NL1032338C2 - Inrichting voor het opwekken van straling door middel van gasontlading. - Google Patents

Inrichting voor het opwekken van straling door middel van gasontlading. Download PDF

Info

Publication number
NL1032338C2
NL1032338C2 NL1032338A NL1032338A NL1032338C2 NL 1032338 C2 NL1032338 C2 NL 1032338C2 NL 1032338 A NL1032338 A NL 1032338A NL 1032338 A NL1032338 A NL 1032338A NL 1032338 C2 NL1032338 C2 NL 1032338C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
electrodes
radiation
discharge
capacitor elements
starting material
Prior art date
Application number
NL1032338A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1032338A1 (nl
Inventor
Guido Hergenhan
Christian Ziener
Juergen Kleinschmidt
Frank Flohrer
Original Assignee
Xtreme Tech Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xtreme Tech Gmbh filed Critical Xtreme Tech Gmbh
Publication of NL1032338A1 publication Critical patent/NL1032338A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1032338C2 publication Critical patent/NL1032338C2/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/005X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component

Description

Inrichting voor het opwekken van straling door middel van gasontlading 5 De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor opwekken van straling door middel van gasontlading omvattende een ontladingskamer, die een ontladingsgebied voor gasontlading voor de vorming van een stralinguitzendend plasma uit een vormingsmateriaal en een emissieopening voor de opgewekte straling omvat, en eerste en tweede draaibaar gelagerde elektroden en een 10 hoogspanningsvoorziening voor het opwekken van hoogspanningsimpulsen tussen de beide elektroden.
Er zijn reeds veel op verschillende concepten berustende stralingsbronnen beschreven, die zich baseren op gasontladende plasma’s. Gemeenschappelijk 15 principe van deze inrichtingen is dat een gepulsde hoogstroomontlading van meer dan 10 kiloampère in een gas met een bepaalde dikte wordt aangestoken waarbij als gevolg van de magnetische krachten en de dissipatieve actie in ioniserend gas lokaal een zeer heet (k2 >20 EV) en dicht plasma wordt opgewekt.
20 Hierbij is van bijzondere betekenis dat de levensduur van de bronnencomponenten verder worden verhoogd aangezien door de wisseling daarvan stilstandtijd ontstaat in productieomgevingen waarin de stralingsbronnen worden ingezet.
25 Bij stralingsbronnen, die op gasontlading zijn gebaseerd, is vooral het elektrodesysteem, in het bijzonder de elektroden, die aanzienlijke verhittings- en erosieafhankelijke slijtage ondervinden.
Gedurende verhitting van de elektroden, die vooral door de stroom 30 ontstaat, die door de elektroden vloeit, en door de straling van het plasma, leiden snelle deeltjes, die uit het stralingsuitzendende plasma treden, tot erosie.
Bekende oplossingen benutten overeenkomstig WO 2005/025280 A2 en RU 2252496 C2 roterende elektroden om een ophitting van elektroden tegen te 35 gaan.
1032338 -2-
Bij de voor de metallische stralers geschikte inrichting volgens WO 2005/025280 A2 duiken de roterende elektroden daartoe in een houder met een metaalsmelt, zoals bijvoorbeeld tin, waarbij het op de elektrodeoppervlakte 5 aanwezige metaal door middel van laserstraling verdampt en de damp door een gasontlading tot een plasma wordt aangestoken.
De WO 2005/025280 A2 stelt verder voor de stroompuls van de elektrode over de metaalsmelt te voeren, zodat de voor het opslaan van de elektrische 10 energie voor de plasmaopwekking benodigde condensatoren door middel van meerdere, in isolatoren vacuümdicht ingebedde metaalstiften of banden met het vloeibaar metaal in de houders elektrisch verbonden zijn.
Omdat de condensatoren buiten de ontladingskamers zijn opgesteld 15 resulteert dit noodzakelijk in een hoge inductiviteit van de ontladingskring op grond van de vereiste stroomdoorvoer tot de elektroden, Dat heeft tot gevolg dat de tijdsduur van de stroomimpuls door de elektroden verlengt, waardoor de energie die in het plasma kan worden afgegeven niet efficiënt voor de stralingsopwekking kan worden benut.
20
Daarom is een doel, inductiviteit van de ontladingskring voor de gasontlading bij gelijktijdig verhoogde levensduur van het elektrodesysteem aanzienlijk te verminderen. Daarbij dient de inzet van verschillende stralers te kunnen worden gewaarborgd.
25
Volgens de uitvinding wordt het doel door een stralingsinrichting voor een gasontlading door de in de aanhef genoemde stand van de techniek daardoor opgelost dat de elektroden met onderlinge afstanden star met elkaar zijn verbonden en om een gemeenschappelijke as draaibaar zijn gelagerd waarbij door 30 de onderlinge afstand een vrije ruimte wordt gevormd waarin condensatorelementen van de hoogspanningsinrichting zijn opgesteld, en dat de elektroden zowel met condensatorelementen als met een spanningsbron voor de oplading van de condensatorelementen elektrisch verbonden zijn.
-3-
Door de opstelling van de voor de toevoer van elektrische energie benodigde condensatorelementen tussen de gemeenschappelijk ronddraaiende elektroden en hun directe elektrische verbinding met de elektroden wordt de inductiviteit van de ontladingskring aanzienlijk verminderd. Dat garandeert een 5 snelle stijging van de stroom gedurende de ontlading en voert tot een verhoging van de conversie-efficiënte van elektrische energie tot uitzendende stralingsenergie. De condensatorelementen kunnen ofwel met gelijkstroom ofwel met korte stroomimpulsen worden opgeladen.
10 Een bijzondere uitvoeringsvorm van de uitvinding voorziet erin dat de elektroden in elektrisch van elkaar gescheiden smeltbaden een metallische smelt induiken, waardoor er bij de rotatie van de elektroden een bevochtiging van het elektrodeoppervlak met metaal wordt voorzien. Als alternatief kunnen de elektroden in elektrisch contact tot coaxiaal met betrekking tot de draai-as 15 gerichte induikelementen staan, die in elektrisch van elkaar gescheiden smeltbaden duiken.
Bij beide uitvoeringsvormen is de elektrische verbinding van de elektroden met de spanningsbron over de smeltbaden gevoerd, waarbij als 20 metallische smelt een tin of lithium bad kan worden voorzien.
Overeenkomstig een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding wordt erin voorzien dat de van de elektrode opgenomen metallische smelt als uitgangsmateriaal voor de stralingsopwekking dient.
25
Als alternatief kan echter ook een injectie-inrichting op het ontladingsgebied zijn gericht die een serie van afzonderlijke volumina van de voor stralingsopwekking dienend uitgangsmateriaal als vloeibare of vaste druppels gereed maakt en met afstand naar de elektroden in het 30 ontladingsgebied injecteert.
De injectie van afzonderlijke volumina bereikt bij de inrichting volgens de uitvinding, waarbij de bijzonder extreme ultraviolette straling door een gasontlading kan worden opgewekt, een maximering van de afstand tussen de 35 plaats van de plasmaopwekking en de elektroden. In samenhang met de rotatie -4- van de elektroden leidt de tot afstandsvergroting dienende maatregel, waarbij het als emitter voorziene uitgangsmateriaal voor de opwekking van straling in vaste toestand als druppeltje of kogeltje op een voor de plasmaopwekking optimale plek wordt geplaatst en vooraf geïoniseerd wordt, tot een verhoging van 5 de levensduur van de elektroden. Verder kunnen zelfs de belemmeringen met betrekking tot het emittermateriaal worden opgeheven, zodat zowel xenon als zowel tin, als tinverbindingen of lithium kunnen worden benut. Onder vaste toestand dient een vaste stofdichtheid of een dichtheid weinig minder dan de vaste stofdichtheid te worden begrepen.
10
Volgens de uitvinding wordt het voor de gewenste stralenemissie in het EUV-golflengtebereik optimale emitteraantal per stralingspuls nagenoeg onafhankelijk van de achtergrond gasdichtheid door de grootte van het ingebrachte afzonderlijke volume bepaald. In deze zin leidt de toevoer van de als 15 emitter dienende uitgangsmateriaal in regeneratieve en echt massagelimiteerde vorm.
Een verder voordeel van de aanwending van het emittermateriaal in de vorm van kleine afzonderlijke volumina door een injectie-inrichting heeft 20 betrekking op de mogelijkheid druppeltjes als emittermateriaal op een willekeurige plek van elektrodeomvang in te kunnen brengen. Daarmee kan een stralingsbron worden gerealiseerd die straling in een bepaalde richting uitzendt.
Het heeft bijzondere voorkeur als op het uitgangsmateriaal voor de 25 opwekking van de straling een door een energiestraalbron afgezonden energiestraal wordt gericht, waardoor een minstens gedeeltelijke ionisatie van het uitgangsmateriaal volgt die een optimale inkoppeling van ontladingsenergie in het uitgangsmateriaal mogelijk maakt. Bovendien kan de geometrie van de elektroden tegenover de zuivere aanwending van bij voorkeur argon als 30 achtergrondgas duidelijk worden vergroot.
Als energiestralingsbron zijn laser-, elektronen of ionenstraalbronnen geschikt.
-5-
Voor de bescherming van ongewenste materiaalafzettingen op de elektroden, de condensatoren respectievelijk op de inrichtingen, die de afstand tussen de elektroden zeker stellen, is een inrichting voorzien die in de vrije tussenruimte tussen de elektroden in het bijzonder tussen het ontladingsgebied 5 en condensatorelementen is aangebracht, en die een labyrintverdichting van elektrisch isolerend of metallische cilinderringen omvat, die afwisselend aan de elektroden zijn aangebracht, en die tenminste gedeeltelijk overlappen en de condensatorelementen omsluiten.
10 De uitvinding zal hierna aan de hand van een schematische tekening nader worden verklaard. Hierin toont:
Figuur 1 Een draaielektroden-inrichting, waarbij de elektroden in een metaalsmelt duiken, 15
Figuur 2 Een draaielektroden-inrichting, waarbij het uitgangsmateriaal voor de opwekking van de straling in de vorm van afzonderlijke volumina in het ontladingsgebied wordt ingebracht, 20
Figuur 3 Een draaielektroden-inrichting met druppelvormig geïnjecteerd xenon als uitgangsmateriaal en met een stroomtoevoer over sleepcontacten 25 Figuur 4 Een draaielektroden-inrichting met druppelvormig geïnjecteerd xenon als uitgangsmateriaal en met een stroomtoevoer over elektrisch geïsoleerde smeltbaden van metallische smelten.
30 Figuur 5 Een variant van de uitvoeringsvorm volgens figuur 4, waarbij de draai-as van de draaielektroden-inrichting verticaal is opgesteld
Figuur 6 Een gasontladingsbron met een draaielektroden-inrichting 35 volgens de uitvinding.
-6-
Bij de in figuur 1 weergegeven draaielektroden-inrichting zijn twee elektroden 1, 2 door middel van afstandshouders 3 uit isolerend materiaal vast met elkaar verbonden en om een gemeenschappelijke, door een bron 4 verlopende draai-as X-5 X draaibaar gelagerd. In de vrije tussenruimte tussen de elektroden 1, 2 is een veelvoud van elektrisch met de elektroden verbonden condensatorelementen 5, die bij voorkeur als keramiek condensatoren worden gevormd, aangebracht, voor de oplading waarvan een spanningsbron 6 als hoogspanningstoevoer dient. De condensatorelementen 5 zorgen ervoor, dat de gasontlading met een 10 repetitiefrequentie van meerdere kHz kan worden bedreven.
In een eerste uitvoeringsvorm zijn elektrisch van elkaar gescheiden smeltbaden 7, 8 met een metallische smelt voorzien, in welke de elektroden 1, 2 duiken, zodat door de rotatie van de elektroden 1, 2 een opname van als 15 uitgangsmateriaal voor de opwekking van stralen voorziene metallische smelt volgt.
Hierdoor worden zelfschoonmakende elektroden voorzien, waarbij door voortdurend opbrengen van het uitgangsmateriaal voor de opwekking van stralen een erosie van elektroden kan worden tegengegaan.
20
Omdat de beide smeltbaden 7, 8, die bij voorkeur tinbaden zijn, in elektrisch contact met de spanningsbron 6 staan, kan de oplading van de condensatorelementen 5 via deze smeltbaden 7, 8 en de elektroden 1, 2 volgen.
25 Een door de energiestralingsbron 9 voorziene energiestraal 10 is op een elektrodeoppervlak 11 gericht, zodat zich op het oppervlak bevindend uitgangsmateriaal voor de opwekking van straling, wordt verdampt. Aangezien zich het verdampte materiaal tussen de elektroden 1, 2 uitbreidt, worden de omstandigheden voor de ontlading van de condensatorelementen 5 geschapen, 30 zodat zich door vonken van een gasontlading een klein, heet plasma 12 in het ontladingsgebied 13 uitstrekt, dat elektromagnetische straling in het golflengtegebied van de voorkeur uitzendt.
Als stralingsbron 9 zijn in het bijzonder laserstralingsbronnen, als ook 35 ionen- of elektronenstralingsbronnen, geschikt. Van bijzonder belang is voor de -7- functie van de draaielektroden-inrichting, dat noch op de condensatorelementen 5, noch op de afstandshouder 3 elektrisch geleidend materiaal neerslaat, dat na de ontlading aan de oppervlakte in het binnenste van de gasontladingsbron kan condenseren. Daarom heeft de draaielektroden-inrichting in de vrije ruimte 5 tussen de elektroden 1, 2 een beschermingsinrichting in de vorm van labyrintverdichting 14, die uit coaxiaal ten opzichte van de draai-as X - X gerichte cilindrische ringen 14.1 uit metaal of elektrisch geïsoleerd keramiek bestaat, die aan weerszijden van de elektroden 1, 2 zijn aangebracht, minstens gedeeltelijk overlappen en de condensatorelementen 5 en de afstandshouder 3 10 omsluiten. Bij geschikte dimensionering van het labyrint wordt een lange bedrijfsduur zonder beïnvloeding door condensaat verkregen.
Volgens een tweede uitvoeringsvorm van de uitving wordt voorzien dat het uitgangsmateriaal, bijvoorbeeld tin de vorm van afzonderlijke volumina 15 in 15 het ontladingsgebied 13 wordt ingebracht, in het bijzonder op een afstand van de elektroden 1,2 voorziene plek in het ontladingsgebied 13, waarna de plasmaopwekking volgt. Bij voorkeur worden de afzonderlijke volumina 15 als continue druppelstroom in dichte, dat wil zeggen in vaste of vloeibare vorm door een op het ontladingsgebied 13 gerichte injectie-inrichting 16 voorzien.
20
De door de energiestraalbron 9 opgewekte gepulsde energiestraal 10, die bij voorkeur een laserstraal van een laserstralingsbron kan zijn, is tijdsynchroon met de frequentie van de gasontlading op de plek van de plasmaopwekking in het ontladingsgebied 13 gericht, om één van de druppels te ioniseren. Een hier niet 25 weergegeven straalval kan worden voorzien, die niet geabsorbeerde energiereststraling volledig kan opnemen. De druppelinjectie bezit als voordeel dat de afstand tussen het plasma 12 en de elektroden 1,2 in tegenstelling tot de uitvoering volgens figuur 1 bij het uitgangsmateriaal van de elektrodeoppervlakten wordt afgedampt, en vergroot kan worden, wat tot een 30 vermindering van erosie van het elektrodeoppervlak leidt. Dit is ook dan voordelig, als de elektroden 1, 2 door een metaalsmelt lopen, aangezien geërodeerd materiaal potentieel tot een vervuiling van de gasontladingsbron respectievelijk van de totale inrichting van kan leiden, waarin de gasontladingsbron wordt ingezet.
35 -8-
Een dergelijke, bij metallische uitzenders, in het bijzonder bij tin bestaande vervuilingprobleem kan worden vermeden, doordat als afzonderlijke volumes druppels uit bevroren xenon volgens figuur 3 in het ontladingsgebied 13 worden ingebracht en door middel van deze straling worden verdampt.
5
Aangezien de erosie van de elektrodeoppervlakten door het plasma 12 met de temperatuur van de elektroden 1,2 samenhangt, kunnen deze in hun binnenste, koelkanalen 17 hebben, waardoor koelvloeistof, bijvoorbeeld water, voor directe koeling stroomt. Wordt de koelvloeistof met hoge druk door de 10 koelkanalen 17 gedrukt, dan verhoogt de koelingefficiëntie, in het bijzonder ook door de aanzienlijke verhoging van het kookpunt van de koelvloeistof.
De toevoer van de voor de gasontlading noodzakelijke elektrische energie van de spanningsbron 6 naar de condensatorelementen 5 kan op verschillende 15 wijzen volgen. Zo is volgens figuur 3 voorzien dat de elektroden 1, 2 over sleepcontacten 18 met de spanningsbron 6 elektrisch verbonden zijn.
Bij een andere uitvoering volgens figuur 4, waarbij de als afzonderlijke volumina 15 eveneens xenondruppels in het ontladingsgebied 13 worden 20 geïnjecteerd volgt een stroomtoevoer naar de condensatorelementen 5 via elektrisch geïsoleerde smeltbaden 7’, 8’ van metallische smelten, bijvoorkeur tinbaden of andere metallische baden met een laagsmeltpunt zoals bijvoorbeeld galiumbaden. Ter onderscheid van de uitvoering volgens figuur 1 duiken de elektroden 1, 2 echter niet direct in de metallische smelt, maar doen dit 25 ringschijfvormige duikelementen 19, 20 van elektrisch geleidend materiaal, die de elektroden 1, 2 omsluiten en met deze in elektrisch contact staan. De induikelementen 19, 20 zijn in hun vorm en grootte zodanig gevormd dat een verdamping van door hun opgenomen metaal wordt verhinderd. In bijzonder heeft het bevochtigde oppervlak van induikelementen 19, 20 geen directe 30 zichtlinie op het plasma 12, waardoor erosie wordt verhinderd.
Met een dergelijke oplossing is ook bij geïnjecteerde xenondruppels een slijtage vrije stroomtoevoer tot de condensatorelementen 5 mogelijk zonder dat het tot metallische afzettingen in of buiten de gasontladingsbron komt.
35 -9-
Metallische smeltbaden hebben bij aanwending van metalen met een laag smeltpunt het voordeel dat deze onder omstandigheden voor koeling van elektroden kunnen worden benut, welke door opgewekte hoge elektrische prestaties vaak veel hogere temperaturen kunnen bereiken dan voor bedrijf van 5 de smeltbaden noodzakelijk. Door de koeling van de smeltbaden kan deze overtollige warmte worden afgevoerd.
Bij een constructief anders ingerichte variant van de uitvoering volgens figuur 4 is de draai-as X-X overeenkomstig figuur 5 in het verticale gelegd. Voor 10 beide elektroden Γ, 2’ zijn gescheiden elektrische smeltbaden 7”, 8” van een metallische smelt, bijvoorkeur tin, voorzien, welke de bron 4 coaxiaal omsluiten en in welke elektroden Γ, 2’ met cilindervormige elektrische contactelementen 21, 22 duiken. De smeltbaden 7”, 8” zijn met afdekkingen 23, 24 voorzien, welke slechts een kleine spleet tussen de contactelementen 21, 22 vrijlaten, om de 15 verdamping van het gesmolten metaal te minimaliseren. Veder dienen de smeltbaden 7”, 8” gelijktijdig daartoe, de door de ontlading in elektroden Γ, 2’ ontstane warmte af te voeren, waardoor de smeltbaden 7”, 8” op niet verder getoonde wijze geschikt kunnen worden gekoeld.
20 Ook kan het voor de opwekking van het plasma 12 noodzakelijke emittermateriaal ofwel in druppelvorm in het ontladingsgebied worden gebracht, waar het door een energiestraal wordt verdampt, of wordt het op geschikte wijze op de oppervlakte van een elektroden Γ, 2’ opgebracht en vandaar door een energiestraal in het ontladingsgebied gebracht.
25
Geen beperkende invloed moet het hebben dat de wezenlijke bestanddelen van de gasontladingsbron uitsluitend voor de werking volgens figuur 3 als aanvulling in figuur 6 zijn weergegeven. Op analoge wijze zijn deze bestanddelen uiteraard ook bij de overige uitvoeringen van de uitvinding te vinden.
30
De draaielektroden-inrichting volgens de uitvinding is in een als vacuümkamer gevormde ontladingskamer 25 gebracht, van waaruit de elektrische verbinding tot de spanningsbron 6 over elektrische vacuümdoorleidingen 26, 27 volgt.
35 -10-
De vanuit het hete plasma 12 gezonden straling 28 komt naar doorloop van een debrisafscherminrichting 29 op een collectoroptiek 30, welke de straling 28 op een stralingsuittredingsopening 31 in de ontladingskamer 25 richt. Door de afbeelding van het plasma 12 door de collectoroptiek 30 wordt in of nabij de 5 stralingsuittredingsopening 31 een gelokaliseerd tussenfocus ZF genereert, die als scheidslijn voor een belichtingsoptiek in een halfgeleiderbelichtingsinrichting dient, welke de bijvoorkeur voor EUV-golflengtebereik gevormde gasontladingsbron kan zijn voorzien.
1032338

Claims (22)

1. Inrichting voor opwekking van straling door middel van gasontlading omvattende 5 een ontladingskamer, die een ontladingsgebied voor de gasontlading voor de vorming van een stralinguitzendend plasma uit een uitgangsmateriaal en een emissieopening voor de opgewekte straling opvat, een eerste en een tweede draaibaar gelagerde elektrode en een hoogspanningsvoorziening voor opwekking van hoogspanningsimpulsen tussen 10 de beide elektroden, met het kenmerkt dat de elektroden (1, 2, Γ, 2’) met onderlinge afstand star met elkaar verbonden en om een gemeenschappelijke as (X-X) draaibaar gelagerd zijn, waarbij door de onderlinge afstand een vrije ruimte wordt gevormd, waarin de 15 condensatorelementen 5, van de hoogspanningsvoorziening zijn opgesteld, en dat de elektroden (1, 2, Γ, 2’) zowel met de condensatorelementen (5) als ook met de spanningsbron (6) voor de oplading van de condensatorelementen (5) elektrisch verbonden zijn.
2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de elektroden (1, 2) in elektrisch van elkaar gescheiden smeltbaden (7, 8) van een metallische smelt induiken, waarbij het bij de rotatie van de elektroden (1, 2) tot een benatting van de elektrodeoppervlakken met metaal komt.
3. Inrichting volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de metallische smelt als tinbad is gevormd.
4. Inrichting volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de metallische smelt als lithiumbad of galliumbad is gevormd. 30
5. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de elektroden (1, 2, Γ, 2’) in elektrisch contact tot coaxiaal ten opzichte van de draai-as (X-X) ingerichte induikelementen (19, 20, 21, 22) staan, die in elektrisch van elkaar gescheiden smeltbaden (7’, 8’, 7”, 8”) van een metallische smelt induiken. 35 1032338 -12-
6. Inrichting volgens conclusie 3, 4 of 5, met het kenmerk, dat de elektrische verbinding van de elektroden (1, 2, Γ, 2’) met de spanningsbron (6) via de smeltbaden (7, 8, 7’, 8’, 7”, 8”) wordt geleid.
7. Inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat op het ontladingsgebied (13) een injectie-inrichting (16) is gericht, die een serie van afzonderlijke volumina (15) van het voor het stralingsopwekking dienend uitgangsmateriaal aanvoert en op afstand van de elektroden (1, 2, Γ, 2’) in het ontladingsgebied (13) injecteert. 10
8. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat op het ontladingsgebied (13) een injectie-inrichting (16) is gericht, die een serie van afzonderlijke volumina (15) van het voor stralingsopwekking dienend uitgangsmateriaal aanvoert en op afstand van de elektroden (1, 2, Γ, 2’) in het 15 ontladingsgebied (13) injecteert, en dat de elektrische binding van de elektroden (1, 2) met de spanningsbron (6) over sleepcontacten (18) wordt geleid.
9. Inrichting volgens conclusie 7 of 8, met het kenmerk, dat de in het ontladingsgebied (13) geïnjecteerde afzonderlijke volumina (15) als vloeibare of 20 vaste druppels zijn gevormd.
10. Inrichting volgens conclusie 9, met het kenmerk, dat de druppels uit metallisch materiaal bestaan,
11. Inrichting volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat als metallisch materiaal tin of lithium is voorzien.
12. Inrichting volgens conclusie 9, met het kenmerk, dat de druppels uit vloeibaar of bevroren xenon bestaan. 30
13. Inrichting volgens conclusie 3 of 4, met het kenmerk, dat de door de elektroden (1, 2) opgenomen metallische smelt als uitgangsmateriaal voor de stralingsopwekking is voorzien. -13-
14. Inrichting volgens conclusie 8 tot en met 13, met het kenmerk, dat op het uitgangsmateriaal voor de stralingsopwekking een door energiestralingsbron (9) opgewekte energiestraal (10) is gericht, waardoor een minstens gedeeltelijke ionisatie van het uitgangsmateriaal volgt. 5
15. Inrichting volgens conclusie 14, met het kenmerk, dat de energiestralingsbron (9) een laserstraalbron is.
16. Inrichting volgens conclusie 14, met het kenmerk, dat de 10 energiestralingsbron (9) een elektronenstraalbron is.
17. Inrichting volgens conclusie 14, met het kenmerk, dat de energiestralingsbron (9) een ionenstraalbron is.
18. Inrichting volgens conclusie 1 tot en met 17, met het kenmerk, dat in de vrije ruimte tussen de elektroden (1, 2) een tussen het ontladingsgebied (13) en de condensatorelementen (5) ingerichte inrichting voor bescherming van materiaalafzettingen is aangebracht.
19. Inrichting volgens conclusie 18, met het kenmerk, dat de inrichting een labyrintpakking (14), bestaande uit coaxiaal ten opzichte van de draai-as (X-X) gerichte cilindrische ringen (14.1) omvat, die aan weerszijden van de elektroden (1, 2) zijn aangebracht, en tenminste gedeeltelijk overlappen en de condensatorelementen (5) omsluiten. 25
20. Inrichting volgens conclusie 19, met het kenmerk, dat de cilindrische ringen (14.1) uit metaal bestaan.
21. Inrichting volgens conclusie 19, met het kenmerk, dat de cilindrische 30 ringen (14.1) uit elektrisch geïsoleerd keramiekmateriaal bestaat.
22. Inrichting volgens conclusie 1 tot en met 21, met het kenmerk, dat in de elektroden (1, 2) koelkanalen (17) zijn ingelaten. 1032338
NL1032338A 2005-08-19 2006-08-17 Inrichting voor het opwekken van straling door middel van gasontlading. NL1032338C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005039849 2005-08-19
DE102005039849A DE102005039849B4 (de) 2005-08-19 2005-08-19 Vorrichtung zur Strahlungserzeugung mittels einer Gasentladung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1032338A1 NL1032338A1 (nl) 2007-02-20
NL1032338C2 true NL1032338C2 (nl) 2010-05-12

Family

ID=37715361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1032338A NL1032338C2 (nl) 2005-08-19 2006-08-17 Inrichting voor het opwekken van straling door middel van gasontlading.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7800086B2 (nl)
JP (1) JP4810351B2 (nl)
DE (1) DE102005039849B4 (nl)
NL (1) NL1032338C2 (nl)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080239262A1 (en) * 2007-03-29 2008-10-02 Asml Netherlands B.V. Radiation source for generating electromagnetic radiation and method for generating electromagnetic radiation
US20090095924A1 (en) * 2007-10-12 2009-04-16 International Business Machines Corporation Electrode design for euv discharge plasma source
NL1036272A1 (nl) * 2007-12-19 2009-06-22 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL1036595A1 (nl) * 2008-02-28 2009-08-31 Asml Netherlands Bv Device constructed and arranged to generate radiation, lithographic apparatus, and device manufacturing method.
JP4623192B2 (ja) * 2008-09-29 2011-02-02 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法
DE102010047419B4 (de) 2010-10-01 2013-09-05 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von EUV-Strahlung aus einem Gasentladungsplasma
DE102010050947B4 (de) * 2010-11-10 2017-07-13 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Verfahren und Anordnung zur Stabilisierung des Quellortes der Erzeugung extrem ultravioletter (EUV-)Strahlung auf Basis eines Entladungsplasmas
DE102012109809B3 (de) 2012-10-15 2013-12-12 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
DE102013103668B4 (de) 2013-04-11 2016-02-25 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Anordnung zum Handhaben eines flüssigen Metalls zur Kühlung von umlaufenden Komponenten einer Strahlungsquelle auf Basis eines strahlungsemittierenden Plasmas
DE102013209447A1 (de) * 2013-05-22 2014-11-27 Siemens Aktiengesellschaft Röntgenquelle und Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlung
US9301381B1 (en) 2014-09-12 2016-03-29 International Business Machines Corporation Dual pulse driven extreme ultraviolet (EUV) radiation source utilizing a droplet comprising a metal core with dual concentric shells of buffer gas
CN105573060B (zh) * 2014-10-16 2017-12-01 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Euv光源和曝光装置、校准装置和校准方法
JP6477179B2 (ja) * 2015-04-07 2019-03-06 ウシオ電機株式会社 放電電極及び極端紫外光光源装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1298965A2 (en) * 2001-08-07 2003-04-02 Nikon Corporation Radiation-generating devices utilizing multiple plasma-discharge sources and microlithography apparatus and methods utilizing the same
WO2005025280A2 (en) * 2003-09-11 2005-03-17 Koninklijke Philips Electronics N. V. Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10289797A (ja) * 1997-04-11 1998-10-27 Sangyo Souzou Kenkyusho:Kk X線発生装置
JPH1164598A (ja) * 1997-08-26 1999-03-05 Shimadzu Corp レーザプラズマx線源
JP2001021697A (ja) * 1999-07-06 2001-01-26 Shimadzu Corp レーザープラズマx線源
JP2003288998A (ja) * 2002-03-27 2003-10-10 Ushio Inc 極端紫外光源
RU2252496C2 (ru) * 2002-07-31 2005-05-20 Борисов Владимир Михайлович Устройство и способ получения коротковолнового излучения из плазмы газового разряда
EP1401248B1 (en) * 2002-09-19 2012-07-25 ASML Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
SG153664A1 (en) * 2002-09-19 2009-07-29 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
US7154109B2 (en) * 2004-09-30 2006-12-26 Intel Corporation Method and apparatus for producing electromagnetic radiation
US7501642B2 (en) * 2005-12-29 2009-03-10 Asml Netherlands B.V. Radiation source

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1298965A2 (en) * 2001-08-07 2003-04-02 Nikon Corporation Radiation-generating devices utilizing multiple plasma-discharge sources and microlithography apparatus and methods utilizing the same
WO2005025280A2 (en) * 2003-09-11 2005-03-17 Koninklijke Philips Electronics N. V. Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007053099A (ja) 2007-03-01
NL1032338A1 (nl) 2007-02-20
DE102005039849B4 (de) 2011-01-27
DE102005039849A1 (de) 2007-03-01
US7800086B2 (en) 2010-09-21
JP4810351B2 (ja) 2011-11-09
US20070040511A1 (en) 2007-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1032338C2 (nl) Inrichting voor het opwekken van straling door middel van gasontlading.
TWI382789B (zh) 製造遠紫外線輻射或軟性x射線之方法及裝置
RU2557078C2 (ru) Устройство генерирования электронного луча
KR101214136B1 (ko) Euv 방사용 가스 방전원
US3793179A (en) Apparatus for metal evaporation coating
US7531820B2 (en) Arrangement and method for the generation of extreme ultraviolet radiation
US20130162136A1 (en) Arc devices and moving arc couples
US7476884B2 (en) Device and method for generating extreme ultraviolet (EUV) radiation
JPS63276858A (ja) イオンビーム発生装置
US8259771B1 (en) Initiating laser-sustained plasma
JP5183928B2 (ja) 特にeuv放射及び/又は軟x線放射を発生する方法及び装置
US20070230531A1 (en) Arrangement for generating extreme ultraviolet radiation by means of an electrically operated gas discharge
US7781947B2 (en) Apparatus and methods for producing electromagnetic radiation
JP2007280950A (ja) 電気的に作動するガス放電に基づく極紫外線発生装置
US6391164B1 (en) Deposition of coatings and thin films using a vacuum arc with a non-consumable hot anode
Rakhovsky Current density per cathode spot in vacuum arcs
JP6150810B2 (ja) 電気エネルギーを熱エネルギーに変換するためのシステム
RU170782U1 (ru) Вакуумный разрядник
Juttner On the nature of arc cathode spots in vacuum and plasmas
Rutberg et al. Investigation of anode and cathode jets influence on electric arc properties with current up to 500 kA
WO2005078762A2 (en) High-intensity electromagnetic radiation apparatus and methods
RU2654493C1 (ru) Вакуумный разрядник
JP2008291339A (ja) イオンクラスタービーム蒸着装置
JP6303894B2 (ja) プラズマ光源システム
JP2007308787A (ja) アーク蒸着源、成膜装置

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20100311

SD Assignments of patents

Effective date: 20140214

MM Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20190901