PL85202B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL85202B1
PL85202B1 PL1971149954A PL14995471A PL85202B1 PL 85202 B1 PL85202 B1 PL 85202B1 PL 1971149954 A PL1971149954 A PL 1971149954A PL 14995471 A PL14995471 A PL 14995471A PL 85202 B1 PL85202 B1 PL 85202B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
pattern
mass
groups
weight
copying
Prior art date
Application number
PL1971149954A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Kalle Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kalle Ag filed Critical Kalle Ag
Publication of PL85202B1 publication Critical patent/PL85202B1/pl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest nowa fotopolimery- zntjaca masa do kopiowania, która wystepuje w po¬ staci cieklej lub jako stala warstwa na nosniku i zawiera jako zasadnicze skladniki co najmniej je¬ den srodek wiazacy, co najmniej jeden zwiazek zdolny do polimeryzacji i co najmniej jeden foto- iriicjator.Znanymi fotoinicjatorami dla fbtopolimeryzacji zwiazków nienasyconych sa np. hydrazony, piecio- czlonowe zawierajace azot zwiazki heterocykliczne, zwiazki merkaptianowe, sole piiryliowe lub tiopiry- liowe, wielopierscieniowe chinony, symergiczme mie¬ szaniny róznych ketonów ze soba i uklady barw- niik/redoksy.Wada wiekszosci tych zwiazków polega na tym, ze nadaja sie one tylko do scisle okreslonych warstw swiatloczulych. Ich stosunkowo niewielka aktywnosc wystarcza w wiekszosci przypadków akurat do fotosieciowania wielkoczasteczkowych, nienasyconych srodków wiazacych, np. policynamo- niainu winylu lub opisanych w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 427 161 aikry- loiwanych zywic epoksydowych, jednak do foitopoli- meryzaicji mailoczasteczkowych zwiaJzków winylo¬ wych jest normalnie nieprzydatna.Inne fotoinicijatory, np. wymienione w holender¬ skim zgloszeniu patentowym nr 6715 »5i6, wymagaja do zwiekszenia ich swiatloczulosci dodatku odpo¬ wiednich uczulaiczy barwnikowych, Tosamo dotyczy cytowanych w niemieckim opisie patentowym DAS nr 1 4i95 973 hydrazonów, które sa ponadto niesta¬ bilne i dlatego nie nadaja sie do wytwarzania warstw nadajacych sie do 'magazynowania.Inne znów, np. wielopierscienowe chinony, powo¬ duja podczas fotopolimeryzacji usieciowanie tylko w stosunkowo niewielkim stopniu tak, ze zróznico¬ wanie miejsc obrazu i tla udaje sie dopiero przy uzyciu wiekszych ilosci iniojatoria.Opisany w opisie patentowym Stanów Zjedno¬ czonych Ameryki nr 3 097 096 uklad barwnik/re- doksy nadaje sie tylko do roztworów lub w kom¬ binacji z rozpuszczalnymi w wodzie koloidami jako srodkami wiazacymi. Galarety powstajace przy na¬ swietlaniu nie nadaja sie jednak do wytwarzania zdolnych do eksploatacji form drukarskich, gdyz ich gestosc usieciowana jest za mala, a powierzchnia zbyt hydrofilowa.Obecnie znaleziono nowa grupe fotoinlcjiatorów, których zdolnosc inicjowania w obszarze widma 3010—430 tu przewyzsza znane dotychczas inicjatory.Dalsza zaleta stosowanych wedlug wynalazku fo- toinicjaitorów jest to, ze wykluczaja katalizowana cieplnie polimeryzacje addycyjna zwiazków akrylo¬ wych i tym samym daja moznosc wytwarzania warstw do kopiowania nadajacych sie do magazy¬ nowania.Fotopolimeryzujaca masa do kopiowania wedlug wynalazku zawiera co najmniej jeden srodek wia- 85 20285 202 3 zacy, co najmniej jeden zwiazek zdolny do poli¬ meryzacji i co najmniej jeden fotoinicjator i od¬ znacza sie tym, ze jako fotoinicjaltoir zawiera zwia¬ zek o ogólnym wzorze 1, w którym Z i Q sa od sie¬ bie rózne i oznaczaja albo atom azotu albo grupe o wzorze C-hR' X i T sa jednakowe albo rózne i oznaczaja atom azotu albo grujpe o wzorze C—R", R i R' sa jedmakowe albo rózne i oznaczaja rodni¬ ki a'lkllowe„ aralkenylowe, arylowe albo pirydylowe % R" i R" oznaczaja atibmy wodoru, altomy chlo¬ rowca, grupy nitrowe, aminowe, acyloaiminowe, al¬ kilowe, alkoksylowe albo arallkeinyiowe albo jako kazdorazowo dw^ie sasiadujace grupy razem ozna¬ czaja przykondensowany pierscien benzenowy.Wedlug wynalazku korzystne sa takie inicjatory, które odipowialdaja ogólnemu wzorowi 2, w którym X oznacza atom azotu lub grupe CHR5; R3, R4 i R5 sa takie same lub rózne i oznaczaja ato¬ my wodoru,, atomy chlorowców, grupy alkilowe, aralkilowe, alkoksylowe lub acyloaminowe, lub w którym R'3 i R4 lub R4 i R5 wspólnie razem oznaczaja skondensowany pierscien benzenowy, Re i R7 sa takie same lub rózne i oznaczaja atomy wodoru, grupy alkilowe lub aDUkoIksydowe, i R'g i R'7 oznaczaja atomy wodoru lub tworza razem z podstawnikami sasiednimi R6 lulb R7 grupy alki- lencdwuhydtroksylolwe.Szczególnie wysokie swiatloczulosci uzyskuje sie z takimi Mejatorami, w których rodniki R6 i R7 oznaczaja gru(py alkoksylowe, w szczególnosci me- toksylowe.Równiez w innych miejscach czasteczki, nip. jako rodtiifei R3, R4 lub R5, gruipy aLkdksylowe wywie¬ raja korzystne dzialainie.Dzialanie to jest szczególnie nieoczekiwane, gdyz w [przypadku znanych fotoiniqjatorów, np. benzofe- nonu i benzylu, przy podstawieniu grupami alko- ksylowymi nie obserwuje sie zadnego zwiejkszenia aktywnosci inicjatora.Masa do kopiowania wedlug wynalazku moze byc zuzytkowana przemyslowo w postaci roztworu lub dyspersji, np. jako tak zwany lakier do kopiowania, którym uzytkownik sam moze pokryc odpowiedni nosnik, np. do trawienia czesci form, do wytworze¬ nia obwodów drukowanych, szablonów, szyldów,, form do druku sitowego iitp., a po wysuszeniu na¬ swietlic i wywolac w celu otrzymania warstwy roz¬ mieszczonej w formie obrazu.Masa do kopiowania moze w szczególnosci byc dostarczana na irynek równiez w postaci stalych warstw fotopolimeryzujacych, znajdujacych sie na nosniku, jako swiatloczuly material do kopiowania sluzacy do wytwarzania farm drukarskich, obrazów grawerowanych, rezerw trawiennych, szablonów, matryc, form do sitodruku, folii do prób barwni¬ ków, pojedynczych kopii itp. Waznym zastosowa¬ niem jest przede wszystikim wytwarzanie uczulo¬ nych wstepnie, trwalych podczas magazynowania, plyt drukarskich do druku plaskiego, wypuklego i wkleslego.Stosowane wedlug wynalazku fotoiiniicjatory sa jako zwiazki chemiczne przewaznie znane i opisane np. w „The Ring Index", 2 wydanie, nakladem American Chemical Society, Washington, USA.Przyporzadkowany tam kazdemu skondensowanemu ukladowi heterocyklicznemu numer RRI (RRl=Re- vised Ring Index) podany jest dla Identyfikacji w zestawieniu w tablicy 1. Ogólne wzory 1 i 2, jak równiez struktury pierscieniowe zwiazków zastoso¬ wanych w przykladach sa uwidocznione na zala¬ czonych rysunkach wzorów.Skladajacy sie z dwóch skondensowanych aroma¬ tycznych pierscieni zasadniczy szkielet heterocy¬ kliczny wzoru 1 moze zawierac do czterech pod¬ stawników jak równiez dalszy skondensowany z nim pierscien benzenowy.Jako podstawniki w pierscieniu A ogólnego wzo¬ ru 1 moga byc wprowadzone atomy chlorowców, jak fluor, chlor, brom i jod, gruipy nlitrowe, pierw¬ szo-, drugo i trzeciorzedowe grupy aminowe, acylo¬ zo wane grupy aminowe, rodniki alkilowe o 1—5 ato¬ mach wegla, rodniki alkoksylowe o 1—5 atomach wegla i rodniki aralkenylowe o 8—12 atomach we¬ gla.Z podstawników tych grupy silniej polarne, jak grupy nitrowe i zasadowe grupy aminowe, sa mniej korzystne.Jako atomy chlorowców korzystne sa chlor i brom, jako rodniki alkilowe rodnik metylowy, etylowy i izopropylowy, jako rodniki alkoksylowe rodniki metoksylowe i jako rodniki aralkenylowe rodniki styrylowe. Drugo- i trzeciorzedowe grupy aminowe moga byc podstawione nizszymi rodnika¬ mi alkilowymi o 1—4 atomach wegla i rodnikami arylowymi, korzystnie fenylowymi.Reszty acylowe gruipy acyloaminowych moga byc pochodnymi alifatycznych lub aromatycznych kwa¬ sów karboksylowych lub sulfonowych; korzystne sa reszty nizszych alifatycznych i aromatycznych kwa¬ sów karboksylowych, np. reszta acetyiowa, propio- nylowa i benzoilowa. 40 Pierscien B zawiera dwa podstawniki w pozycji 1,3 lub korzystniej 2,3, którymi sa: rodniki alkilowe 45 o 1 — okolo 5 atomach wejgla, rodniki cykloalkilo- we o 5 — okolo 8 atomach wegla, rodniki arylo- we o 6 — okolo 10 atomach wejgla lub jedno|pier- scieniowe, 5-cio lub 6-cio czlonowe rodniki hetero¬ cykliczne. Jako rodniki alkilowe korzystne sa rod- 50 niki metylowe lub etylowe, jako rodniki arylowe podstawione lub niepodstawione rodniki fenylowe i jako rodniki heterocykliczne rodniki pirydylowe.Szczególnie dobre dzialanie inicjujace wykazuja zwiazki, majace w pozycji 23 rodniki fenylowe lub 55 w szczególnosci p-aUkoksyifenylowe. Bardzo dobre dzialanie inicjujace maja równiez takie zwiazki 2,3-dwufenylowe, w których gruipy fenylowe sa podstawione przy dwóch sasiadujacych atomach wejgla grupa alkilenodwuhydrcteylowa.Masy do kopiowania weldlug wynalazku zawiera¬ ja jako zasadnicze skladniki srodki wiazace, ciekle i/lub stale zdolne do poOlimeryzacji zwiazki orga¬ niczne oraz fotoinicjatory opisanego wyzej typu. w Inicjatory stosuje sie na ogól w stezeniach 0,01—85 202 6 —Ii0%, w stosunku do ilosai wagowej uzytych mo¬ nomerów.Jalko monomery stosuje sie np. handlowe gatunki estrów kwasu akrylowego i metakrylowego, jak równiez dwualkrylan dwuiglicerynowy, dwuakrylan eteru gwajakologlicerynowego, dwuakryian neopen- tyloglikolu, dwuakrylan 22-dwu(hydroksymetylo)- -butanolu-3 i akrylany lub metakrylany poliestrów zawierajacych grupy wodorotlenowe typu Desmo- fenu (produkt handlowy i zarejestrowany znak to¬ warowy firmy Farbenfabriken Bayer, Deverkusen, NRF). Tego rodzaju i dalsze monomery, nadajace sie do fotopolimeryzujacych warstw wedlug wyna¬ lazku, sa opisane np. w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki ntr nr 27(60 863 i 3 d6iQ 023.Fotopolimeryzujace masy do kopiowania moga za¬ wierac jeden lub kilka srodków wiazacych, stoso¬ wanych w znany sposób nip. rozpuszczalne w roz¬ puszczalnikach poliamidy, polioctany winylu, poli¬ metakrylany metylu, poliwinylobutyrale, nienasyco¬ ne poliestry, rozpuszczalne w alkaliach lub pecz¬ niejace albo mieknace kopolimery styrenu z bez¬ wodnikiem kwasu maleinowego, kopolimery meta- krylanu metylu i estrów (BMmetakryloksy/-eitylo- wych kwasu N-/p-toluenosulfonylo/-(ka!rbamdnowego, zywice majeinowe, zywice terpenofenolowe i Wiele innych tp.Poniewaz wywolywanie przeprowadza sie czesto wodnoalkalicznymi wywolywaczanA, korzystnie sto¬ suje sie takie srodki wiazace, które sa rozpusz¬ czalne w alkaliach lub miekna w wodnych roztwo¬ rach alkaliów. Przykladem takich srodków wiaza¬ cych sa kopolimery styrenu z bezwodnikiem 'kwasu maleinowego i metakrylanu metylu z kwasem me¬ takrylowym lub wyzej wymienione tozylowane mo¬ nomery, jak równiez zywice maleinowe.Do mas do kopiowania mozna takze dodawac barwniki, pigmenty, inhibitory polimeryzacji, kom¬ ponenty barwne i donory wodoru. Korzystnie jest, aby dodatki te nie absorbowaly w nadmiernych ilosciach potrzebnych do inicjowania promieni swiatla^ Jako donory wodoru nadaja sie stosowane w znany sposób np. substancje z alifatycznymi Wia¬ zaniami eterowymi. Funkcje ta moze ewentualnie przejmowac srodek wiazacy lub polimeryzujaca substancja, tak ze mozna wtedy zrezygnowac z do¬ datkowych donorów wodoru.Masy do kopiowania zajduja korzystne zastoso¬ wanie przy wytwarzaniu form do druku wypukle¬ go, obrazów grawerowanych, form do druku ofse- towego, form drukarskich dwumetalowych, jak tez trójmetalowych, obwodów drukowanych, szablonów . do sitodruku i form do bezrastrowego druku ofse- towego.Jesli masa do kopiowania ma byc przechowywa¬ na w postaci cieklej jako tak zwany lakier do ko¬ piowania i dopiero bezposrednio przed uzyciem naniesiona na podloze, nip. na nosnik sitodrukowy, plyte drukarska lub tp., to skladniki warstwy roz¬ puszcza sie w odpowiednim rozpuszczalniku lub mieszaninie rozpuszczalników lub dysperguje. Jako rozpuszczalniki korzystne sa alkohole, ketony, estry, etery, amidy, weglowodory itp. Przede wszystkim stosuje sie czesciowe etery wielowodorotlenkowych alkoholi, w szczególnosci glikoli.Roztwory albo dyspersje do wytwarzainia plyt drukarskich itd. mozna korzystnie naniesc bezpo¬ srednio po ich sporzadzeniu na odpowiedni nosnik i przechowac jako swiatloczuly material do kopio- wania i dostarczac na rynek. Mozna przy tym sto¬ sowac te same lub podobne rozpuszczalniki, jak w przypadku wytwarzania lakierów do kopiowania.Nanoszenia dokonuje sie np. przez polewanie, na¬ tryskiwanie, zanurzanie itd.Jako nosnik nadaja sie np. cynk, miedz, alumi-. nium, stal, folie poliestrowe lub octanowe, gaza perlonowa itd., których powierzchnie w razie po¬ trzeby mozna poddawac wstepnej obróbce.W razie potrzeby miedzy nosnik i warstwe swia¬ tloczula wprowadza sie pomocnicza posrednia war¬ stwe adhezyjna lub przeciwodblaskowa.W celu wytworzenia grubszych warstw fotopoli- meru, których grubosc mozne wynosic kilka dzie¬ siatych milimetra, mozna mase do kopiowania we¬ dlug wynalazku naniesc równiez bez rozpuszczania w rozpuszczalniku, np. przez wgniecenie w mlynie trójwaleowym i hydrauliczne naprasowanie na folie nosna pod naciskiem np. 30 O(Mh-5i0i OOfl kg, w ciagu 1 minuty w temperaturze 9*0°€.Formy drukarskie, rezerwy trawienne, formy do druku sitowego itd. wytwarza sie z odpowiednich materialów sposobami ogólnie przyjetymi w prakty- ce, tan. po naswietleniu pod przystawka negaty¬ wowa pozostale rozpuszczalne miejsca tla zostaja usuniete przez obróbke odpowiednimi rozpuszczal* nikaimi lub wodnymi roztworami alkaliów.W zalaczonej tablicy 1 podano szereg przykladów inicjatorów stosowanych wedlug wynalazku. Wzo¬ ry strukturalne podano na zalaczonych rysunkach.Zwiazki podane w tablicy 1 po wiekszej czesci sa juz opisane w literaturze. Co sie tyczy nowych 45 zwiazków, to wytwarza sie je analogicznie jak znane z odpowiednich produktów wyjsciowych. Wy¬ twarzanie chinoksalin lub azachinoksalin przepro¬ wadza sie w ten sposób, ze odpowiednie, ewentual¬ nie podstawione o-fenylenodwuaiminy albo 2,3- lub 50 3,4-dwuaminopirydyny konidiensuje sie z równowaz- nikiowymi ilosciami 1,2-dwuketonów, np. benzylu lub podstawionych benzylów w etanolu lub kwa¬ sie octowym lodowatym. Na ogól stosuje sie 10— —i2D%-we roztwory i ogrzewa w ciagu kilku go- 55 dzin pod chlodnica zwrotna. Mieszanline reakcyjna wlewa sie korzystnie do wody i wytracony produkt reakcji przekrystalizowuje. Wytwarzaniee chinazo- lin opisane jest np. w niemieckim opisie patento¬ wym nr Iil75 076. 60 Wynalazek objasniaja nastepujace przyklady, nie ograniczajac jednak jego zakresu. Dane procento¬ we, jesli nie zaznaczono inaczej, oznaczaja procenty wagowe. Czesci wagowe i objetosciowe maja sie 65 do siebie jak g : ml. 4085 202 7 8 Tablica 1 Zwiazek rur 3 a 3 b 4 a 4 b 4 c 4 d 4 e 4 f 4 g 4 h 4 i 4 k 4 1 4 m 4 n 4 o 4 p 4 q 4 r 4 s 4 t 4 u 4 v 4 w 4 x 4 y a b c 6 a 6 b 7 a 7 b 8 9 a 9 b 9 c .11 a Ul b 112 a 1*2 b Temp. topnienia °c 8l3-^5 100 123—5 103^6 114 1153—4 108 178—9 137 123—4 2J54^5 170-^2 1(18 154 149 164 117—8 114—5 150—1 138 101 254-^5 223—4 176 128 183—4 L91 186 ITO—81 144 1(62—3 133 128—3.0 128—30 iai—2 100 128 145—7 130 141—2 156—7 lfl&—70 Wzór nr 3 4 4 6 7 8 9 11 12 Rrl nr 1627 1627 1^27 3388 33-9(3 1606 1607 1626 3302 Podstawniki Rl = ^2 = R3 H H CH, CH=CHCeH5 H CH3 H H NC2 N:(CH3)2 CI OCH, H H CH, CH^ Cl OCH3 N02 NHCOCH, NHCOCH3 R3 OCH3 a " H R H OCH3 N[(CH,)? H OCH, H OCH3 OCH3 R4 H ca 0CH3 R* H OCH, R9 H Ni(C2H5)2 -CH3 -^CH = R4 H H H H H CH, . H H H H H H H H H CH, H H H H H tt4 H H H R7 H OCH, H H OCH, H OCH, OCH, Re OCH, OCH, CH—C6H5 R5 H H H H CH, H H H H H H H H CH3 H H , H H H H H R5 H H H R6 H CH3 H H H H C2H5 N(CH,)2 H H H H OCH, OCH, OCH, OCH, 1 OCH, OCH, OCH, H OCH3 Re —O—CH2—O— N(CH3)2 N Re H H H H H H H H H H H H H H H H H H H H H Rg H H R7 H H H H H H C2H5 H H H H H 1 OCH, OCH, OCH, OCH, OCH, OCH, OCHs H OCH, R? R7 H H H H H H H ' H H 1 H H H H H H H H H H H H R/ —O—CH2—O— H Cl H H9 85 202 Przyklad I. Badano akitywnosc inicjujaca fo- toinicjaJtorów w zaleznosci od skladu warstwy do ¦kopiowainia. Stosowano przy tym receptury warstw podane w zalaczonej tablicy 2.Rozttwory do powlekania wytwarza sie przez roz¬ puszczanie skladników w podanych rozpuszczalni¬ kach i uwalnia od ewentualnych skladników zelo¬ wych przez saczenie. Nastepnie nanosi sie je przez narzucenie na elektrolityczoie zmatowana, jak rów¬ niez utwardzona przez anodyzowanie Q,3 mm gru¬ bosci folia aluminiowa, której warstwa tlenkowa wynosi 3 g/m2 i suszy tak otrzymane plyty w tem¬ peraturze r00°C w ciagu 2 minut w suszarce. Cie¬ zar suchej warstwy wynosi 5 g/m2. Nastepnie war¬ stwy do kopiowania pokrywa sie 1—2 jx grubosci powloka polialkoholu winylowego.Watrsiwy naswietla sie w ciagu 1 minuty za po¬ moca 5 kW ksenonowej lampy punktowej COP XP 5O0G firmy Staub, Neu Isenburg, przy 8<0 cm od¬ stepie miedzy lampa i prózniowa ramka do kopio¬ wania pod 21-stapniowym póltonowym szatrym kli¬ nem firmy Eastman Kodak Co., którego zakres gestosci wynosi 0,05—3,0(5 przy dnkremencie gestos¬ ci 0,1)5. W ten sposób oznacza sie swiatloczulosc wzgledna.Plyty przeciera sie wywolywaczem, skladajacym sie z roztworu 15,0 czesci wagowych dziewieciowo- dzianu metakrzemianu sodowego, 3 czesci wago¬ wych poliglilkolu 6000, 0,6 czesci wagowych kwasu lewulinowego i 0,3 czesci wagowych osmiowodzia- nu wodorotlenku strontowego w 1O00' czesciach wa¬ gowych wody, przy pH 11,7 w ciagu 30 sekund do 1 minuty w celu usuniecia miejsc tla, splukuje woda, po czym utnwala l^/o-wym kwasem fosfo¬ rowym, a w koncu zabarwia czarna, tlusta farba.Jesli obralbia sie warstwy do kopiowania w opi¬ sany sposób, to calkowicie zaczernione stopnie kli¬ na Kodaku daja miare aktywnosci inicjujacej ba¬ danego zwiazku.W tablicach 3—9 podana jest liczba maksymalnie zaczernionych stopni klina bez uiwzglednieoia stop¬ ni przejsciowych o czesciowej szarej tonacji. Swia¬ tloczulosc i dwóch obok siebie polozonych stopni klina róznia sie o czynnik 2. Stopien klina 0 od¬ powiada optycznej gestosci 0,06, to jest absorpcji wlasnej materialu blony.Aktywnosc inicjowania mierzono w kolejnych próbach 1—'64, stosujac .receptury R-I do R-IV.Porównawczo ze znanymi inicjatorami N-fenylo- -tioakrydonem, 1,3,5-trójacetyló-benzenem, 2-mer- ) 1 i c <• jwych bezw liczbii dlowy va o -130°C. brich, nu me inowej szenie nu me i liczt oksym nu kw iroksyi gton, ] celu Tablica 2 Skladniki Lytron 822 1) Alresat 6(16 C 2) Kopolimer A 3) Kopolimer B 4) TMETA 5) TMPTA 6) l,6-dwu(hydroksyetok- sy)-heksan Inicjator Eter monometylowy glikolu etylenowego Eter monoetylowy glikolu etylenowego Keton metylowo-ety- lowy Receptura R^I 1,4 g 1,3 g 0,2 g 0,05 g 17 g R—lll 1,4 g 0,8 g 0,05 g 9,(5 g R—liii 1,4 g 1,4 g 0,2 g 0,06 g 13 g R-4V 1,4 g 2,0 g 0,4 g 0/05 g 23 g Objasnienia uzytych nazw handlowych lub skrótów (1—6): 1) Lytron (r) 822: kopolimer styrenu z bezwodnikiem kwasu maleinowego o sred¬ nim ciezarze czasteczkowym 10 000, liczbie kwasowej 190 i temperaturze miek- nienia okolo 190°C. Produkt handlowy firmy Monsanto Chemical Co., St.Louis, USA. 2) Alresat (r) 918 C: zywica maleinowa o liczbie kwasowej okolo 165 i tempe¬ raturze topnienia w granicach 120—130°C. Produkt handlowy firmy Reichhold- -Albert Chemie AG, Wiesbaden-Biebrich, NRF. 3) Kopolimer A: kopolimer metakrylanu metylu i estru ^-akryloiloksy-etylowego kwasu N-(p-tolilosulfonylo)-karbaminowego w stosunku 60 : 40, o liczbie kwa¬ sowej 60 (porównaj niemieckie zgloszenie patentowe nr P 20 27 466.2). 4) Kopolimer B: kopolimer metakrylanu metylu i kwasu metakrylowego o sred¬ nim ciezarze czasteczkowym 40 000 i liczbie kwasowej 90—'115.) TMETA: trójakrylan l,i,l-trój(hydroksymetylo)-etanu, otrzymany przez zestry- fikowanie trój(hydroksymetylo)-etanu kwasem akrylowym. 6) TMPTA: trójakrylan l,l,l-trój(hydroksymetylo)-propanu. Produkt handlowy firmy Sartomer Resins, Inc., Essington, Pa., USA.TMETA i TMPTA zawieraja w celu ich stabilizacji 0,02—0,2°/i inhibitora, np. hydrochinonu.¦U 85 202 Tablica 3 Receptura IM Próba nr t (1 2 ¦' & 4 '5 6 '7 8 9 Hi 12 1& 14 Zwiazek nr 7b 4ip 4q 4r 4a 4w 4m 4n 4o 4u 4v 5b 6a Ob Ta Stopni ikiliinia 12 M; lii 11 11 1(1 110 Próba nr 16 17 1P 19 21 22 23 24 26 27 28 29 3»0i Zwiazek nr 4f 4ig 4t 5a 8 4b 4c 4d 9c 4a 4e 41 4x 4k Ilosc stopni fclina 9 8 9 9 9 I B l 18 18 8 ;7 17 <7 '6 <6 Tablica 4 Piróba nr 31 13(2 133 34 36 '37 38 Zwiazek nr 4!w 4n 4jp 4r 4s 4t 4m 4o 4c Ilosc stopni klina otrzymanych przy recepturze R-II 2 8 2 4 $ & (6 1 1 recepturze R-IV i6 '5 • 0: 6 6 '5 4 4 £ Tablica 5 Próba inr 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 (50 51 52 Zawiazek nr 4n 4fp 4r 5b 7b 4d 4m 4o 4q 4s 4w 4g 4v Ilosc stopni Iklina ,10 9 9 9 9 9 9 8 6 Próba nr 53 54 55 56 57 58 59 60 ei 612 m 64 Zwiajzek 'njr 6a 7a 4u Ob 8 4c 4if 5ia 9c 4a 41 4t Idosc , stopni Mima 8 8 7 7 7 .6 6 6 6' 4 kaiptobenzotiazolem, 4£-diwu-(p-aniizylo)-2-£enylo- W parobkach podanych w tablicy 5 zastosowano -oksazolem nie otrzymuje sie w tych wnaunlkach 60 recepture R-III, do której dla zabarwienia war- za -amizylo)-tioptiryliowym i z nadchloranem 2,4-tdwu- barwnika fenazynowego pod nazwa blejkdit suprano- -(p-anizylo)^6-fenylopiryliowym Otrzymuje sie 0 Iowy GL (CI. 50 335). stopni klina, a z 2-etyloanitxiachitnoncm 4 stopnie Dla porównania otrzymuje sie ze znanymi inicja- Wina, w torami: z N-fenyilotioakrydonem jeden, z eterem85 202 13 14 benzoinometylowym dwa, z ketonem Michlera lub z 940-fenantrenochinonem trzy stopnie klina. Sole tiopiryliowe i piryliowe okazuja sie nieaktywne.Forma drukarska: Roztwór do powlekania spo¬ rzadza sie z: 1,1 czesci wagowej produktu reakcji poliwinylobutyralu (Mowital B 30 T firmy Farb- werke Hoechst, Frankfurt, NRF) i p-toluenosulfo- nylo-izocyjanianu,, o liczbie kwasowej 60, 04 czes¬ ci wagowej poliwinylobutyralu (Mowital B 60 t fir¬ my Farbwerka Hoechst, Frankfurt , NiRF) o sred¬ nim ciezarze czasteczkowym 70- OOtO—181O 'CiO'a, 1,1 czes¬ ci wagowej poliwinylobutyralu (Mowital B 60 t fir¬ nu, 04 czesci wagowej eteru polioksyetylenolaury- lowegoT" 0„,1 czesci wagowej 6^4', 4"-trójmefcoksy-2,3- -dwufenylo-chinoksaliny, 0,01 czesci wagowej fuk¬ syny (CI. 42 SIO) i 15 czesci wagowych eteru jed- nometylowego glikolu etylenowego i nanosi sie przez narzucanie na mechanicznie zmatowana, 0,3 mm grubosci folie aluminiowa do uzyskania ciezaru warstwy 5 g/m2 i suszy w temperaturze 10iO)°C w ciagu 1 minuty w suszarce.Nastepnie zaopatruje sie warstwe do kopiowa¬ nia 1—2 \x grubosci powloka polialkoholu winylo¬ wego i naswietla w sposób opisany wyzej w ciagu 1 minuty pod przystawka negatywowa. W celu usuniecia miejsc tla traktuje sie wyzej opisanym wywolywaczem w ciagu 1 minuty, splukuje woda, utrwala l°/o-wym kwasem fosforowym i gumuje wodnym roztworem gumy arabskiej w celu kon¬ serwacji.Tak otrzymana forma drukarska daje w druku offsetowym na maszynie drukarskiej typu Dualith co najmniej 10)0 000 jnienagannych odbitek.Przyklad II. Wykazano wplyw podstawni¬ ków metoksylowych na aktywnosc inicjacji po¬ chodnych chinoksaliny wedlug wymalaizku i zna¬ nych ketonów jako fotoiriicjatorów. Przy zastoso¬ waniu receptury R-III z przylklaidu I, reprezenta¬ tywne zwiazki o wzorze 2, podane w tablicy 6, wykazuja przytoczone w niej dzialanie inicjujace wyrazone w stopniach klina. Rodniki R6' i R7' oznaczaja we wszystkich przypaidkach atomy wo¬ doru.Wzrost swiiaitloczulosci obserwuje sie zarówno w przypadku benzochinoksalin o wzorze 5 i 6, jak i azachinoksialin o wzorze 7 i to samo sprawdza sie dla receptay R^I (porównaj wartosci stopni klina w tablicach 3 i 5).Badajac wplyw podstawiania grup metoksylo- wych na aktywnosc inicjowania rozmaitych zna¬ nych jako fotoinicjatory ketonów w recepturze R-III, uzyskuje sie obraz przedstawiony w tabli¬ cy 7. Naswietlanie przeprowadza sie w tym przy¬ padku za pomoca przyrzadu do naswietlania firmy Moll, Solingen-Wald, NRF, który na powierzchni o wymiarach 60 X 60 om ma zainstalowanych 13 rur fluorescencyjnych typu Philips TL-AK-40 W/CJ5.Tablica 6 Próba nr 615 65a |06 96a m 67a m 6&a m ma 70i 70a ZJwiazek nr 4a 4n 41 4r 4c 4p 4e 4o 4u 4v 4if 4q R3 H Ol CH3 H NHCOCH3 CH3 R4 H H H H H CHS R5 H H H CH3 H H Ilosc stopni klina Rg=R7=H 6 6 3 7 6 - R6=R7= =OCH3 9 KO 9 8 9 Tablica 7 Próba nr 1 71 72 73 Inicjator benzofenon benzoina benzyl Ul 1 1 Inicjator 4,4,-dwumetoksybenzofenon ariizoina anizyl Ilosc stopni klina 1 185202 16 Odstep lamp wynosi 7—8 cm, jako folie przy¬ krywkowa stosuje sie folie rxlicihlorowinylowa.Czas naswietlania wynosi 5 minut. Opisana w przykladzie I ksenonowa lampa punktowa nie na¬ daje sie do tego porównania, gdyz jej emisja w 5 obszarze ultrafioletowym widma jest stosunkowo niewielka.Przyklad III. Sporzadza sie roztwór do po¬ wlekania z 1,4 czesci wagowych zestryfikowamego kwasem akrylowym poliestru zawierajacego grupy wodorotlenowe (Desimophen 850 firmy Farbenfabrli- ken Bayer, Laverkusen, NRF), 1,4 czesci wagowych kopolimeru metakrylanu metylu z kwasem meta¬ krylowym o srednim ciezarze czasteczkowym 6i0 OiOO i liczbie kwasowej 90,7, 0,1 czesci wagowej 6-nie- taksy^S-dwufenyio-chinoksalLny, 0;2 czesici wago¬ wych l,6-dwu(hydrdksyetoksy)-,heksainu, 0,012 czesci wagowych blekitu suJpnanolowego GL (CI. 50 3i3i5) i 13,0 czesci wagowych jednoetylowego eteru gli¬ kolu etylenowego i nanosi, jak opisano w przykla¬ dzie I, przez narzucanie na elektrolitycznie zmato- wana i utwardzona przez anodyzowanie 0,3 mm gruiba folie aluminiowa, raz suszy. Nastepnie na¬ swietla sie w ciagu 1 minuty 8 fcW ksenonowa lamipa punktowa, BIKOP, firmy Klimsch, Frank¬ furt,, NRF, w odleglosci 715 cm pod klineim stop¬ niowanym. Wywolywania i oceny dokonuje sie jak w przykladzie I. Liczba maksymalnie zaczerwio¬ nych stopni klina wynosi 5.Jesli w miejsce wyzej opisanych estrów kwasu akrylowego zastosuje sie odpowiedni ester kwasu metakrylowego, wówczas liczba stopni klina zwiek¬ szy sie do 6.Przy uzyciu takich samych ilosci dwuakrylanu dwuglicerynowego w miejsce wymienionych estrów akrylowych liczba stopni klina wynosi 5.Przy zastosowaniu znaych inicjatorów N-fenylo- -tioakrydonu, eteru ibenzOino-metylowego, 2-mer- kapto-benzótiazolu, mieszaniny ketonu Michlera z ksantonem 1 : 1 i 2-trz3eciorzed.-ibutyloantraichino- nu nie mozna otrzymac przy wyzej poidanytch re- cepturalch warstw do kopiowania ° odpowiednio wysokiej swiatloczulosci.Przyklad IV. Roztwór do powlekania we¬ dlug receptury R-I z przykladu I narzuca sie na 1126 ii gruba, dwuosiowo orientowana folie poli- etylenbtereftalanow^a, zaopatrzona w posrednia warstwe afdhezyjna wedlug niemieckiego opisu pa¬ tentowego DAS nr 1228 414 i suszy, jak równiez zaopatruje sie 1^2 n gruba 'powloka polialkoholu winylowego. Naswietla sie i wywoluje jak w przy¬ kladzie I.Aktywnosc inicjowania róznych inicjatorów po¬ dano w tablicy 8.Tablica 8 Próba nr 74 75 716 m 76 Zwiazek nr 4ir 5a 4o 6a 7a Ilosc stopni klina ¦ B ' S 3 3 2 Przyklad V. W celu wytworzenia cynkowej formy do druku wypuklego sporzadza sie roztwór do powlekania wedlug receptury R-III z przykla¬ du I z 0P,OS g inicjatora i nanosi przez narzucanie na oczyszczona plyte cynkowa do jeidnostopniówe- go trawienia i suszy. Nastepnie warstwe te za- opa/truje sie w 1—2 fi gruba powloke z polialko¬ holu winylowego. Nastepnie naswietla sie i wywo¬ luje jak w przykladzie I. Swiatloczulosci wzgledne uzyskane z zastosowanymi inicjatorami podano w tablicy 9.Tablica 9 Próba nr 7© W 81 82 83 84 85; Inicjator nr 4o 4p 4q 4s 4b 4r 4v Ilosc stoipni klina 7 7 7 7 7 6 6 W celu wytworzenia formy do druku wypuklego odkryte powierzchnie plyty cynkowej wytrawia sie 6i°/o-wym kwasem azotowym w temperaturze-poko¬ jowej w ciagu 6 minut. Tak otrzymane formy na¬ daja sie do druku ksiazek o wysokiej jakosci.Przyklad VI. Sporzadza sie roztwór do .po¬ wlekania z 4,0 czesci wagowych kopolimeru sty¬ renu z bezwodnikiem kwasu maleinowego (Lyitron 820 firmy Monsanto Chemical Oo., St. Louis, USA), 2,0 czesci wagowych kopolimeru a-matyiostyrenu z winylotoluenem (Piccotex firmy Pensylwania In- dustrial Chemical Corporation, Clairton, Pehsyl- vainia, USA), 0,35 czesci wagdwydh poliwinylobu- tyralu o srednim ciezarze czesteczkowym 30 CiOiO— 35000 (Mowital B 20 H firmy Faribwerke Hoechst, Frankfurt, NRF), 0,25 czesci wagowych inicjatora (zwiazków nr lila lilib, 12a, 12b), 5,,0 czesci wago¬ wych trójakrynu trój(hyidroksyime1tylo)-propanu, 0,02 czesci wagowych p^metoksyfenolu i 5 mil ke¬ tonu metylawo-etylowego i nanosi przez narzuca¬ nie- na cynkowa plyte do jcdnostopniowego tra¬ wienia oraz suszy. Nastepnie war&twe zaopatruje sie w powloke o grubosci 1—12 /m polialkoholu wi¬ nylowego.Potem naswietla sie w ciagu 1,5 minuty pod przystawka negatywowa jak w przykladzie I i wy¬ woluje w ciagu 2 minut 2°/o^wym roztworem wod¬ nym fosforanu trójsodowego. W celu wytworze¬ nia formy do druku wypuklego odkryte powierzch¬ nie plyty cynkowej z czterech doswiadczen wy¬ trawia sie w ciagu 5 minut 0°/o-wym kwasem azo¬ towym w temperaturze pokojowej.Przyklad VII. Roafcwór do powlekania we¬ dlug przykladu VI, jeldnak z Q,25 czesciami wago¬ wymi tego samego poliwinylobutyralu i 0,25 cze¬ sciami wagowymi 4-(4-metoksyHfenyilo)-2-fenylo- -chinazoliny (zwiazek nr Ha) jako inicjatorem na¬ nosi sie przez narzucanie na miedziana powierzch¬ nie nosnika, który sklada sie z plyty z tworzywa so 40 45 50 55 6017 -r sztucznego kasizerowanej folia miecteiana, i suszy.Nastepnie warstwe pokrywa sie 1—2 ^ gruba po¬ wloka polialkoholu winylowego.Warstwe naswietla sie pod przystawka nega¬ tywowa obwodu drukowanego w oiajgiu 2,!5 minut podanym w przykladzie I zródlem swiatla i wy¬ woluje w ciagu 2 minut l°/o-wym wodnym roz¬ tworem fosforanu trójsodowego.Odkryta miedz wytrawia sie w ciagu 30 minut roztworefon chlorku zelazowego i otrzymuje obwód drukowany.Przyklad VIII. Dwumetalowa plyte miedz/ Mutoinium obrabia si ewistepnie w nastepujacy siposdb: Uwolniona od srodka konserwujacego powierzch¬ nie miedziana matuje sie przez przetarcie kreda szlamowana, odtluszcza trójohloroetylenem, uwal¬ nia przez zanurzenie na 30 sekund w 1,6^/o-wym kwasie azotowym od warstwy tlenkowej, a na¬ stepnie traktuje roztworem 84 ml wody destylo¬ wanej i 8 ml roztworu chromianu (Konvert No. 31 firmy Conversion Chemical Corporation, Rockville, Conn., USA) w ciagu ,1 minety.Sporzadzony wedlug przykladu I roztwór do.po¬ wlekania R-I z 0,0(5 g 4^4"^dwumeltoksy^2,3-dwu- fenylo-ehinoksaliny narzuca sie na spreparowana powierzchnie, a nastepnie suszy. Warstwe do ko¬ piowania pokrywa sie 1—12 ja grubosci powloka polialkoholu Winylowego.Naswietla sie i wywoluje jak w przykladnie I.Uiczba zaczerniofnych stopni klina wynosi 6.W celu wytworzenia dwumetaloweij Cu/Al plyty do druku ofsetowego wytrawia sie calkowicie od¬ kryta po wywolaniu warstwe miedzli w ciagu 2,5— 3 minut roztworem trawiacym chlorku zelazowego ("40)0 Series" ALC Btch, ,typ LS 4012, firmy Fred K.H. L#evey Co., Inc., New York, USA). Nastepnie przeciera sie 1%-wym kwasem fosforowym, po czyni zabarwia tlusta farba.Przyklad IX. Wytwarza sie roztwór do po¬ wlekania z 1,4 czesci wagowych opisanego w przy¬ kladzie III poliesteru modyfikowanego kwasem metakrylowyim, 1,4 czesdi wagowych kopolimeru mertakrylanu metylu z kwasem metakrylowym o srednim ciezarze czasteczkowym 40i 0O0 i liczbie kwasowej 125, 0,0i5 czesci wagoych e-ehloro-4',4"- -dwumetoksy-2,3-ldwuifenylo-chinoiksalliny, 0.2 cze¬ sci wagowych l,6-dwu(hydro!ksyetoklsy)-iheksanu, 0,€i2 czesci wagowych blekitu suipramolowego GL (CI. 5J0< 305) i 8,0 czesci wagowych keltami mety- lowo-etyloweigo i nanosi na tkanine perlonowa z wlókien pojedynczych o gestosdi 120 nitek na cm, a nastepnie suszy.Naswietla sie w ciagu 3 minut pod przystawka pozytywowa jak w przykladzie I i wywoluje w sposób tam opisany.Tak otrzymany szablon mozna izaistosowac do druku sitowego. Odznacza sie on duza odporno¬ scia na scieranie i wybitna ositroscia ^konturów.W miejsce tkaniny z wlókien sztucznych moizna powlekac tkaniny jedwabne, metalowe, szklane itd. 202 18 Przyklad X. W celu wytworzenia folii do próby barw sporzadza sie cztery roztwory do po¬ wlekania wedlug recepitury R-I z przykladu I z dodaltkieim do kazdego 0^05 g 4,,4''-dWumetoksy- -2^Hdwufenyao^dhinoksaliny i 20 g jednoetylowe- go eteru glikolu etylowego i zabarwia kazdy jed¬ nym z nizej podanych barwników.Folia zólta: 0y08 g zólcieni tluszczowej 3 G (CI. 12 700).Folia czerwona:" 0,04 g czerwieni caponowej BE (CI. 12,715) i 0,04 g czerwieni caiponowej BB (CI.Solvent Red 71).Folia niebieska: 0y08 g blekitu supranolowegó GL (CI. 50 33)5). !5 Folia czarna 0t,«0l8 g czerni tluszczowej HB (CI. 26 im).Roztwory te narzuca sie 180 ^ gruba, dwukie¬ runkowo orientowana folie polietylenotereftalano- wa i suszy w tem^peraturze 10(00C w ciagu 2 mi- * nut. Nastepnie wartatwy zaopatruje sie w 1—«2 p grubosci powloke polialkoholu winylowego i na¬ swietla wedlug przykladu I pod odipowiednimi czarno-bialymi adjejoiamii na blonie srebrowej po¬ szczególnych kolorów wzoru (folie niebieska 30 as sekund, folie czerwona i minute, folie zólta 4 mi¬ nuty i folie czarna 6 minut). ^Wywolanie odbywa sie jak w przykladzie I.Po nalozeniu na siebie obrazów kolorów skla¬ dowych powstaje wfierny w/kolorach duplikat od- powiadajacy oryginailneimu wzorowi sfotografowa¬ nemu na blonatch srebrowych.Przyklad XI. Sporzadza sie roztwór do po¬ wlekania z 2,9 czesci waigowydh trójakrylanu trój (¦hydroksymetyio)-etanu, 4,9 czesci wagowych uzy- W tego w przykladzie IX kopolimeru metakarylanu metylu z kwasem metakrylowym, 0J3 czesci wa¬ gowych ^^^''-trójmetolksy-fi^-dwuifenylo-chinoksa- ' liny i 10,0 czesci wagowych ketonu metylowo-ety- lowejgo, wylewa go na 0,3 mim grubosci blache 40 alumiiiniowa w zawtinietyimi o kat 90° brzegami i powoli odiparowuije rozpuszczalnik przez pozo- stawiienie w spokoju.Nastepnie dosusza sie w ciagu godziny w tem¬ peraturze 10O°C. Warstwe foitopolirneryzujaca o *s gubosci 0,6 mm naswietla sie nastepnie pod foto¬ graficzna przystawka negatywowa w diagu 16 mi¬ nut za pomoca podanego w przykladzie III zródla swiatla w odleglosci 75 cm i wywoluje opisanym w przykladzie I wywolywaczem w ciagu 1S minut 50 w kapieli kolyskowej.Otrzymuje sie silnie przylegajacy olbraz plasko¬ rzezbowy o jasnozóltyim tonie, który po usnnie^iu brzegów mozna zastosowac do druku wypuklego metoda „Letterset'\ 55 Przyklad XII. Sporzadza sie roztwór do po¬ wlekania wedlug receptury R-III z przykladu I z 0;,i0i5 g 6,7^dwumetylo-4^4/%dwulmeltoiksy-2,3Hdwu- fenylo-ichinotaaliny jako inicjatora, narzuca na 80 trójmetalowa plyte aluminium (miedz) chrom i su¬ szy. Nastepnie powleka sie warstwe do kopiowania warstwa ochronna z polialkoholu winylowego o grubosci 1^2 tu i naswietla w ciagu 30 sekund pod przystawka pozytywowa za pomoca zródla 65 swiatla podanego w przykladnie I, po ozym wy-19 woliuje jak w przykladzie i. Nastepnie wytrawia sie odsloniety chrom roztworem 17,4P/o CAOI2, bio^/o ZnCl2, 2,I°/aHCI i 45i}i2®/o wody w ciagu 7 minut, a utwardzona warsitwe fotopoiimeru usuwa sie chlorkiem metylenu. Nastepnie przeciera sie l^/p kwasem fosforowym i zabarwia tlusta farba.Trójmetalowa plyta jest tym samym gotowa do druku.Przy (klad XIII. Sporzadza slie roztwór do powlekania z 1,0 czesci wagowej produktu reakcji poliwinylobutyiralu (Mowltal B 20 T firmy Farb- weike Hoechst, Frankfurt, NiRF) iz p-toluenosulfony- loizocyjainianem o liczbie kwasowej 60, 0,1 czesci wagowej poliwinylobutyraiu (Mowiltal B 60 T fir¬ my Hoechst, Frankfurt, NRF) o sreedniim ciezarze czasteczkowym 7'0 GOOi—8Ki CiC'0, 0,2 czesci wagowych kopolimeru metafcrylanu metylu z kwasem meta¬ krylowym o srednim ciezarze czasteczkowym 4OO0i0 i liczbie kwasowej 00, 2,;0 czesci wagowych tró;j(hydroksyimety,lo)-ipropaiiu, 0,4 czesci wagowych l,6-id(wu(hydroksyetoksy)Hheksainu 0^1 czesci wago¬ wej 6l4S4,/-trc^metokisy^2^3-id'wufenylo-chinoksaliny, O^-OfO'2 czesci wagowych p-dwuimatyloaminobenzalo- -acetonu, 0,05 czesci wagowych blekiltu supranolo- wego GL (CI. 5i0 33(5) i 31,0 czesci wagowych jed- noetylowego eteru glikolu etylenowego, nanosi przez narzucanie, jak opisano w przylkladzie I, iia elektrolitycznie zmatowana oraz utwardzona przez anodyzowanie 0,3 mim grubosci blache aluminiowa i siuszy. Nastepnie pokrywa sie warstwe do kopio¬ wania 1—*2 /u, grubosci powloka polialkoholu wi¬ nylowego i naswietla, jak w przykladzie I, raz pod stopniowanym klinem, w drugim przypadku pod fotograficzna przystawka póltonowa w ciiagu 50 sekund. Wywoluje sie jak w przylkladzie I.Miekko pracujaca warstwa odtwarza stopnie klina 1—il«0 o stopniowym przejsciu od czerni do bieli i przez to umozliwia wytworzenie wiernego duplikatu oryginalu sfotografowanego na blonie srebrowej przystawki.Przyklad XIV. Sporzajdza sie roztwór do powlekania wedlug receptury R-III z przykladu I z O.JO'5 g 6,4^4'/-ltrójmeltoksy-2,3-ldwIufenyloohinol^sa- liny jako inicjatora, narzuca na powleczony chro¬ mem nosnik aluminiowy, którego powierzchnia chromowa jest wodonosna i suszy. Nastepnie po¬ krywa sie warstwe do kopiowania 1—2 \x gru¬ bosci ochronna warstwa polialkoholu winylowego.Naswietla sie w ciagu 3 minut, wywoluje i utrwala jak w przykladzie I. 202 Talk otrzymana forma drukarska daje w druku offsetowym na powszechnej na rynku maszynie drukarskiej co najmniej lOOflOK) nienagannych od¬ bitek. PL

Claims (7)

  1. Zastrzezenia pa,t en it o we 1. Fotopolimeryzujaca masa do kopiowania, za¬ wierajaca co najmniej jeden srodek wiazacy, co 10 najmniej jeden zwiazek zdolny do polimeryzacji i co najmniej jeden fotdinicjator, znamienna tym, ze jako fotidinicjator zawiera zwiazek o ogólnym wzorze 1,, w którym Z i Q sa od siebie rózne i oznaczaja albo atom azotu albo grupe o wzorze 15 C—R', X i T sa jednakowe albo rózne i oznaczaja atom azotu albo grupe o wzorze C-^R", R i R' sa jednakowe albo rózne i oznaczaja rodniki alki¬ lowe, aralkenylowe, arylowe albo pirydylowe i R" i R'" oznaczaja atomy wodoru, atomy chlorowca, 20 grupy nitrowe, aminowe acyloaimimpwe albo jako dwie sasiadujace grupy iraizem oznaczaja przykon- d_ensowany pierscien benzenowy.
  2. 2. Masa do kopiowania wedlug zastrz. 1, zna¬ mienna tym, ze fotoinlicjator jest zwiazkiem o 25 ogólnymi wzorze 2, w którym X oznacza atom azotu lub grupe C—R5;, R3, R4 i R5 sa takie same lub rózne i oznaczaja atomy wodoru lub chlorow¬ ca, grupy alkilowe, aralkenylowe, aloksylowe lub aicyloamihowe, albo R3 i R4 i R5 wspólnie ozna- 30 czaja kazdorazowo skondensowany pierscien ben¬ zenowy, R6 i R7 sa takie same M rózne i ozna¬ czaja atomy wodoru, grupy alkilowe lub alkoksy- lowe i R'e i R'7 oznaczaja atomy wodoru lub ra¬ zem z sasiednimi podstawnikami R$ lub R7 two- 35 rza grupy alkilenodwuhydiroiksyiowe.
  3. 3. Masa do kopiowanlia wedlug zastrz. 2, zna¬ mienna tym, ze fotoinicjator jesit zwiazkiem, w którym R6 i R7 oznaczaja grupy alkoksylowe. 40
  4. 4. Masa do kopiowania wedlug zastrz. 3, zna¬ mienna tym, ze grupami alkoksyilowymi sa grupy metoksylowe.
  5. 5. Masa do kopiowania wedlug zastrz. 1, zna¬ mienna tym, ze srodek wiazacy rozpuszcza siie lub mieknie w wodnych roztworach alkaliów.
  6. 6. Masa do kopiowania wedlug zastrz. 1, zna¬ mienna tym, ze zawiera dodatkowo co najmniej jeden donor wodoru. 50
  7. 7. Masa do kopiowania wedlug zastrz. 1, zna¬ mienna tym, ze wystepuje w postaci warstwy swiatloczulej na nosniku.85 202 T)V^\ ^W^ft ^^Y^Sjj^N T^ A | B ^ pAxAN WZOR1 WZÓR 2 NV^Rl ^S^^^^N; ccx::?cx WZOR 3 WZÓR 4 k^^Ai^ i WZÓR 6 WZOR 7 OCH, OCH, WZOR 6 WZOR 585 202 WZÓR 9 WZOD 10 W^ÓB ii WZÓPt 12 Errata Objasnienia do tablicy 2 pkrt 1) jest: Lytron (r) powinno byc: Lytron (R) pkt 2) jest: Alresat (r) powinno byc: Alresat (R) Lam 16, wiersz 43 jest: trójakrynu powinno byc: trójakrylanu Lam 20, wiersz 20 jest: acylioamiinowe powinno byc: acyloaminowe, alkilowe, alkoksylowe Lam 20, wiersz 28 jest: aloksylowe powinno byc: alkoksylowe DN-7 — Zam. 2536/76 Cena 10 zl PL
PL1971149954A 1970-08-11 1971-08-10 PL85202B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2039861A DE2039861C3 (de) 1970-08-11 1970-08-11 Photopolymensierbare Kopier masse

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL85202B1 true PL85202B1 (pl) 1976-04-30

Family

ID=5779444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1971149954A PL85202B1 (pl) 1970-08-11 1971-08-10

Country Status (18)

Country Link
US (1) US3765898A (pl)
JP (1) JPS545293B1 (pl)
AT (1) AT310553B (pl)
AU (1) AU451129B2 (pl)
BE (1) BE771108A (pl)
BR (1) BR7105137D0 (pl)
CA (1) CA973420A (pl)
CS (1) CS157724B2 (pl)
DE (1) DE2039861C3 (pl)
ES (1) ES394122A1 (pl)
FR (1) FR2102175B1 (pl)
GB (1) GB1357367A (pl)
NL (1) NL165849C (pl)
NO (1) NO132775C (pl)
PL (1) PL85202B1 (pl)
SE (1) SE370582B (pl)
SU (1) SU438204A3 (pl)
ZA (1) ZA715281B (pl)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH573448A5 (pl) * 1972-12-05 1976-03-15 Ciba Geigy Ag
US4001017A (en) * 1972-12-05 1977-01-04 Ciba-Geigy Ag Process for the photopolymerization of ethylenically unsaturated compounds
US3873319A (en) * 1974-01-31 1975-03-25 Minnesota Mining & Mfg Dry-film negative photoresist having amidized styrene-maleic anhydride binder material
DE2558812C2 (de) * 1975-12-27 1987-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4273857A (en) * 1976-01-30 1981-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4239849A (en) * 1978-06-19 1980-12-16 Dynachem Corporation Polymers for aqueous processed photoresists
DE2850585A1 (de) * 1978-11-22 1980-06-04 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
US4353978A (en) * 1979-08-14 1982-10-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4517281A (en) * 1980-10-06 1985-05-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Development process for aqueous developable photopolymerizable elements
US4485167A (en) * 1980-10-06 1984-11-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photopolymerizable elements
US4365019A (en) 1981-08-06 1982-12-21 Eastman Kodak Company Positive-working resist quinone diazide containing composition and imaging method having improved development rates
DE3232621A1 (de) * 1982-09-02 1984-03-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 1,3-diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
DE3232620A1 (de) * 1982-09-02 1984-03-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
DE3420039A1 (de) * 1984-05-29 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt 2,3-bis(dialkylaminophenyl)chinoxaline und ihre verwendung in elektrophotographischen aufzeichnungsmaterialien
DE3420425A1 (de) * 1984-06-01 1985-12-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch, das als photoinitiator ein 1,3,10-triazaanthracen-4-on- enthaelt
DE3537380A1 (de) * 1985-10-21 1987-04-23 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US4940648A (en) * 1988-02-12 1990-07-10 Hoechst Celanese Corporation Increased sensitivity photoinitiation compositions
DE69524589D1 (de) 1995-08-08 2002-01-24 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Bildung von metallischen Bildern
EP0762214A1 (en) 1995-09-05 1997-03-12 Agfa-Gevaert N.V. Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer
US5753414A (en) * 1995-10-02 1998-05-19 Macdermid Imaging Technology, Inc. Photopolymer plate having a peelable substrate
US5935759A (en) * 1996-04-23 1999-08-10 Agfa-Gevaert Method for making a multicolor image and photosensitive material therefor
US6184226B1 (en) * 1998-08-28 2001-02-06 Scios Inc. Quinazoline derivatives as inhibitors of P-38 α
US6555288B1 (en) 1999-06-21 2003-04-29 Corning Incorporated Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US6306563B1 (en) 1999-06-21 2001-10-23 Corning Inc. Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
JP4574606B2 (ja) * 2002-11-13 2010-11-04 株式会社半導体エネルギー研究所 電界発光素子
JP4522862B2 (ja) * 2002-11-13 2010-08-11 株式会社半導体エネルギー研究所 キノキサリン誘導体、有機半導体素子および電界発光素子
US8071260B1 (en) * 2004-06-15 2011-12-06 Inphase Technologies, Inc. Thermoplastic holographic media
KR101426513B1 (ko) * 2006-09-29 2014-08-05 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 퀴녹살린 유도체, 발광소자, 발광장치 및 전자기기
CN102241637A (zh) * 2011-06-29 2011-11-16 泰山医学院 2,3-二苯基-6-酰胺基喹喔啉化合物及制备方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3479185A (en) * 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
DE1597784C3 (de) * 1967-08-31 1976-01-02 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Sensibilisierte Druckplatte

Also Published As

Publication number Publication date
NL165849C (nl) 1981-05-15
AU451129B2 (en) 1974-07-25
NO132775C (pl) 1976-01-07
BR7105137D0 (pt) 1973-04-12
CA973420A (en) 1975-08-26
AU3223071A (en) 1973-02-15
ZA715281B (en) 1972-04-26
BE771108A (fr) 1972-02-09
DE2039861A1 (de) 1972-02-17
DE2039861C3 (de) 1973-12-13
FR2102175A1 (pl) 1972-04-07
AT310553B (de) 1973-10-10
CS157724B2 (pl) 1974-09-16
ES394122A1 (es) 1975-09-16
NL7110562A (pl) 1972-02-15
NL165849B (nl) 1980-12-15
SE370582B (pl) 1974-10-21
NO132775B (pl) 1975-09-22
SU438204A3 (ru) 1974-07-30
DE2039861B2 (de) 1973-05-30
JPS545293B1 (pl) 1979-03-15
US3765898A (en) 1973-10-16
GB1357367A (en) 1974-06-19
FR2102175B1 (pl) 1979-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL85202B1 (pl)
SU505383A3 (ru) Фотополимеризующа с композици
SU438204A1 (ru) Фотополимеризующа с копировальна композици
US5200299A (en) Quinoline and acridine compounds effective as photoinitiators and containing polymerizable (meth)acryloyl substituents
US3961961A (en) Positive or negative developable photosensitive composition
US4780393A (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same
DE2064080B2 (de) lichtempfindliches Gemisch
JPH0223565B2 (pl)
CA2006074C (en) Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same
NL8100061A (nl) Fotopolymeriseerbaar preparaat en daaruit verkregen drukplaat.
JPS5928325B2 (ja) 光重合性組成物
US4705740A (en) Radiation-polymerizable mixture, copolymer contained therein, and a process for the preparation of the copolymer
JPS61172139A (ja) 光重合性組成物
JP2000231190A (ja) 光重合性組成物
US5112721A (en) Photopolymerizable compositions containing sensitizer mixtures
CA1128803A (en) Photopolymerizable mixture containing a phenazine derivative as photoinitiator
US5217845A (en) Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same
JPS5933893B2 (ja) 協力作用を有する光開始剤系を含む感光性複写組成物
US5300401A (en) Photopolymerizable resin material and process for preparing print circuit using the material
JP2598994B2 (ja) 感光性組性物
CH599569A5 (en) Photoinitiators
JP3419744B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
JP2788921B2 (ja) 放射重合可能な組成物および感放射線性記録材料
JP2003057812A (ja) 光重合性樹脂組成物
US4465758A (en) 1,3-Diaza-9-thia-anthracene-2,4-diones and photopolymerizable mixtures containing same