NL167522C - Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd. - Google Patents
Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd.Info
- Publication number
- NL167522C NL167522C NL7107157.A NL7107157A NL167522C NL 167522 C NL167522 C NL 167522C NL 7107157 A NL7107157 A NL 7107157A NL 167522 C NL167522 C NL 167522C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- copy
- mass
- photopolymerizable
- preparing
- layer formed
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3462—Six-membered rings
- C08K5/3465—Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3437—Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/107—Polyamide or polyurethane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/11—Vinyl alcohol polymer or derivative
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2027467A DE2027467C3 (de) | 1970-06-04 | 1970-06-04 | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7107157A NL7107157A (nl) | 1971-12-07 |
NL167522B NL167522B (nl) | 1981-07-16 |
NL167522C true NL167522C (nl) | 1981-12-16 |
Family
ID=5773024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7107157.A NL167522C (nl) | 1970-06-04 | 1971-05-25 | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd. |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3751259A (nl) |
JP (1) | JPS5327605B1 (nl) |
AT (1) | AT307225B (nl) |
BE (1) | BE767961A (nl) |
CA (1) | CA959699A (nl) |
CH (1) | CH568586A5 (nl) |
CS (1) | CS208687B2 (nl) |
DE (1) | DE2027467C3 (nl) |
DK (1) | DK130997B (nl) |
ES (1) | ES391854A1 (nl) |
FI (1) | FI53631C (nl) |
FR (1) | FR2095907A5 (nl) |
GB (1) | GB1354541A (nl) |
NL (1) | NL167522C (nl) |
NO (1) | NO134233C (nl) |
PL (1) | PL87151B1 (nl) |
SE (1) | SE379864B (nl) |
SU (1) | SU505383A3 (nl) |
YU (1) | YU34307B (nl) |
ZA (1) | ZA713587B (nl) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3959100A (en) * | 1973-11-08 | 1976-05-25 | Scm Corporation | Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same |
DE2361041C3 (de) * | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US4198236A (en) * | 1974-01-21 | 1980-04-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparation of lithographic printing plate having addition polymerized areas and binder areas |
US4147549A (en) * | 1975-09-17 | 1979-04-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Lithographic printing plate having addition polymerized areas and binder areas |
DE2558812A1 (de) * | 1975-12-27 | 1977-07-07 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopiermassen und darin enthaltene photoinitiatoren |
DE2850585A1 (de) * | 1978-11-22 | 1980-06-04 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE3232621A1 (de) * | 1982-09-02 | 1984-03-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | 1,3-diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch |
DE3232620A1 (de) * | 1982-09-02 | 1984-03-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch |
US4610951A (en) * | 1983-06-06 | 1986-09-09 | Dynachem Corporation | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition |
US4539286A (en) * | 1983-06-06 | 1985-09-03 | Dynachem Corporation | Flexible, fast processing, photopolymerizable composition |
JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
DE3560654D1 (en) * | 1984-02-18 | 1987-10-22 | Basf Ag | Photosensitive recording material |
DE3409888A1 (de) * | 1984-03-17 | 1985-09-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung |
DE3420425A1 (de) * | 1984-06-01 | 1985-12-05 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch, das als photoinitiator ein 1,3,10-triazaanthracen-4-on- enthaelt |
DE3504254A1 (de) | 1985-02-08 | 1986-08-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3613632A1 (de) * | 1986-04-23 | 1987-10-29 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
DE3619129A1 (de) * | 1986-06-06 | 1987-12-10 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3619698A1 (de) * | 1986-06-16 | 1987-12-17 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3706561A1 (de) * | 1987-02-28 | 1988-09-08 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet |
DE3878349T2 (de) * | 1987-03-17 | 1993-05-27 | Hitachi Chemical Co Ltd | Substituierte acridin-derivate und deren verwendung. |
DE3710281A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743457A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743454A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US4985564A (en) * | 1988-09-03 | 1991-01-15 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Acridine compound and photopolymerizable composition using the same |
DE3843205A1 (de) * | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
DE3843204A1 (de) * | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US5217845A (en) * | 1988-12-22 | 1993-06-08 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same |
DE3926708A1 (de) * | 1989-08-12 | 1991-02-14 | Basf Ag | Photopolymerisierbares schichtuebertragungsmaterial |
DE4007428A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE19548623A1 (de) * | 1995-12-23 | 1997-06-26 | Hoechst Ag | 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische |
SG78412A1 (en) | 1999-03-31 | 2001-02-20 | Ciba Sc Holding Ag | Oxime derivatives and the use thereof as latent acids |
JP4458389B2 (ja) | 2000-05-01 | 2010-04-28 | コダック株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
JP2002040631A (ja) | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd | 平版印刷版用感光性組成物および感光性平版印刷版 |
JP3503639B2 (ja) | 2000-09-27 | 2004-03-08 | 日立化成工業株式会社 | レジストパターン、その製造法およびその利用 |
DE60325257D1 (de) * | 2002-10-24 | 2009-01-22 | Toray Industries | Druckplattenoriginal mit lichtempfindlichem harz, prozess zu seiner herstellung und prozess zur herstellung einer harzreliefdruckplatte damit |
CN101980082B (zh) | 2003-11-19 | 2013-07-17 | 日立化成株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性组件、抗蚀图的形成方法及印刷电路板的制造方法 |
US7544754B2 (en) * | 2005-09-30 | 2009-06-09 | 3M Innovative Properties Company | Crosslinked polymers with amine binding groups |
EP2539316B1 (en) | 2010-02-24 | 2019-10-23 | Basf Se | Latent acids and their use |
CN107207456B (zh) | 2015-02-02 | 2021-05-04 | 巴斯夫欧洲公司 | 潜酸及其用途 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2980535A (en) * | 1954-01-05 | 1961-04-18 | Feldmuhle Papier Und Zellstoff | Light sensitive layers of synthetic materials |
US2969731A (en) * | 1954-05-24 | 1961-01-31 | Unexposed area | |
US3515552A (en) * | 1966-09-16 | 1970-06-02 | Minnesota Mining & Mfg | Light-sensitive imaging sheet and method of using |
-
1970
- 1970-06-04 DE DE2027467A patent/DE2027467C3/de not_active Expired
-
1971
- 1971-05-25 NL NL7107157.A patent/NL167522C/nl not_active IP Right Cessation
- 1971-06-01 AT AT471671A patent/AT307225B/de not_active IP Right Cessation
- 1971-06-01 BE BE767961A patent/BE767961A/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-06-01 CH CH793071A patent/CH568586A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-06-01 CA CA114,463A patent/CA959699A/en not_active Expired
- 1971-06-02 SE SE7107120A patent/SE379864B/xx unknown
- 1971-06-02 US US00149396A patent/US3751259A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-06-02 GB GB1862371*[A patent/GB1354541A/en not_active Expired
- 1971-06-02 ES ES391854A patent/ES391854A1/es not_active Expired
- 1971-06-03 ZA ZA713587A patent/ZA713587B/xx unknown
- 1971-06-03 YU YU1437/71A patent/YU34307B/xx unknown
- 1971-06-03 FI FI1551/71A patent/FI53631C/fi active
- 1971-06-03 NO NO2093/71A patent/NO134233C/no unknown
- 1971-06-03 DK DK269671AA patent/DK130997B/da not_active IP Right Cessation
- 1971-06-03 FR FR7120237A patent/FR2095907A5/fr not_active Expired
- 1971-06-03 PL PL1971148593A patent/PL87151B1/pl unknown
- 1971-06-04 CS CS714115A patent/CS208687B2/cs unknown
- 1971-06-04 JP JP3926071A patent/JPS5327605B1/ja active Pending
- 1971-06-04 SU SU1668647A patent/SU505383A3/ru active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2095907A5 (nl) | 1972-02-11 |
DK130997C (nl) | 1975-10-13 |
NO134233C (nl) | 1976-09-01 |
NL7107157A (nl) | 1971-12-07 |
FI53631B (nl) | 1978-02-28 |
JPS5327605B1 (nl) | 1978-08-09 |
SE379864B (nl) | 1975-10-20 |
CH568586A5 (nl) | 1975-10-31 |
