semi
- manufacture
- well
- manufactured according
- semiconductor device
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
- C23C16/16—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal carbonyl compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020966 | 1966-03-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL6704404A NL6704404A (nl) | 1967-10-02 |
NL148360B true NL148360B (nl) | 1976-01-15 |
Family
ID=12020759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL6704404A NL148360B (nl) | 1966-03-29 | 1967-03-28 | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE696171A (nl) |
CH (1) | CH474854A (nl) |
DE (1) | DE1614136B1 (nl) |
FR (1) | FR1515732A (nl) |
GB (1) | GB1107620A (nl) |
NL (1) | NL148360B (nl) |
SE (1) | SE325338B (nl) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3562606A (en) * | 1969-08-13 | 1971-02-09 | Varian Associates | Subsurface gallium arsenide schottky-type diode and method of fabricating same |
KR102355507B1 (ko) * | 2018-11-14 | 2022-01-27 | (주)디엔에프 | 몰리브덴 함유 박막의 제조방법 및 이로부터 제조된 몰리브덴함유 박막 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE624959A (nl) * | 1961-11-20 | |||
GB1064290A (en) * | 1963-01-14 | 1967-04-05 | Motorola Inc | Method of making semiconductor devices |
-
1967
- 1967-03-13 GB GB1169867A patent/GB1107620A/en not_active Expired
- 1967-03-17 DE DE1967M0073229 patent/DE1614136B1/de not_active Withdrawn
- 1967-03-23 CH CH420567A patent/CH474854A/de not_active IP Right Cessation
- 1967-03-28 NL NL6704404A patent/NL148360B/nl unknown
- 1967-03-28 BE BE696171D patent/BE696171A/xx unknown
- 1967-03-29 SE SE426867A patent/SE325338B/xx unknown
- 1967-03-29 FR FR100631A patent/FR1515732A/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1515732A (fr) | 1968-03-01 |
SE325338B (nl) | 1970-06-29 |
GB1107620A (en) | 1968-03-27 |
NL6704404A (nl) | 1967-10-02 |
BE696171A (nl) | 1967-09-01 |
CH474854A (de) | 1969-06-30 |
DE1614136B1 (de) | 1971-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL142287B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL141329B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een maskerlaag van siliciumnitride, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting. | |
NL152114B (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van een meerlaagshalfgeleiderinrichting en met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting. | |
NL158025B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL153947B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, waarbij een selectief elektrolytisch etsproces wordt toegepast en halfgeleiderinrichting verkregen met toepassing van de werkwijze. | |
NL161616C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL145396B (nl) | Werkwijze ter vervaardiging van een geintegreerde halfgeleiderinrichting en geintegreerde halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL149859B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een ohms contact, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154868B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichtingen volgens deze werkwijze verkregen. | |
NL152116B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL154872B (nl) | Een werkwijze voor het vervaardigen van omhulsels voor halfgeleiderelementen en voor geintegreerde halfgeleiderschakelingen en omhulsels vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL143072B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL141031B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met ten minste een elektrisch geisoleerd halfgeleidergebied, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL153475B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van schoeisel, alsmede schoeisel verkregen onder toepassing van deze werkwijze. | |
NL139843B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichtingen. | |
NL155663B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154062B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling, alsmede geintegreerde halfgeleiderschakeling, vervaardigd met deze werkwijze. | |
NL161920B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting, waarbij de roostervervorming t.g.v. doteerstoffen wordt gecompenseerd. | |
NL161919B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting, die een p,n-overgang bevat. | |
NL154866B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL143734B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze. | |
NL146128B (nl) | Verbetering van een inrichting voor de vervaardiging van vlak drijfglas. | |
NL144778B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting door anisotroop etsen alsmede aldus vervaardigde inrichting. | |
NL143073B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting verkregen door toepassing van deze werkwijze. | |
NL143368B (nl) | Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleiderinrichting voorzien van een transistor, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. |