NL153338B - Werkwijze voor het bereiden van een reprografische kopieermassa alsmede kopieermateriaal waarvan de kopieerlaag uit een aldus bereide kopieermassa is gevormd. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van een reprografische kopieermassa alsmede kopieermateriaal waarvan de kopieerlaag uit een aldus bereide kopieermassa is gevormd.

Info

Publication number
NL153338B
NL153338B NL676703263A NL6703263A NL153338B NL 153338 B NL153338 B NL 153338B NL 676703263 A NL676703263 A NL 676703263A NL 6703263 A NL6703263 A NL 6703263A NL 153338 B NL153338 B NL 153338B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
copy
mass
preparing
procedure
reprographic
Prior art date
Application number
NL676703263A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6703263A (OSRAM
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of NL6703263A publication Critical patent/NL6703263A/xx
Publication of NL153338B publication Critical patent/NL153338B/xx

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C247/00—Compounds containing azido groups
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/008—Azides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
NL676703263A 1966-03-12 1967-02-28 Werkwijze voor het bereiden van een reprografische kopieermassa alsmede kopieermateriaal waarvan de kopieerlaag uit een aldus bereide kopieermassa is gevormd. NL153338B (nl)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1572070A DE1572070C3 (de) 1966-03-12 1966-03-12 Lichtempfindliches Kopiermaterial
DEK0058706 1966-03-12
DEK0058705 1966-03-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6703263A NL6703263A (OSRAM) 1967-09-13
NL153338B true NL153338B (nl) 1977-05-16

Family

ID=27211296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL676703263A NL153338B (nl) 1966-03-12 1967-02-28 Werkwijze voor het bereiden van een reprografische kopieermassa alsmede kopieermateriaal waarvan de kopieerlaag uit een aldus bereide kopieermassa is gevormd.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3539559A (OSRAM)
AT (1) AT280041B (OSRAM)
BE (1) BE695348A (OSRAM)
CH (1) CH504023A (OSRAM)
DE (3) DE1572068C3 (OSRAM)
FR (1) FR1513907A (OSRAM)
GB (1) GB1179361A (OSRAM)
NL (1) NL153338B (OSRAM)
SE (1) SE350342B (OSRAM)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3887379A (en) * 1972-03-30 1975-06-03 Ibm Photoresist azide sensitizer composition
JPS5140452B2 (OSRAM) * 1973-07-23 1976-11-04
GB2092164B (en) * 1980-12-17 1984-12-05 Hitachi Ltd Loght or radiation-sensitive polymer composition
JPS57168942A (en) * 1981-04-13 1982-10-18 Hitachi Ltd Photosensitive polymer composition
US4554237A (en) * 1981-12-25 1985-11-19 Hitach, Ltd. Photosensitive resin composition and method for forming fine patterns with said composition
JPS59222833A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Hitachi Chem Co Ltd 感光性組成物
US5310732A (en) * 1986-02-03 1994-05-10 The Scripps Research Institute 2-halo-2'-deoxyadenosines in the treatment of rheumatoid arthritis
EP0363817A3 (de) * 1988-10-14 1990-09-26 Hoechst Aktiengesellschaft Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend ein Polymeres mit 1,2,3-Thiadiazolgruppen, sowie dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial
CN103160144A (zh) * 2012-10-26 2013-06-19 杭州百合科莱恩颜料有限公司 一种单偶氮有机颜料及其合成方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2852379A (en) * 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
DE1447017B2 (de) * 1963-10-26 1971-08-12 Kalle AG, 6202 Wiesbaden Biebrich Verfahren zur herstellung von druckformen gedruckten schal tungen oder metallaetzungen

Also Published As

Publication number Publication date
FR1513907A (fr) 1968-02-16
DE1572070C3 (de) 1979-03-22
US3539559A (en) 1970-11-10
DE1572069C3 (de) 1976-01-08
DE1572068B2 (de) 1975-05-15
DE1572070B2 (de) 1978-07-13
GB1179361A (en) 1970-01-28
NL6703263A (OSRAM) 1967-09-13
AT280041B (de) 1970-03-25
SE350342B (OSRAM) 1972-10-23
DE1572068C3 (de) 1976-01-08
CH504023A (de) 1971-02-28
DE1572070A1 (de) 1970-04-23
DE1572069A1 (de) 1970-04-16
DE1572069B2 (de) 1975-05-15
DE1572068A1 (de) 1970-04-16
BE695348A (OSRAM) 1967-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL149254B (nl) Werkwijze voor het consolideren van een uit los materiaal bestaande ondergrondse formatie.
NL148099B (nl) Werkwijze voor het verlagen van het vloeipunt van een brandstofmengsel.
NL157119B (nl) Doseertoestel voor xerografisch ontwikkelpoeder.
NL7511529A (nl) Met vezels gewapende uit cement gevormde produk- ten en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
NL146983B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bimorfe piezo-elektrische inrichting en aldus vervaardigde inrichting.
NL234279A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van electrofotografisch materiaal en het aldus verkregen materiaal
NL150531B (nl) Inrichting voor het mechanisch samendrukken van materiaal.
NL145585B (nl) Werkwijze voor het bereiden van uit pek en een copolymeer van een alkeen en een vinylverbinding samengestelde produkten.
NL153338B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een reprografische kopieermassa alsmede kopieermateriaal waarvan de kopieerlaag uit een aldus bereide kopieermassa is gevormd.
NL153833B (nl) Machine voor het ononderbroken vervaardigen van voorwerpen van thermoplastisch materiaal.
NL148847B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van buisvormig wandmateriaal en verpakking vervaardigd uit dit materiaal.
NL161269B (nl) Beklede onderlaag voor fotografisch materiaal en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
NL145796B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van rotatiesymmetrische voorwerpen.
NL143367B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een uit halfgeleidermateriaal en isolerend materiaal opgebouwd lichaam en aldus vervaardigd lichaam.
NL147166B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een polyamideimide.
NL152096B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van bolvormige splijtstofelementen uit grafietpoeder.
NL156460B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elastisch samendrukbaar vulmateriaal uit continu-filamenten.
AT274575B (de) Reprographisches Kopiermaterial
NL145207B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een interferentiefilter met een gebogen oppervlak en aldus verkregen interferentiefilter.
FR1421916A (fr) Classeur pour boîtes de films et analogues
NL142249B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van elektrofotografisch kopieermateriaal en aldus vervaardigd kopieermateriaal.
NL145057B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van elektrofotografisch kopieermateriaal en aldus vervaardigd kopieermateriaal.
NL153682B (nl) Werkwijze voor de bereiding van lichtgevoelig materiaal voor diazotypie.
NL153239B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een vrijvloeiend vormpoeder van polytetrafluoretheen.
NL147645B (nl) Werkwijze voor het vormen van monokristallijn halfgeleidermateriaal door aangroeiing en voorwerp, geheel of ten dele bestaande uit een aldus verkregen monokristal.