NL1023656A1 - Werkwijze voor het structureren van een lithografiemasker. - Google Patents
Werkwijze voor het structureren van een lithografiemasker.Info
- Publication number
- NL1023656A1 NL1023656A1 NL1023656A NL1023656A NL1023656A1 NL 1023656 A1 NL1023656 A1 NL 1023656A1 NL 1023656 A NL1023656 A NL 1023656A NL 1023656 A NL1023656 A NL 1023656A NL 1023656 A1 NL1023656 A1 NL 1023656A1
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- structuring
- lithography mask
- lithography
- mask
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/093—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antistatic means, e.g. for charge depletion
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/76—Patterning of masks by imaging
- G03F1/78—Patterning of masks by imaging by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam patterning of masks
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/143—Electron beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10228546A DE10228546B4 (de) | 2002-06-26 | 2002-06-26 | Verfahren zur Strukturierung einer Lithographiemaske |
DE10228546 | 2002-06-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1023656A1 true NL1023656A1 (nl) | 2003-12-30 |
NL1023656C2 NL1023656C2 (nl) | 2005-03-31 |
Family
ID=30009762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1023656A NL1023656C2 (nl) | 2002-06-26 | 2003-06-13 | Werkwijze voor het structureren van een lithografiemasker. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7005220B2 (nl) |
DE (1) | DE10228546B4 (nl) |
NL (1) | NL1023656C2 (nl) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7302672B2 (en) * | 2002-07-12 | 2007-11-27 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for context-specific mask writing |
US7231628B2 (en) * | 2002-07-12 | 2007-06-12 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for context-specific mask inspection |
WO2004008246A2 (en) | 2002-07-12 | 2004-01-22 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for context-specific mask writing |
US7024638B2 (en) * | 2003-07-14 | 2006-04-04 | Cadence Design Systems, Inc. | Method for creating patterns for producing integrated circuits |
CN103488046B (zh) * | 2013-09-26 | 2019-10-22 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种纳米压印光刻装置及其方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5306601A (en) * | 1988-06-29 | 1994-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fine pattern forming material and pattern forming method |
JPH03228053A (ja) * | 1990-02-01 | 1991-10-09 | Fujitsu Ltd | 光露光レチクル |
US5242770A (en) | 1992-01-16 | 1993-09-07 | Microunity Systems Engineering, Inc. | Mask for photolithography |
JP3453435B2 (ja) * | 1993-10-08 | 2003-10-06 | 大日本印刷株式会社 | 位相シフトマスクおよびその製造方法 |
US5821014A (en) | 1997-02-28 | 1998-10-13 | Microunity Systems Engineering, Inc. | Optical proximity correction method for intermediate-pitch features using sub-resolution scattering bars on a mask |
-
2002
- 2002-06-26 DE DE10228546A patent/DE10228546B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-06-13 NL NL1023656A patent/NL1023656C2/nl not_active IP Right Cessation
- 2003-06-19 US US10/465,103 patent/US7005220B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040013952A1 (en) | 2004-01-22 |
NL1023656C2 (nl) | 2005-03-31 |
DE10228546B4 (de) | 2006-08-10 |
US7005220B2 (en) | 2006-02-28 |
DE10228546A1 (de) | 2004-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL1028856A1 (nl) | Werkwijze voor het coderen van een film. | |
NL1028595A1 (nl) | Werkwijze voor het vormen van een fotogevoelig patroon, halfgeleiderinrichting gebruikmakend van deze werkwijze en belichtingsinrichting daarvan. | |
NL1030153A1 (nl) | Toestel voor belichten van een substraat, fotomasker en aangepast belichtingssysteem van het toestel, en werkwijze voor vormen van een patroon op een substraat onder gebruikmaking van het toestel. | |
NL1024805A1 (nl) | Optische inrichting voor gebruik bij een lithografiewerkwijze, in het bijzonder voor de productie van een halfgeleiderinrichting, en optische lithografiewerkwijze. | |
NL1027187A1 (nl) | Een masker voor inspectie van een belichtingsinrichting, een werkwijze voor inspectie van een belichtingsinrichting, en een belichtingsinrichting. | |
NL1028349A1 (nl) | Systeem en werkwijze voor het gebruik van een zijdelings gemonteerde interferometer voor het verwerven van positie-informatie. | |
NL1027673A1 (nl) | Werkwijze voor genereren van resultaatbeelden van een onderzoeksobject. | |
NL1032187A1 (nl) | Werkwijze voor het genereren van een maskerpatroon, systeem voor het genereren van een maskerpatroon en computerprogrammaproduct. | |
NL1031119A1 (nl) | Blootstellingswerkwijze van een patroon en inrichting. | |
NO20053170D0 (no) | Fremgangsmate for a forhindre gjenbruk i et analyttmalesystem. | |
NL1023892A1 (nl) | Inspectiewerkwijze en een fotomasker. | |
NL1029167A1 (nl) | Werkwijzen en systemen voor gegevensintegratie. | |
NL1026724A1 (nl) | Niveauverschuivingsinrichting voor het detecteren van een geaarde voedingsbron, alsmede een niveauverschuivingswerkwijze. | |
NL1030699A1 (nl) | Blootstellingssysteem, de blootstellingswerkwijze en werkwijze om halfgeleiderinrichting te vervaardigen. | |
NL1031824A1 (nl) | Een nieuwe inrichting en werkwijze voor immersie lithografie. | |
NL1026914A1 (nl) | Fotomasker, lithografiewerkwijze, en werkwijze voor het vervaardigen van het fotomasker. | |
NL1028888A1 (nl) | Inrichting voor ontvlechten en werkwijze met gebruikmaking van gedetecteerde lijnbibber. | |
NL1026665A1 (nl) | Reticule, inrichting voor het bewaken van een optisch stelsel, werkwijze voor het bewaken van een optisch stelsel en werkwijze voor het vervaardigen van een reticule. | |
NL1029018A1 (nl) | Werkwijze en inrichting voor het verbeteren van de contrastratio in een projectiesysteem. | |
NL1031104A1 (nl) | Systeem en werkwijze voor lithografie in halfgeleider productie. | |
NL1025480A1 (nl) | Inspectiewerkwijze, processor en werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL1026366A1 (nl) | Zeer doelmatig projectiesysteem en werkwijze voor het vormen van een kleurenbeeld door gebruik daarvan. | |
NL1022281A1 (nl) | Inrichting en werkwijze voor het wikkelen van een buigzame leiding. | |
NL1025558A1 (nl) | Inrichting voor het walsen en een werkwijze voor walsen. | |
NL1032126A1 (nl) | Inrichting en werkwijzen voor immersie lithografie. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AD1A | A request for search or an international type search has been filed | ||
RD2N | Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report) |
Effective date: 20050126 |
|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20080101 |