NL154518B - Werkwijze voor het bereiden van een door uv-bestraling verhardbare samenstelling, alsmede fotografisch element dat een laag bevat, die uit een aldus bereide samenstelling is gevormd. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van een door uv-bestraling verhardbare samenstelling, alsmede fotografisch element dat een laag bevat, die uit een aldus bereide samenstelling is gevormd.

Info

Publication number
NL154518B
NL154518B NL686811281A NL6811281A NL154518B NL 154518 B NL154518 B NL 154518B NL 686811281 A NL686811281 A NL 686811281A NL 6811281 A NL6811281 A NL 6811281A NL 154518 B NL154518 B NL 154518B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
composition
radiation
preparing
prepared
layer formed
Prior art date
Application number
NL686811281A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6811281A (cs
Original Assignee
Agfa Gevaert Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert Nv filed Critical Agfa Gevaert Nv
Publication of NL6811281A publication Critical patent/NL6811281A/xx
Publication of NL154518B publication Critical patent/NL154518B/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G63/685—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen
    • C08G63/6854—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/6856—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/904—Monomer or polymer contains initiating group

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
NL686811281A 1967-08-08 1968-08-08 Werkwijze voor het bereiden van een door uv-bestraling verhardbare samenstelling, alsmede fotografisch element dat een laag bevat, die uit een aldus bereide samenstelling is gevormd. NL154518B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB36394/67A GB1180846A (en) 1967-08-08 1967-08-08 Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6811281A NL6811281A (cs) 1969-01-27
NL154518B true NL154518B (nl) 1977-09-15

Family

ID=10387736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL686811281A NL154518B (nl) 1967-08-08 1968-08-08 Werkwijze voor het bereiden van een door uv-bestraling verhardbare samenstelling, alsmede fotografisch element dat een laag bevat, die uit een aldus bereide samenstelling is gevormd.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3558309A (cs)
BE (1) BE719039A (cs)
DE (1) DE1795089C3 (cs)
FR (1) FR1576141A (cs)
GB (1) GB1180846A (cs)
NL (1) NL154518B (cs)

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3905815A (en) * 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
US4202694A (en) * 1977-04-21 1980-05-13 Polaroid Corporation Pendant oxime polymers and photographic use thereof
FR2393345A1 (fr) * 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
GB2029423A (en) * 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
NO150963C (no) * 1979-01-11 1985-01-16 Scott Bader Co Polyesterharpiksmateriale som er herdbart ved hjelp av synlig lys, og fremgangsmaate til herding av dette
US4282309A (en) * 1979-01-24 1981-08-04 Agfa-Gevaert, N.V. Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer
JPS5695902A (en) * 1979-12-29 1981-08-03 Toyobo Co Ltd Uv-curable resin composition
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
HU196288B (en) * 1985-06-04 1988-11-28 Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar Fungicides containing as active substance new derivatives of fenantren and process for production of the active substance
US4590145A (en) * 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
US5019482A (en) * 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
JP2640470B2 (ja) * 1987-08-19 1997-08-13 旭化成工業株式会社 新しい感光性組成物
JP3498869B2 (ja) * 1995-01-30 2004-02-23 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物を有する画像形成材料
DE69703505T2 (de) 1996-02-26 2001-06-13 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Bildaufzeichnungselement, das eine Zweiphasenbeschichtung mit einer dispergierten hydrophoben photopolymerisierbaren Phase enthält
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
ATE330254T1 (de) 1999-03-03 2006-07-15 Ciba Sc Holding Ag Oximderivate und ihre verwendung als photoinitiatoren
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
US6652970B1 (en) * 2000-07-07 2003-11-25 3M Innovative Properties Company Degradable crosslinkers, compositions therefrom, and methods of their preparation and use
KR100417091B1 (ko) * 2001-05-15 2004-02-05 주식회사 엘지화학 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물
JP3860170B2 (ja) * 2001-06-11 2006-12-20 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
ATE420877T1 (de) * 2002-12-03 2009-01-15 Ciba Holding Inc Heteroaromatische gruppen enthaltende oximester als photointiatoren
KR20130040260A (ko) * 2004-08-18 2013-04-23 시바 홀딩 인크 옥심 에스테르 광개시제
DE602005019888D1 (de) * 2004-08-20 2010-04-22 Adeka Corp Oximesterverbindung und photopolymerisationsinitiator, der eine solche verbindung enthält
JP4650211B2 (ja) * 2005-10-31 2011-03-16 東洋インキ製造株式会社 光重合性組成物
CN102093282B (zh) * 2005-12-01 2014-02-12 西巴控股有限公司 肟酯光敏引发剂
KR100814232B1 (ko) 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
WO2007071497A1 (en) * 2005-12-20 2007-06-28 Ciba Holding Inc. Oxime ester photoinitiators
US8026296B2 (en) * 2005-12-20 2011-09-27 3M Innovative Properties Company Dental compositions including a thermally labile component, and the use thereof
WO2007080947A1 (ja) * 2006-01-13 2007-07-19 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. ジケトオキシムエステル化合物及びその用途
US8911921B2 (en) * 2007-05-11 2014-12-16 Ciba Corporation Oxime ester photoinitiators
ATE496910T1 (de) * 2007-05-11 2011-02-15 Basf Se Oximesther-fotoinitiatoren
EP2144900B1 (en) 2007-05-11 2015-03-18 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5274132B2 (ja) * 2007-07-17 2013-08-28 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ用硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ、及びその製造方法
EP2037323B1 (en) * 2007-07-17 2014-12-10 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions
JP5507054B2 (ja) * 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
CN102112438B (zh) 2008-06-06 2014-07-23 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP4344400B1 (ja) * 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
CN101565472B (zh) 2009-05-19 2011-05-04 常州强力电子新材料有限公司 酮肟酯类光引发剂
CN102459171B (zh) 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
HK1197243A1 (zh) 2011-05-25 2015-01-09 美洲染料资源公司 具有肟酯基和/或酰基的化合物
KR101985054B1 (ko) * 2013-09-02 2019-05-31 인사이트 하이 테크놀로지 씨오., 엘티디. 시클로펜탄디온 옥심 에스테르 및 그 응용
CN104910053B (zh) * 2014-06-09 2017-09-12 北京英力科技发展有限公司 不对称二肟酯化合物及其制造方法与应用
WO2016082304A1 (zh) * 2014-11-28 2016-06-02 北京英力科技发展有限公司 一种光固化阻焊油墨
US11041037B2 (en) 2018-10-01 2021-06-22 Solenis Technologies, L.P. Ultra violet assisted photo initiated free radical polymerization

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE465271A (cs) * 1941-12-31 1900-01-01
DE1099166B (de) * 1959-12-01 1961-02-09 Basf Ag Sensibilisatoren zur Photopolymerisation ungesaettigter organischer Verbindungen

Also Published As

Publication number Publication date
DE1795089A1 (de) 1972-01-20
BE719039A (cs) 1969-02-05
GB1180846A (en) 1970-02-11
DE1795089C3 (de) 1982-03-18
FR1576141A (cs) 1969-07-25
US3558309A (en) 1971-01-26
DE1795089B2 (de) 1981-05-21
NL6811281A (cs) 1969-01-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL154518B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een door uv-bestraling verhardbare samenstelling, alsmede fotografisch element dat een laag bevat, die uit een aldus bereide samenstelling is gevormd.
NL165570B (nl) Werkwijze voor de bereiding van een fotopolymeriseer- bare samenstelling.
NL145369B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotogeleidende samenstelling bevattende een polyvinyl-heterocyclische verbinding en elektrofotografisch materiaal, dat deze samenstelling bevat.
NL141663B (nl) Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige bekledingssamenstelling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van de aldus bereide lichtgevoelige samenstelling.
NL167522C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd.
NL142055B (nl) Werkwijze ter bereiding van een dieetzout en voorwerpen, bestaande uit een met deze werkwijze verkregen dieetzout.
NL146132B (nl) Werkwijze ter bereiding van een bouwmateriaal.
NL7506831A (nl) Werkwijze voor het bereiden van epoxyharsen.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL165763B (nl) Werkwijze voor de bereiding van een fotopolymeriseerbare compositie en reliefplaat met een substaat, gevormd uit deze compositie.
NL146519B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een harsachtige samenstelling met een geringere lichtgevoeligheid.
NL161300C (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleider- inrichting met een zenerdiode en halfgeleiderinrichting vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.
NL7604466A (nl) Werkwijze ter bereiding van een door straling hardbare hars.
FI49473C (fi) Menetelmä tablettien päällystämiseksi.
NL139864B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een dunne film geintegreerde keten, en geintegreerde keten vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL168054B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, ver- vaardigd met toepassing van deze werkwijze.
NL165218B (nl) Werkwijze voor het bepalen van polysacchariden hydrolyserende endohydrolasen alsmede werkwijze voor het bereiden van een daarbij toepasbaar substraat.
NL169937B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gestabiliseerde supergeleider.
NL165313B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een gestabiliseerd polycarbonaat.
NL7407235A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een capsule met daarin een gasvormige radioactieve isotoop, alsmede een aldus vervaardigde capsule.
NL167440C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een evomonosidederi- vaat en van een therapeutisch preparaat, dat een derge- lijk derivaat bevat.
NL165930C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een indaancarbonzuur- verbinding; werkwijze voor het bereiden van een genees- middel tegen ontstekingen.
NL165448B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een 1,1,1,3,3,3-hexa- halogeenisopropyl-methylether.
NL163957C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel tegen kanker, alsmede werkwijze voor het bereiden van een 1,2-di(3,5-dioxopiperazinoalkaanverbinding.
NL161895B (nl) Fotogeleidend element, voorzien van een fotogeleidende laag die glasachtig seleen bevat, dat met arseen is gelegeerd, en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: AGFA GEVAERT