CS208687B2 (en) | 1981-09-15 |
BE767961A (fr) | 1971-12-01 |
NO134233B (nl) | 1976-05-24 |
SU505383A3 (ru) | 1976-02-28 |
ES391854A1 (es) | 1974-06-01 |
AT307225B (de) | 1973-05-10 |
NL167522B (nl) | 1981-07-16 |
DE2027467A1 (de) | 1971-12-09 |
DE2027467B2 (de) | 1974-01-24 |
US3751259A (en) | 1973-08-07 |
YU143771A (en) | 1978-10-31 |
FI53631C (fi) | 1978-06-12 |
PL87151B1 (nl) | 1976-06-30 |
YU34307B (en) | 1979-04-30 |
ZA713587B (en) | 1972-03-29 |
DK130997B (da) | 1975-05-12 |
GB1354541A (en) | 1974-06-05 |
DE2027467C3 (de) | 1974-08-15 |
CA959699A (en) | 1974-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL167522C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd. | |
NL164973C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede met aldus bereide kopieermassa vervaardigd fotopolymeriseerbaar materiaal. | |
NL165849C (nl) | Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat. | |
NL172274C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig kopieermateriaal dat is voorzien van een laag gevormd uit een aldus bereide kopieermassa, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een kopie onder toepassing van een dergelijk lichtgevoelig kopieermateriaal. | |
NL185244C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een stralingsgevoelige kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat een laag uit een dergelijke kopieermassa bevat. | |
NL157623B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een gesegmenteerde thermoplastische copolyester. | |
NL165570C (nl) | Werkwijze voor de bereiding van een fotopolymeriseerbare samenstelling. | |
NL169522C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gevormd voortbrengsel vervaardigd onder toepassing van een aldus bereide kopieermassa. | |
NL155300C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een thermoplastische massa en daaruit gevormd voortbrengsel. | |
NL170646C (nl) | Werkwijze voor het in een vlak oppervlak van een voorwerp vormen van verdiepte delen. | |
NL174801C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een rookmateriaal. | |
NL187389C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een niet-schuimend dispergeermiddel. | |
NL7509107A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een druk- plaat voor diepdrukken en volgens deze werkwijze vervaardigde diepdrukplaat. | |
NL175318C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een saccharase-inhibitor. | |
NL172653C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel met antimycotische werking en werkwijze voor het bereiden van geneeskrachtige joodpropargyloxyareenderivaten. | |
NL170733C (nl) | Werkwijze voor het bereiden of vervaardigen van een geneesmiddel en werkwijze voor het bereiden van een geneeskrachtige verbinding. | |
NL172276C (nl) | Fotografisch materiaal alsmede werkwijze voor het bereiden van een diffusievaste verbinding die geschikt is om in dat materiaal te worden opgenomen. | |
NL149295B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelig preparaat, alsmede lichtgevoelig materiaal dat van een aldus bereid preparaat is voorzien. | |
NL161150C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel, alsmede verkregen gevormd geneesmiddel en werkwijze voor het bereiden van een benzofuranverbinding. | |
NL164399C (nl) | Kopieermateriaal dat een drager bevat waarop een licht- gevoelige laag is aangebracht, alsmede werkwijze voor het bereiden van een voor het vormen van genoemde laag te gebruiken lichtgevoelig mengsel. | |
NL165850C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van fotopolymeriseerbare kopieermassa's, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat. | |
NL176868C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een poedervormig reinigingsmiddel. | |
NL158161B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een monohalogeenacylhalogenide. | |
NL176867C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een poedervormig reinigingsmiddel. | |
NL170301C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een luminescerend materiaal. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |