NL167522C - Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd.

Info

Publication number
NL167522C
NL167522C NL7107157.A NL7107157A NL167522C NL 167522 C NL167522 C NL 167522C NL 7107157 A NL7107157 A NL 7107157A NL 167522 C NL167522 C NL 167522C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
copy
mass
photopolymerizable
preparing
layer formed
Prior art date
Application number
NL7107157.A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7107157A (nl
NL167522B (nl
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of NL7107157A publication Critical patent/NL7107157A/xx
Publication of NL167522B publication Critical patent/NL167522B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL167522C publication Critical patent/NL167522C/nl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3462Six-membered rings
    • C08K5/3465Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432Six-membered rings
    • C08K5/3437Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/107Polyamide or polyurethane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/11Vinyl alcohol polymer or derivative
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
NL7107157.A 1970-06-04 1971-05-25 Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd. NL167522C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2027467A DE2027467C3 (de) 1970-06-04 1970-06-04 Photopolymerisierbare Kopiermasse

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7107157A NL7107157A (nl) 1971-12-07
NL167522B NL167522B (nl) 1981-07-16
NL167522C true NL167522C (nl) 1981-12-16

Family

ID=5773024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7107157.A NL167522C (nl) 1970-06-04 1971-05-25 Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd.

Country Status (20)

Country Link
US (1) US3751259A (nl)
JP (1) JPS5327605B1 (nl)
AT (1) AT307225B (nl)
BE (1) BE767961A (nl)
CA (1) CA959699A (nl)
CH (1) CH568586A5 (nl)
CS (1) CS208687B2 (nl)
DE (1) DE2027467C3 (nl)
DK (1) DK130997B (nl)
ES (1) ES391854A1 (nl)
FI (1) FI53631C (nl)
FR (1) FR2095907A5 (nl)
GB (1) GB1354541A (nl)
NL (1) NL167522C (nl)
NO (1) NO134233C (nl)
PL (1) PL87151B1 (nl)
SE (1) SE379864B (nl)
SU (1) SU505383A3 (nl)
YU (1) YU34307B (nl)
ZA (1) ZA713587B (nl)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3959100A (en) * 1973-11-08 1976-05-25 Scm Corporation Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same
DE2361041C3 (de) * 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4198236A (en) * 1974-01-21 1980-04-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for preparation of lithographic printing plate having addition polymerized areas and binder areas
US4147549A (en) * 1975-09-17 1979-04-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Lithographic printing plate having addition polymerized areas and binder areas
DE2558812A1 (de) * 1975-12-27 1977-07-07 Hoechst Ag Lichtempfindliche kopiermassen und darin enthaltene photoinitiatoren
DE2850585A1 (de) * 1978-11-22 1980-06-04 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3232621A1 (de) * 1982-09-02 1984-03-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 1,3-diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
DE3232620A1 (de) * 1982-09-02 1984-03-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
JPS59226002A (ja) * 1983-06-06 1984-12-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE3560654D1 (en) * 1984-02-18 1987-10-22 Basf Ag Photosensitive recording material
DE3409888A1 (de) * 1984-03-17 1985-09-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung
DE3420425A1 (de) * 1984-06-01 1985-12-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch, das als photoinitiator ein 1,3,10-triazaanthracen-4-on- enthaelt
DE3504254A1 (de) 1985-02-08 1986-08-14 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Lichtempfindliches aufzeichnungselement
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3619129A1 (de) * 1986-06-06 1987-12-10 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement
DE3619698A1 (de) * 1986-06-16 1987-12-17 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement
DE3706561A1 (de) * 1987-02-28 1988-09-08 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet
DE3878349T2 (de) * 1987-03-17 1993-05-27 Hitachi Chemical Co Ltd Substituierte acridin-derivate und deren verwendung.
DE3710281A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743457A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743454A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4985564A (en) * 1988-09-03 1991-01-15 Hitachi Chemical Co., Ltd. Acridine compound and photopolymerizable composition using the same
DE3843205A1 (de) * 1988-12-22 1990-06-28 Hoechst Ag Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3843204A1 (de) * 1988-12-22 1990-06-28 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5217845A (en) * 1988-12-22 1993-06-08 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same
DE3926708A1 (de) * 1989-08-12 1991-02-14 Basf Ag Photopolymerisierbares schichtuebertragungsmaterial
DE4007428A1 (de) * 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE19548623A1 (de) * 1995-12-23 1997-06-26 Hoechst Ag 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische
SG78412A1 (en) 1999-03-31 2001-02-20 Ciba Sc Holding Ag Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
JP4458389B2 (ja) 2000-05-01 2010-04-28 コダック株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2002040631A (ja) 2000-07-19 2002-02-06 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 平版印刷版用感光性組成物および感光性平版印刷版
JP3503639B2 (ja) 2000-09-27 2004-03-08 日立化成工業株式会社 レジストパターン、その製造法およびその利用
DE60325257D1 (de) * 2002-10-24 2009-01-22 Toray Industries Druckplattenoriginal mit lichtempfindlichem harz, prozess zu seiner herstellung und prozess zur herstellung einer harzreliefdruckplatte damit
CN101980082B (zh) 2003-11-19 2013-07-17 日立化成株式会社 感光性树脂组合物、感光性组件、抗蚀图的形成方法及印刷电路板的制造方法
US7544754B2 (en) * 2005-09-30 2009-06-09 3M Innovative Properties Company Crosslinked polymers with amine binding groups
EP2539316B1 (en) 2010-02-24 2019-10-23 Basf Se Latent acids and their use
CN107207456B (zh) 2015-02-02 2021-05-04 巴斯夫欧洲公司 潜酸及其用途

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2980535A (en) * 1954-01-05 1961-04-18 Feldmuhle Papier Und Zellstoff Light sensitive layers of synthetic materials
US2969731A (en) * 1954-05-24 1961-01-31 Unexposed area
US3515552A (en) * 1966-09-16 1970-06-02 Minnesota Mining & Mfg Light-sensitive imaging sheet and method of using

Also Published As

Publication number Publication date
FR2095907A5 (nl) 1972-02-11
DK130997C (nl) 1975-10-13
NO134233C (nl) 1976-09-01
NL7107157A (nl) 1971-12-07
FI53631B (nl) 1978-02-28
JPS5327605B1 (nl) 1978-08-09
SE379864B (nl) 1975-10-20
CH568586A5 (nl) 1975-10-31
CS208687B2 (en) 1981-09-15
BE767961A (fr) 1971-12-01
NO134233B (nl) 1976-05-24
SU505383A3 (ru) 1976-02-28
ES391854A1 (es) 1974-06-01
AT307225B (de) 1973-05-10
NL167522B (nl) 1981-07-16
DE2027467A1 (de) 1971-12-09
DE2027467B2 (de) 1974-01-24
US3751259A (en) 1973-08-07
YU143771A (en) 1978-10-31
FI53631C (fi) 1978-06-12
PL87151B1 (nl) 1976-06-30
YU34307B (en) 1979-04-30
ZA713587B (en) 1972-03-29
DK130997B (da) 1975-05-12
GB1354541A (en) 1974-06-05
DE2027467C3 (de) 1974-08-15
CA959699A (en) 1974-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL167522C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd.
NL164973C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede met aldus bereide kopieermassa vervaardigd fotopolymeriseerbaar materiaal.
NL165849C (nl) Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat.
NL172274C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig kopieermateriaal dat is voorzien van een laag gevormd uit een aldus bereide kopieermassa, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een kopie onder toepassing van een dergelijk lichtgevoelig kopieermateriaal.
NL185244C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een stralingsgevoelige kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat een laag uit een dergelijke kopieermassa bevat.
NL157623B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een gesegmenteerde thermoplastische copolyester.
NL165570C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een fotopolymeriseerbare samenstelling.
NL169522C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gevormd voortbrengsel vervaardigd onder toepassing van een aldus bereide kopieermassa.
NL155300C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een thermoplastische massa en daaruit gevormd voortbrengsel.
NL170646C (nl) Werkwijze voor het in een vlak oppervlak van een voorwerp vormen van verdiepte delen.
NL174801C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een rookmateriaal.
NL187389C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een niet-schuimend dispergeermiddel.
NL7509107A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een druk- plaat voor diepdrukken en volgens deze werkwijze vervaardigde diepdrukplaat.
NL175318C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een saccharase-inhibitor.
NL172653C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel met antimycotische werking en werkwijze voor het bereiden van geneeskrachtige joodpropargyloxyareenderivaten.
NL170733C (nl) Werkwijze voor het bereiden of vervaardigen van een geneesmiddel en werkwijze voor het bereiden van een geneeskrachtige verbinding.
NL172276C (nl) Fotografisch materiaal alsmede werkwijze voor het bereiden van een diffusievaste verbinding die geschikt is om in dat materiaal te worden opgenomen.
NL149295B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelig preparaat, alsmede lichtgevoelig materiaal dat van een aldus bereid preparaat is voorzien.
NL161150C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel, alsmede verkregen gevormd geneesmiddel en werkwijze voor het bereiden van een benzofuranverbinding.
NL164399C (nl) Kopieermateriaal dat een drager bevat waarop een licht- gevoelige laag is aangebracht, alsmede werkwijze voor het bereiden van een voor het vormen van genoemde laag te gebruiken lichtgevoelig mengsel.
NL165850C (nl) Werkwijze voor het bereiden van fotopolymeriseerbare kopieermassa's, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat.
NL176868C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een poedervormig reinigingsmiddel.
NL158161B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een monohalogeenacylhalogenide.
NL176867C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een poedervormig reinigingsmiddel.
NL170301C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een luminescerend materiaal.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent