NL152115B - Werkwijze voor het vervaardigen van een siliciumhalfgeleiderinrichting door etsen. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een siliciumhalfgeleiderinrichting door etsen.Info
- Publication number
- NL152115B NL152115B NL686815372A NL6815372A NL152115B NL 152115 B NL152115 B NL 152115B NL 686815372 A NL686815372 A NL 686815372A NL 6815372 A NL6815372 A NL 6815372A NL 152115 B NL152115 B NL 152115B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- etching
- procedure
- manufacturing
- silicon semiconductor
- silicon
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/308—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching using masks
- H01L21/3083—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching using masks characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/30604—Chemical etching
- H01L21/30608—Anisotropic liquid etching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/051—Etching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/115—Orientation
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US67981867A | 1967-11-01 | 1967-11-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL6815372A NL6815372A (nl) | 1969-05-05 |
NL152115B true NL152115B (nl) | 1977-01-17 |
Family
ID=24728489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL686815372A NL152115B (nl) | 1967-11-01 | 1968-10-28 | Werkwijze voor het vervaardigen van een siliciumhalfgeleiderinrichting door etsen. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3506509A (nl) |
BE (1) | BE723234A (nl) |
FR (1) | FR96065E (nl) |
GB (1) | GB1250653A (nl) |
MY (1) | MY7300448A (nl) |
NL (1) | NL152115B (nl) |
SE (1) | SE353185B (nl) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3770533A (en) * | 1971-07-02 | 1973-11-06 | Philips Corp | Method of producing high resolution patterns in single crystals |
US3909325A (en) * | 1974-06-28 | 1975-09-30 | Motorola Inc | Polycrystalline etch |
US4137123A (en) * | 1975-12-31 | 1979-01-30 | Motorola, Inc. | Texture etching of silicon: method |
US4859280A (en) * | 1986-12-01 | 1989-08-22 | Harris Corporation | Method of etching silicon by enhancing silicon etching capability of alkali hydroxide through the addition of positive valence impurity ions |
US4810557A (en) * | 1988-03-03 | 1989-03-07 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Method of making an article comprising a tandem groove, and article produced by the method |
US4918030A (en) * | 1989-03-31 | 1990-04-17 | Electric Power Research Institute | Method of forming light-trapping surface for photovoltaic cell and resulting structure |
DE3920644C1 (nl) * | 1989-06-23 | 1990-12-20 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | |
US5431777A (en) * | 1992-09-17 | 1995-07-11 | International Business Machines Corporation | Methods and compositions for the selective etching of silicon |
DE19811878C2 (de) | 1998-03-18 | 2002-09-19 | Siemens Solar Gmbh | Verfahren und Ätzlösung zum naßchemischen pyramidalen Texturätzen von Siliziumoberflächen |
US6326689B1 (en) * | 1999-07-26 | 2001-12-04 | Stmicroelectronics, Inc. | Backside contact for touchchip |
US20090266414A1 (en) * | 2006-05-02 | 2009-10-29 | Mimasu Semiconductor Industry Co., Ltd. | Process for producing semiconductor substrate, semiconductor substrate for solar application and etching solution |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL105904C (nl) * | 1955-12-30 | |||
US3041226A (en) * | 1958-04-02 | 1962-06-26 | Hughes Aircraft Co | Method of preparing semiconductor crystals |
US3425879A (en) * | 1965-10-24 | 1969-02-04 | Texas Instruments Inc | Method of making shaped epitaxial deposits |
-
0
- FR FR172255A patent/FR96065E/fr not_active Expired
-
1967
- 1967-11-01 US US679818A patent/US3506509A/en not_active Expired - Lifetime
-
1968
- 1968-10-25 SE SE14465/68A patent/SE353185B/xx unknown
- 1968-10-28 NL NL686815372A patent/NL152115B/nl unknown
- 1968-10-31 BE BE723234D patent/BE723234A/xx unknown
- 1968-11-01 GB GB1250653D patent/GB1250653A/en not_active Expired
-
1973
- 1973-12-30 MY MY448/73A patent/MY7300448A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MY7300448A (en) | 1973-12-31 |
NL6815372A (nl) | 1969-05-05 |
GB1250653A (nl) | 1971-10-20 |
FR96065E (fr) | 1972-05-19 |
SE353185B (nl) | 1973-01-22 |
DE1806225A1 (de) | 1971-01-28 |
DE1806225B2 (de) | 1972-08-24 |
BE723234A (nl) | 1969-04-01 |
US3506509A (en) | 1970-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL153947B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, waarbij een selectief elektrolytisch etsproces wordt toegepast en halfgeleiderinrichting verkregen met toepassing van de werkwijze. | |
NL160143C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een afgesloten neutro- nengenerator. | |
NL161616C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL141329B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een maskerlaag van siliciumnitride, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting. | |
NL170901C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL161305C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting. | |
NL142287B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL156631B (nl) | Inrichting voor het vervaardigen van biaxiaal verstrekte slangfoelies. | |
NL162789C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL158541B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van laminaten. | |
DK118413B (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af en halvlederkomponent. | |
NL163369C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL143167B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van gestrekte polypropeenfoelies. | |
NL152115B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een siliciumhalfgeleiderinrichting door etsen. | |
NL140296B (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een siliciumdioxydelaag. | |
NL141031B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met ten minste een elektrisch geisoleerd halfgeleidergebied, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154061B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. | |
NL7709377A (nl) | Inrichting voor het opbouwen van banden. | |
NL161300C (nl) | Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleider- inrichting met een zenerdiode en halfgeleiderinrichting vervaardigd door toepassing van deze werkwijze. | |
NL157749C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffect- transistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze. | |
DK117846B (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af et halvlederapparat. | |
NL139843B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichtingen. | |
NL163673C (nl) | Werkwijze ter vervaardiging van een geintegreerde half- geleiderinrichting met een veldeffecttransistor van het overgangstype. | |
NL144778B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting door anisotroop etsen alsmede aldus vervaardigde inrichting. | |
NL143073B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting verkregen door toepassing van deze werkwijze. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NZ80 | Patents of addition are not granted since law of 1.1.78 |
Ref document number: 144778 Country of ref document: NL Date of ref document: 19750516 Format of ref document f/p: P |
|
V3 | Additional patents lapsed at the same time as the main patent |