NL165849C - Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat. - Google Patents

Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat.

Info

Publication number
NL165849C
NL165849C NL7110562.A NL7110562A NL165849C NL 165849 C NL165849 C NL 165849C NL 7110562 A NL7110562 A NL 7110562A NL 165849 C NL165849 C NL 165849C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
copy mass
fresensized
photopolymerisable
preparing
layer
Prior art date
Application number
NL7110562.A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7110562A (nl
NL165849B (nl
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of NL7110562A publication Critical patent/NL7110562A/xx
Publication of NL165849B publication Critical patent/NL165849B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL165849C publication Critical patent/NL165849C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
NL7110562.A 1970-08-11 1971-07-30 Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat. NL165849C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2039861A DE2039861C3 (de) 1970-08-11 1970-08-11 Photopolymensierbare Kopier masse

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7110562A NL7110562A (nl) 1972-02-15
NL165849B NL165849B (nl) 1980-12-15
NL165849C true NL165849C (nl) 1981-05-15

Family

ID=5779444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7110562.A NL165849C (nl) 1970-08-11 1971-07-30 Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat.

Country Status (17)

Country Link
US (1) US3765898A (nl)
JP (1) JPS545293B1 (nl)
AT (1) AT310553B (nl)
AU (1) AU451129B2 (nl)
BE (1) BE771108A (nl)
BR (1) BR7105137D0 (nl)
CA (1) CA973420A (nl)
CS (1) CS157724B2 (nl)
DE (1) DE2039861C3 (nl)
ES (1) ES394122A1 (nl)
FR (1) FR2102175B1 (nl)
GB (1) GB1357367A (nl)
NL (1) NL165849C (nl)
NO (1) NO132775C (nl)
PL (1) PL85202B1 (nl)
SE (1) SE370582B (nl)
ZA (1) ZA715281B (nl)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4001017A (en) * 1972-12-05 1977-01-04 Ciba-Geigy Ag Process for the photopolymerization of ethylenically unsaturated compounds
CH573448A5 (nl) * 1972-12-05 1976-03-15 Ciba Geigy Ag
US3873319A (en) * 1974-01-31 1975-03-25 Minnesota Mining & Mfg Dry-film negative photoresist having amidized styrene-maleic anhydride binder material
DE2558812C2 (de) * 1975-12-27 1987-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4273857A (en) * 1976-01-30 1981-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4239849A (en) * 1978-06-19 1980-12-16 Dynachem Corporation Polymers for aqueous processed photoresists
DE2850585A1 (de) * 1978-11-22 1980-06-04 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
US4353978A (en) * 1979-08-14 1982-10-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4485167A (en) * 1980-10-06 1984-11-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photopolymerizable elements
US4517281A (en) * 1980-10-06 1985-05-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Development process for aqueous developable photopolymerizable elements
US4365019A (en) 1981-08-06 1982-12-21 Eastman Kodak Company Positive-working resist quinone diazide containing composition and imaging method having improved development rates
DE3340210C2 (de) * 1982-04-07 1995-06-22 Sony Corp Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung eines Bildes
DE3232621A1 (de) * 1982-09-02 1984-03-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 1,3-diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
DE3232620A1 (de) * 1982-09-02 1984-03-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
DE3420039A1 (de) * 1984-05-29 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 2,3-bis(dialkylaminophenyl)chinoxaline und ihre verwendung in elektrophotographischen aufzeichnungsmaterialien
DE3420425A1 (de) * 1984-06-01 1985-12-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch, das als photoinitiator ein 1,3,10-triazaanthracen-4-on- enthaelt
DE3537380A1 (de) * 1985-10-21 1987-04-23 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US4940648A (en) * 1988-02-12 1990-07-10 Hoechst Celanese Corporation Increased sensitivity photoinitiation compositions
EP0758103B1 (en) 1995-08-08 2001-12-12 Agfa-Gevaert N.V. Process of forming a metal image
EP0762214A1 (en) 1995-09-05 1997-03-12 Agfa-Gevaert N.V. Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer
US5753414A (en) * 1995-10-02 1998-05-19 Macdermid Imaging Technology, Inc. Photopolymer plate having a peelable substrate
US5935759A (en) * 1996-04-23 1999-08-10 Agfa-Gevaert Method for making a multicolor image and photosensitive material therefor
US6184226B1 (en) * 1998-08-28 2001-02-06 Scios Inc. Quinazoline derivatives as inhibitors of P-38 α
US6555288B1 (en) 1999-06-21 2003-04-29 Corning Incorporated Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US6306563B1 (en) 1999-06-21 2001-10-23 Corning Inc. Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
JP4574606B2 (ja) * 2002-11-13 2010-11-04 株式会社半導体エネルギー研究所 電界発光素子
WO2004043937A1 (ja) * 2002-11-13 2004-05-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. キノキサリン誘導体、有機半導体素子および電界発光素子
US8071260B1 (en) * 2004-06-15 2011-12-06 Inphase Technologies, Inc. Thermoplastic holographic media
KR101426513B1 (ko) * 2006-09-29 2014-08-05 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 퀴녹살린 유도체, 발광소자, 발광장치 및 전자기기
CN102241637A (zh) * 2011-06-29 2011-11-16 泰山医学院 2,3-二苯基-6-酰胺基喹喔啉化合物及制备方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3479185A (en) * 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
DE1597784C3 (de) * 1967-08-31 1976-01-02 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Sensibilisierte Druckplatte

Also Published As

Publication number Publication date
JPS545293B1 (nl) 1979-03-15
SE370582B (nl) 1974-10-21
AU451129B2 (en) 1974-07-25
FR2102175A1 (nl) 1972-04-07
PL85202B1 (nl) 1976-04-30
AT310553B (de) 1973-10-10
BE771108A (fr) 1972-02-09
ES394122A1 (es) 1975-09-16
GB1357367A (en) 1974-06-19
CA973420A (en) 1975-08-26
DE2039861C3 (de) 1973-12-13
FR2102175B1 (nl) 1979-08-17
DE2039861A1 (de) 1972-02-17
NO132775C (nl) 1976-01-07
NL7110562A (nl) 1972-02-15
NO132775B (nl) 1975-09-22
SU438204A3 (ru) 1974-07-30
BR7105137D0 (pt) 1973-04-12
AU3223071A (en) 1973-02-15
DE2039861B2 (de) 1973-05-30
ZA715281B (en) 1972-04-26
NL165849B (nl) 1980-12-15
US3765898A (en) 1973-10-16
CS157724B2 (nl) 1974-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL165849C (nl) Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gefresensibiliseerde plaat die een laag van een aldus bereide kopieermassa bevat.
NL164973C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede met aldus bereide kopieermassa vervaardigd fotopolymeriseerbaar materiaal.
NL165570C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een fotopolymeriseerbare samenstelling.
NL169522C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gevormd voortbrengsel vervaardigd onder toepassing van een aldus bereide kopieermassa.
NL167522C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd.
NL158072B (nl) Werkwijze ter bereiding van een kosmetisch preparaat.
NL153162B (nl) Werkwijze ter bereiding van een klei bevattend mengsel.
NL154513B (nl) Werkwijze ter bereiding van een polyeen antibioticum, alsmede werkwijze ter bereiding van een farmaceutisch preparaat en aldus verkregen voorwerp.
NL163793C (nl) Werkwijze ter bereiding van een zetmeelester.
NL166703C (nl) Werkwijze ter bereiding van een samenstelling, die een polyfenyleenether en een rubber bevat, alsmede daaruit vervaardigde voorwerpen.
NL162053B (nl) Werkwijze ter bereiding van alpha,beta-onverzadigde aldehyden.
NL158300B (nl) Werkwijze ter bereiding van een fotopolymeermateriaal, benevens lichtgevoelige, lithografische drukplaat.
NL151380B (nl) Werkwijze ter bereiding van een 7-halogeen-7-desoxylincomycine.
NL7500613A (nl) Werkwijze ter bereiding van een geneesmiddel, zo gevormd geneesmiddel en werkwijze ter berei- ding van daartoe geschikte geneeskrachtige ver- bindingen.
NL167185C (nl) Werkwijze ter bereiding van een gemodificeerd dieen- polymeer.
NL167323C (nl) Werkwijze ter bereiding van een psychofarmacologisch preparaat.
NL164057B (nl) Werkwijze ter bereiding van een samengesteld acryl- polymeer, alsmede werkwijze ter bereiding van gemodifi- ceerd polyvinylhalogenide.
NL152880B (nl) Werkwijze ter bereiding van een blokcopolymeer.
NL7509184A (nl) Werkwijze ter bereiding van een geneesmiddel, zo gevormd geneesmiddel en werkwijze ter bereiding van daartoe geschikte geneeskrachtige verbin- dingen.
NL155584B (nl) Werkwijze ter bereiding van een tonermengsel en aldus verkregen gevormde voortbrengselen.
NL173365C (nl) Werkwijze ter bereiding van een dragerkatalysator en werkwijze ter bereiding van acrylonitrile onder toepassing van een aldus bereide dragerkatalysator.
NL150258B (nl) Werkwijze ter bereiding van een vast elektrolyt.
NL159699B (nl) Werkwijze ter bereiding van een vulcaniseerbaar materiaal.
NL168335B (nl) Werkwijze ter bereiding van een glycerol-standaard- oplossing.
NL7416930A (nl) Werkwijze ter bereiding van een tricyclische koolwaterstof, alsmede werkwijze ter bereiding van een parfum hiermede.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent