MX2012004536A - Metodo y aparato para tratar la superficie de un sustrato de un sustrato. - Google Patents

Metodo y aparato para tratar la superficie de un sustrato de un sustrato.

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Abstract

En un método para el tratamiento de una superficie de sustrato de un sustrato plano con un medio de procesamiento en la cara inferior del sustrato, el medio de procesamiento tiene un efecto de eliminación o de grabado en la superficie del sustrato. Los sustratos son humedecidos con el medio de procesamiento desde abajo de tal forma que yacen horizontalmente, el costado de la cara superior ascendente del sustrato se humedece o es cubierta con agua o un liquido de protección correspondiente sobre un área o sobre toda el área como protección contra el medio de procesamiento que actúa en la cara superior del sustrato.

Description

MÉTODO Y APARATO PARA TRATAR LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO DE UN SUSTRATO Campo de aplicación del arte previo El invento se relaciona con un método para tratar la superficie de un sustrato de acuerdo con el preámbulo de la reivindicación 1 , y con un aparato adecuado para realizar el método.
DE 10 2005 062 527 A1 y DE 10 2005 062 528 A1 divulgan métodos para tratar sustratos planos en un lado, para ser precisos, para tratar la cara inferior del sustrato o la cara que mira hacia abajo en los lados.
Cuando este método es aplicado, es posible aquí, a pesar de la extracción por succión debajo del sustrato, que la cara superior del sustrato sea ligeramente atacada por la reacción de los gases o emisiones de gases del medio de procesamiento, bajo ciertas circunstancias, también mediante contacto directo. Además, dependiendo de la velocidad de transporte de los sustratos, la mezcla del medio de procesamiento, o los productos químicos y el estado de las superficies de los sustratos, pueda generar un borde alrededor no deseado producto del medio de procesamiento. Como resultado, la superficie superior o cara superior del sustrato puede ser atacado y también puede provocar el deterioro óptico, o lo que es aún peor, su funcionalidad.
DESCRIPCIÓN Objeto y cómo se logra El invento se basa en el objetivo de proporcionar un método mencionado en la introducción y el correspondiente aparato con el cuál, los problemas en el arte previo son eliminados y, en particular, se proporciona una posibilidad de prevenir, que la cara ascendente o superior del sustrato, sea expuesta a daño nocivo y no deseable por parte del medio de procesamiento, en particular en forma de emisiones de gases.
Este objetivo se logra por medio de un método que comprende las características de la reivindicación 1 y también de un aparato que comprende las características de la reivindicación 16. Las configuraciones ventajosas y preferidas del invento son tema de otras reivindicaciones y se explican en mayor detalle a continuación. Algunas de las características a continuación son descritas sólo para el método o sólo para el aparato. Sin embargo, independientemente de esto, se pretende que se apliquen a ambos, tanto el método como el aparato. Las palabras empleadas en las reivindicaciones se incorporan como referencia en el contenido de la descripción.
Se proporciona que la superficie de un sustrato o de la cara inferior de un sustrato sea tratada con un medio de procesamiento comúnmente líquido. Este medio de procesamiento tiene efectos de grabado o de eliminación en la superficie del sustrato, por ejemplo, para pulir- grabar o aislante de bordes de un sustrato de silicio para una celda solar. En éste caso, los sustratos son humedecidos con el medio de procesamiento desde abajo de manera en que yacen horizontalmente lo cual se puede hacer en varias formas conocidas del arte previo. De acuerdo con el invento, la cara ascendente o la cara superior del sustrato se humedece o se cubre con agua o algún líquido que la proteja en una gran área o ventajosamente inclusive en toda el área. Esto actúa como protección contra el medio de procesamiento o la emisión de gases que actúa y llega a la cara superior del sustrato; y de esta forma, se puede mantener lejos de esta zona. El agua o líquido protector, forma una capa protectora en la parte superior o cara superior del sustrato, para que éste último no pueda ser dañado por el medio de procesamiento. La ventaja de un líquido como agua o algún otro líquido protector como capa protectora o medio de protección es que el líquido puede fácilmente ser aplicado y fácilmente quitado nuevamente y no genera ningún problema mecánico en la cara superior del sustrato; es decir arañazos o similares.
Además, el agua o generalmente el líquido de protección puede ser elegido ventajosamente para que no ocurra ninguna reacción con la cara superior del sustrato, así como ningún otro deterioro negativo. Por último, es adicionalmente posible que el agua o el líquido de protección sea coordinado con la elección de un medio de procesamiento de tal forma que el agua o el correspondiente líquido de protección escurra de la cara superior del sustrato y pueda pasar dentro del medio de procesamiento y ciertamente y posiblemente, diluya al último. Sin embargo, considerando una pequeña cantidad, sólo un daño insignificante y no negativo del efecto, generalmente del efecto de grabado, del medio de procesamiento ocurre. Un mayor número de explicaciones se proporcionan a continuación.
Es ventajosamente posible aplicar el líquido protector a la superficie del sustrato antes de que el sustrato o la cara inferior del sustrato sea mojada con el medio de procesamiento. En particular, la aplicación de un líquido protector es efectuada antes de que el sustrato sea movido al tanque que contiene el medio de procesamiento, es decir temporalmente o específicamente antes que o en un carril de transporte de aproximadamente medio metro o menos en forma ascendente del mismo camino. Lo que se puede lograr es que el líquido de protección que escurre hacia abajo no puede de hecho pasar dentro del tanque con el medio de procesamiento en el mismo en primer lugar. Por un tiempo acostumbrado de unos cuantos segundos o unos cuantos minutos para que el tratamiento con el medio de procesamiento sobre el tanque dure; una sola aplicación del líquido de protección a la cara superior del sustrato puede ser suficiente.
En otra configuración del invento, el líquido de protección se aplica a los sustratos que se han movido o a las caras superiores de los sustratos, en un método continuo.
Esto puede ser ventajosamente efectuado, por medio de una aparato de aplicación estacionaria en forma de una boquilla de rociado o tuberías de aspersión, pero ventajosamente con poca presión, por ejemplo también por medio de tuberías de sobretensión. Una medida se puede establecer fácilmente para la cantidad deseada de líquido en la cara superior del sustrato o grosor de una película líquida.
Aún cuando puede ser suficiente en muchos casos aplicar la capara protectora en la cara superior del sustrato una sola vez, se puede prever la aplicación de líquido protector en múltiples ocasiones en intervalos de tiempo a la cara superior del sustrato, o para renovar la película protectora en el mismo. En éste caso, cualquiera de las aplicaciones se pueden efectuar en forma muy precisa, de tal forma que sólo un poco del líquido de protección pases dentro del tanque, o una región delimitada específicamente se puede proporcionar o los sustratos se extraen nuevamente, aunque esto es excesivamente complicado.
Como alternativa, el líquido de protección se puede aplicar a la cara superior del sustrato una sola vez, y esto es en particular, antes de que el sustrato se sitúe sobre el tanque que contiene el medio de procesamiento. El líquido de protección se puede aplicar a la cara superior del sustrato en forma controlada para que, se encuentre presente en la cara superior del sustrato. Esto es posible al comenzar la aplicación, sólo cuando el sustrato se encuentra debajo de un aparato de aplicación. En forma similar se detiene, cuando el sustrato todavía se encuentra situado bajo el aparato de aplicación. De preferencia, la posición o ajuste de un sustrato aducido es detectada por medio de sensores de sustratos, y el aparato de ampliación es controlado dependiendo de este. Alternativamente la posición del sustrato es calculada con base en su aplicación, y esto se puede pasar al aparato de control del aparato para las boquillas de aplicación. De esta manera es posible que una capa de líquido protector se forme, y no se escurra en el borde del sustrato, para que este pueda ser tratado con el medio de procesamiento.
Con los correspondientes aparatos de aplicación diseñados y mencionados arriba, en una configuración del invento, el líquido de protección puede ser aplicado a la cara superior de un sustrato con un perfil distribuido en dos dimensiones. Para este propósito los aparatos correspondientes de aplicación, pueden ser diseñados, por ejemplo como boquillas de rociado, de tal forma que produzcan un rocío en spray distribuido en dos dimensiones o como tuberías de aspersión., como una pantalla ancha de agua. Esto es, primeramente adecuado para cubrir la cara superior y los costados del sustrato con el líquido de protección antes del moverlos al tanque, que contiene el medio de procesamiento. Además, es posible una fácil aplicación del líquido de protección si el último no tiene una interacción negativa con el medio de procesamiento.
Como una alternativa a la aplicación distribuida en dos dimensiones del líquido protector a la cara superior del sustrato, esto se puede efectuar con un perfil de dos dimensiones distribuidas o puntiforme. Esto significa, en consecuencia, que de uno o de varios de los aparatos aplicadores, el líquido de protección es rociado o vertido en la cara superior del sustrato de manera relativamente puntiforme y después fluye. La superficie del sustrato puede en definitiva ser cubierto en un área extensa o sobre toda un área, en cuyo caso, dadas las propiedades conocidas de la cara superior del sustrato, la temperatura y también las propiedades del líquido de protección, la cantidad del mismo se puede determinar relativamente con precisión de tal forma que solo una pequeña porción se desborda sobre el sustrato y puede pasar hacia abajo dentro del medio de procesamiento.
En el método se puede proporcionar que cuando la cara inferior del sustrato sea mojada o tratada con el medio de procesamiento, ocurra una reacción exotérmica con un aumento de la temperatura de por lo menos 10° C. se puede aplicar una capa relativamente gruesa de líquido protector en la cara superior del sustrato, por ejemplo con un grosor de más de 0.5 mm o más de 1 mm, hasta 1.5 mm en el caso de agua y aún más gruesa en el caso de líquidos de protección que tengan un mayor nivel de viscosidad. Como resultado, una gran porción del líquido de protección se puede evaporar como resultado del aumento de la temperatura y aún permanecer una capa de protección lo suficientemente efectiva.
Alternativamente, el aumento de la temperatura durante el tratamiento de la cara inferior del sustrato con el medio de procesamiento es omitido. Una capa significativamente menos gruesa de líquido protector en la cara superior del sustrato es suficiente, por ejemplo, menos de 0.2 mm o incluso menor a 0.05 mm, de hecho, una capa delgada.
Sin embargo, puede tener el grosor arriba mencionado en este caso también.
En otra configuración del invento, se puede proporcionar que durante el tratamiento la cara inferior del sustrato toque un nivel de líquido de medio de procesamiento en un tanque, sin que el sustrato sea sumergido a mayor profundidad entonces pueden flotar en la superficie del medio de procesamiento. En éste caso, sin el líquido de protección, puede existir el riesgo de que el medio de procesamiento se adhiera a los bordes del sustrato y posiblemente de que llegue a la cara superior del sustrato con las correspondientes consecuencias negativas. Alternativamente, la cara inferior del sustrato se puede rociar con el medio de procesamiento, aunque aquí el riesgo es aún mayor de que el medio de procesamiento es rociado en forma ascendente y pase hacia arriba a los bordes exteriores de los sustratos y después se asiente en las regiones de los bordes. En el caso de dicho rociado de las caras inferiores de los sustratos con el medio de procesamiento desde abajo, es menos crítico si una cantidad aplicada en exceso del líquido de protección chorrea hacia abajo desde el sustrato, ya que entonces no necesariamente se mezcla con el medio de procesamiento, que es rociado contra la cara inferior del sustrato. El líquido protector puede posiblemente pasar dentro de un tanque de recolección común, que después puede posiblemente ser separado ahí o alternativamente, por medio del tratamiento con el medio correspondiente aquí el medio de procesamiento puede estar presente en la concentración deseada.
Después del tratamiento de los sustratos con el medio de procesamiento, dichos sustratos se pueden enjuagar. En éste caso, se puede proporcionar que el líquido de protección también sea enjuagado o quitado de la cara superior del sustrato.
Además, en este caso, de acuerdo con otro aspecto del invento, dichos sustratos que tiene perforaciones también pueden protegerse, como están, durante el proceso de grabado en la cara inferior del sustrato, y de que el efecto de grabado llegue a la cara superior del sustrato. Principalmente, una región alrededor de las perforaciones que se puede poner en peligro. Es por esto, que un sustrato puede ser protegido no sólo de un borde cubierto con el medio de procesamiento y de que este se asiente desde arriba, sino que también, de un medio de procesamiento que sube a través o asciende a través de las perforaciones, por ejemplo a causa de una acción capilar.
Junto con el agua, o agua pura, un líquido protector apropiado es uno que cuente con un mayor nivel de viscosidad. Un ejemplo del mismo es PEG que tiene un factor de viscosidad de 2 o más de 3 sobre el del agua, o por ejemplo también hasta un factor de 3.8 en el caso de ácido fosfórico como líquido protector. El ácido fosfórico también puede específicamente prevenir una situación en donde debido al gradiente de concentración, por ejemplo de una solución de grabado que comprende ácido fosfórico y HF, en el caso de sustratos perforados, sube no solo por la acción capilar sino también por causa del gradiente de concentración, como estaría presente en el caso del agua.
Otros líquidos de protección pueden tener un gradiente de viscosidad más alto para una mejora en el efecto de protección o grosor de la capa. Lo que se logra por medio de un mayor nivel de viscosidad es que el líquido de protección es menos acuoso y no se chorrea tan fácil desde los lados de la cara superior del sustrato.
De preferencia, se proporcionan varios aparatos para aplicación que se encuentran uno cerca del otro en una dirección aproximadamente transversal en un pasaje continuo o camino de los sustratos. Los sustratos de preferencia, pueden ser preparados en el pasaje continuo en su trayectoria en filas, uno después del otro y cada uno pasa exactamente debajo del aparato de aplicación.
En el aparato de acuerdo con el invento, se proporciona un pasaje continuo para los sustratos y se proporcionan aparatos de aplicación, ventajosamente presentados en forma de boquillas. Se pueden configurar ya sea exclusivamente en forma ascendente al tanque con el medio de procesamiento en el mismo, sobre el tanque con el medio de procesamiento o ambos en forma ascendente al tanque y sobre el tanque. Los aparatos de aplicación pueden diseñarse en forma ventajosa de tal forma que puedan estar adaptados al tamaño, numero de sustratos uno junto a otro y también en relación a la velocidad de tal forma que el líquido de protección sea aplicado a la cara superior del sustrato solamente hasta el punto deseado y no en exceso o sólo con un exceso insignificante.
De preferencia, por lo menos uno de los aparatos de aplicación está configurado en forma ascendente al tanque con el medio de procesamiento en el mismo, en donde es de especial preferencia, una sola fila de aparatos de aplicación que se proporciona en forma transversal al camino de pasaje continuo de los sustratos. Los aparatos de aplicación están separados o distanciados uno del otro, en donde en particular su distancia es de por lo menos el ancho de un sustrato.
Para proporcionar a los aparatos de aplicación el líquido, estos se pueden conectar a un tanque de aprovisionamiento, que se sitúa más alto que los aparatos de aplicación.
De esta forma, la afluencia del líquido de protección a los aparatos de aplicación con presión continua se puede obtener por medio de la gravedad únicamente.
En una inclusión del invento se proporcionan sensores de sustratos en forma ascendente a los aparatos de aplicación, se ven a lo largo del camino del pasaje continuo del sustrato, para la detección de un sustrato que se acerca así como para la detección de un sustrato que se mueve o está pasando.
De preferencia, estos son sensores ópticos.
Estas y otras características surgirán no sólo de las reivindicaciones pero también por la descripción y las ilustraciones, en donde las características individuales pueden en cada caso realizarse por sí solas o como una pluralidad en forma de subcombinaciones en inclusiones del invento y en otros campos y pueden constituirse como inclusiones protegidas en forma inherente y ventajosa para las cuales la protección se reivindica en el presente. La subdivisión de la aplicación en secciones individuales y subtítulos no restringe la validez general de los enunciados realizados en la presente.
Breve Descripción de las Ilustraciones Las inclusiones ejemplificadas del invento se ilustran en esquemas en las ilustraciones y se explican en mayor detalle a continuación. En las ilustraciones: La Figura 1 muestra una sección lateral de un aparato, de acuerdo con el invento para el tratamiento de las caras inferiores de los sustratos mientras se aplica agua como película protectora a la cara superior de los sustratos.
La Figura 2 muestra una ilustración aumentada de la figura 1 y La Figura 3 muestra una vista superior de un aparato alternativo de acuerdo con el invento con menos boquillas de aplicación y con sensores para sustratos en forma ascendente.
Descripción detallada de las realizaciones ejemplificadas La figura 1 ilustra, un aparato de acuerdo con el invento como aparato 1 1 en una sección lateral que comprende un tanque 13, en donde se sitúa la solución de grabado 15 como medio de procesamiento. Desde el lado izquierdo, los sustratos 20 con su cara inferior de sustrato 21 de cara hacia abajo y la cara superior del sustrato 22 viendo hacia arriba son transportados hacia la derecha de un camino de pasaje continuo compuesto de rodillos transportadores 24 sobre el tanque 13. Como se conoce a partir de DE 10 2005 062 527 A1 y DE 10 2005 062 528 A1 , descritos en la introducción, de acuerdo con una primera posibilidad, por medio de los rodillos transportadores 24 que llegan dentro de la solución de grabado 15 con su región más baja, dicha solución de grabado 15 será aplicada a las caras inferiores de los sustratos 21. La solución fresca o acondicionada de grabado 15 es introducida dentro del tanque 13 vía una tubería de alimentación 16. Como una alternativa o además de humedecer las caras inferiores de los sustratos 21 por medio de los rodillos transportadores 24, se puede proporcionar una tubería de aspersión 17, que cuenta con una boquilla de rociado 18 viendo hacia arriba. La solución de grabado 15 de esta forma, se puede rociar en las caras inferiores de los sustratos 21.
Además, adicionalmente de acuerdo con DE 10 2005 062 527 A1, se pueden proporcionar medios para extracción mediante succión de gases que emiten gases de la solución de grabado 15, sobre la superficie de la solución de grabado y debajo del plano de transporte de los sustratos.
Claramente antes de que los sustratos 20 sean introducidos sobre el tanque 13, son rociados con agua por una boquilla de aplicación 26 configurada sobre ellos, dicha agua forma una capa o película protectora 29 en la cara superior del sustrato 22. En éste caso, el rociado con agua 27 puede realizarse de manera ventajosa en dos dimensiones o la boquilla de aplicación 26 se puede extender sobre el ancho del sustrato 20. En lugar de la boquilla de aplicación, la boquillas que pueden estar separadas a una distancia de unos cuantos centímetros una de la otra, la antes mencionada tubería de sobretensión con orificios o ranuras también se puede emplear. Cuando el sustrato 20 pasa debajo de la boquilla de aplicación 26, toda la cara superior del sustrato 22 es rociada o humedecida con el agua 27 y un área total de película de protección 29 es de esta manera creada. La ventaja de rociar, particularmente si se realiza sobre toda el área es en este caso y yace en el hecho de que de esta forma, se asegura que toda la cara superior del sustrato 22 se cubra con la capa protectora 29. Si el agua 27, se pretende que meramente proceda de un sólo lugar, lo que podría suceder, por ejemplo, es que las regiones contaminadas o similares en la cara superior del sustrato 22, no sean humedecidas o cubiertas y en consecuencia, no se encuentren protegidas. En forma ventajosa, se proporcionan tres orificios por sustrato en la boquilla de aplicación 26 o en la tubería de sobretensión.
Si la solución de grabado 15 es después aplicada a la cara inferior del sustrato 21 de la manera conocida sobre el tanque 13, entonces los lados de la cara superior del sustrato 22 siguen cubiertos con la capa o película protectora 29 y de esta forma, se encuentran protegidos de que la solución de grabado 15 produzca un efecto sobre las mismas. Para poder prevenir la situación en donde las regiones de la cara superior del sustrato 22 estén expuestas o que la película protectora 29 ya no se encuentre ahí, por ejemplo debido a que el agua 27 se ha escurrido o parcialmente evaporado como resultado de una alta temperatura durante el proceso de grabado, el agua 27 se puede aplicar nuevamente por medio de una segunda boquilla de aplicación 26'. Primeramente, esta boquilla adicional de aplicación 26' puede estar diseñada al igual que la boquilla de aplicación 26 en forma ascendente al tanque 13, es decir que puede producir un rocío relativamente fino distribuido en dos dimensiones o cubrir una región de la cara superior del sustrato 22.
Si la boquilla de aplicación 26' se configura, sin embargo de tal forma que durante la realización del método de grabado, la capa de protección 29 posiblemente se adelgace en algunos lugares pero aún esté presente, entonces se puede reaprovisionar agua 27 en cualquier forma. De esta forma, es posible prevenir una situación en donde la película protectora 29 se vuelva muy delgada o sea omitida en algunos lugares. La ventaja de dicha aplicación puntiforme de agua 27 a la cara superior del sustrato 22, de acuerdo con una segunda posibilidad, es que no es necesario, realizar el rociado; porque durante dicho rociado parte del agua 27 inevitablemente se escurre más allá del sustrato 20 y dentro del tanque 13. Sin embargo, no se puede prevenir que escurra de los bordes exteriores del sustrato 20. Ya que solo una pequeña cantidad se puede escurrir o el escurrimiento es sólo en pequeñas cantidades no se puede evitar, sin embargo, como resultado casi no se diluye la solución de grabado 15 y en consecuencia, el efecto de grabado casi no se ve afectado. Principalmente si la solución de grabado 15 es aplicada en la tubería de rociado 17 junto con la boquilla de rociado 18, se puede proporcionar de tal forma que no se diluya en agua 27.
La imagen aumentada en la figura 2, primeramente revela cómo la solución de grabado 15 se aplica a la cara inferior del sustrato 21 por medio de los rodillos de transporte del lado izquierdo 24, de acuerdo con DE 10 2005 062 528 A1. Como resultado, un tipo de capa que comprende una solución de grabado 15 se forma en la cara inferior del sustrato 21 , que genera el proceso de grabado ahí. Una tubería de rociado 17 con una boquilla de rociado 18 se ilustra a la derecha, dicha boquilla de rociado que rocía solución de grabado 15 a la cara inferior del sustrato 21. en éste caso, la ilustración muestra en el lado derecho parte de la solución de grabado 15 rociada más allá del sustrato 20 y que posiblemente cae en la cara superior del sustrato 22 de un sustrato adyacente que se mueve o está configurado junto al lado derecho. Sin embargo, la capa protectora o película de agua presente en dicho sustrato puede prevenir cualquier falla adversa.
Además, la ilustración muestra cómo algo de agua 27 escurre del sustrato 20 en el lado izquierdo y derecho del mismo. Esta agua 27 pasa a la solución de grabado 15 en el tanque 13 y diluye dicha solución de grabado en cierta medida. Sin embargo, ya que la cantidad de agua puede ser muy pequeña, particularmente en relación a la cantidad de solución de grabado, esta circunstancia es virtualmente imperceptible o se puede considerar de igual forma cuando la mezcla de agua sea preparada.
Además, se puede observar en la figura 2, que inclusive una aplicación de una gran cantidad de agua 27 como capa protectora 29 a la cara superior del sustrato 22 no es necesariamente dañina, ya que la solución de grabado 15 se aplica a la cara inferior del sustrato 21 y no necesariamente se mezcla directamente con dicha agua 27.
Posiblemente, aquí los bordes del sustrato 20 carecen de la capa protectora 29 o, si el agua 27 no sobrepasa y los cubre, entonces no están protegidos. Sin embargo, en los bordes, el efecto o daño provocado por la solución de grabado 15 es muy pequeño o imperceptible así que dichas áreas o bordes no tienen que estar protegidas.
En lugar del agua, es posible usar algún otro líquido como capa protectora, por ejemplo PEG o glicol polietileno. El último es químicamente inerte y no reacciona con el sustrato 20 de manera indeseable ni tampoco afecta el funcionamiento de la solución de grabado15. Es también posible aplicar ácido fosfórico como líquido de protección, lo cual no afecta en forma adversa a un sustrato, como por ejemplo no afecta al silicio monocristalino para celdas solares. Su alta viscosidad es buena principalmente para el caso en que los sustratos cuenten con las antes mencionadas perforaciones.
El diseño exacto de las boquillas de aplicación y/o tuberías de sobretensión, en particular en cuanto a cuantas de estas se pueden configurar sobre el tanque 13 con la solución de grabado 15, y también la ubicación exacta de las mismas, se puede adaptar a los respectivos procesos de grabado o paso de tratamiento. Para éste propósito, por ejemplo también es posible proporcionar boquillas de aplicación móviles y/o tuberías de sobretensión o usar en cada caso unas cuantas o un mayor numero proporcionadas estructuralmente en principio.
Una vista superior de un aparato alternativo 1 1 se ilustra en la figura 3. en forma ascendente a un tanque 13 con solución de grabado 1 15 en cuatro filas de sustratos 120 que corren en un camino o pasaje continuo compuesto de rodillos de transporte similares a los de las figuras 1 , que no se ilustran. También puede haber menos filas por ejemplo seis filas. Ascendente al tanque 113, una tubería de boquilla 125 corre transversal al camino de pasaje continuo y comprende cuatro boquillas de aplicación 126. Estas se proporcionan en cada caso con una válvula magnética y aberturas para boquillas, que son conocidas por los conocedores del arte y no tienen que ser ilustradas nuevamente. El ancho de las boquillas de aplicación 126 es menor que el ancho del sustrato 120. La distancia de las boquillas de aplicación 126 una en relación de la otra es la misma, pero no necesariamente tiene que ser así.
La tubería de la boquilla 125 está conectada a un tanque de aprovisionamiento 128 en forma de conducción de fluidos, en donde se proporciona el agua 127 para la aplicación en los costados de la cara superior del sustrato 122. al configurar el tanque de aprovisionamiento 128 a un nivel de altura sobre las boquillas de aplicación 126, el agua 127 fluye automáticamente por sí sola, respectivamente, fuera de estos y por la apertura o cierre de la válvula magnética de las boquillas de aplicación 26 el flujo de agua cambia o el volumen de agua permanece igual, respectivamente. Es decir, las fluctuaciones en la presión se pueden evitar, especialmente si las válvulas magnéticas de las boquillas de aplicación 126 son activadas con una compensación entre una y otra.
Además, los sensores de sustratos 131 se proporcionan, y son montados como un ejemplo en éste caso a la tubería de la boquilla 125, pero también pueden ser soportadas en forma separada del mismo.
Los sensores de sustratos 131 detectan la llegada, el paso a través y el paso de los sustratos 120. Estos pueden ser sensores ópticos por ejemplo en particular también como una ligera barrera que detecta el acercamiento de un borde frontal del sustrato 120 así como en el caso de un borde posterior que ya ha pasado. Un aparato de control no ilustrado del aparato 1 11 , recibe las señales de los sensores de sustratos 131 y después, pueden activar las boquillas de aplicación 126 o sus válvulas respectivamente, en dicha forma en donde la aplicación de agua 127 a los costados de un sustrato superior 122 sólo ocurre si estos se encuentran ubicados debajo de ellas. Esto asegura que el agua 127 sea solamente aplicada a la cara superior del sustrato 122 y sus costados. Esto sólo para el propósito de que en este caso la cantidad de agua, sea limitada de tal forma que se distribuya en dos dimensiones la capa de película protectora 129, pero que el agua no sobrepase los bordes laterales y se escurra. Por una parte, la solución de grabado 115 en consecuencia no se mezcla en el tanque 113 con o es diluida por el agua. Por otra parte, la solución de grabado 115 puede actuar en los bordes laterales del sustrato 120 ya que se encuentran libres. Debido a que la tensión de la superficie del agua sirve como amortiguador, también se puede formar la capa de agua 127, que también se ilustra en las figuras 1 y 2. Posiblemente también un sustrato 120 con un sustrato hidrófilo en la cara superior 122 se puede emplear, y éste funciona para mejorar aún más este efecto. Sin embargo, el agua 127 es aplicado a los lados de la cara superior del sustrato 122 únicamente una vez.
En otra inclusión alternativa del invento, que se puede discernir con facilidad, los sensores del sustrato 131 cuentan con un aparato de control o aparato 1 1 que puede calcular a partir de la información de un aparato de entrega los sustratos conectados en forma ascendente cuando estos sustratos se ubicarán exactamente por debajo de las boquillas de aplicación 126. De esta forma puede suceder la aplicación exacta y precisa del agua 127 en los costados de la cara superior del sustrato 122. Además, se pueden proporcionar más boquillas de aplicación 126 y sensores de sustratos uno junto al otro, lo que permite que el agua sea aplicada a los costados de la cara superior del sustrato también, en el caso de sustratos en una posición diferente en la manera exacta y preciso por medio de la boquilla de aplicación que se encuentra ubicada en una posición central sobre ellos.

Claims (20)

REIVINDICACIONES
1. Método para tratar la superficie de un sustrato de un sustrato plano con un medio de procesamiento en la cara inferior del sustrato, en donde el medio de procesamiento tiene un efecto de eliminación o de grabado en la superficie del sustrato, y en donde los sustratos son humedecidos con el medio de procesamiento desde abajo de una manera en que yacen en dirección horizontal, caracterizado en que la cara superior del sustrato que ve hacia arriba es humedecida o cubierta con agua o el correspondiente líquido de protección en un gran área o en toda el área como protección , contra el medio de procesamiento o las emisiones de gases del mismo que actúan en o alcanzan la cara superior del sustrato.
2. Método de acuerdo a la reivindicación 1 , caracterizado en que el líquido de protección es aplicado a la cara superior del sustrato antes de que el sustrato o la cara inferior del sustrato sea humedecida con el medio de procesamiento, en particular, antes de que el sustrato sea movido hacia el tanque con el medio de procesamiento dentro del mismo.
3. Método de acuerdo con la reivindicación 1 ó 2, caracterizado en que el líquido de protección es aplicado a los sustratos que se han movido o a las caras superiores de los sustratos en un método continuo, de preferencia mediante aparatos de aplicación estática o boquillas de rociado o tuberías de sobretensión.
4. Método de cuerdo con una de las reivindicaciones previas caracterizado en que el líquido de protección es aplicado en forma múltiple, en particular en intervalos de tiempo entre ellos, a la cara superior del sustrato , o se renueva, en particular también mientras el sustrato se encuentra situado sobre el tanque con el medio de procesamiento en el mismo.
5. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado en que el líquido de protección es aplicado a la cara superior de un sustrato en una sola ocasión, en particular antes de que el sustrato se sitúe sobre el tanque que contiene el medio de procesamiento en el mismo.
6. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que el líquido de protección se aplica a la cara superior de un sustrato, controlado de tal forma que se aplique exclusivamente a la cara superior del sustrato al comenzar la aplicación sólo cuando el sustrato se sitúa debajo de los aparatos de aplicación, y al detenerse, cuando el sustrato aún se sitúa debajo del aparato de aplicación, en donde de preferencia la posición o ajuste del sustrato aducido es detectada y el aparato de aplicación es controlado dependiendo de lo anterior.
7. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que el líquido de protección es aplicado a la cara superior del sustrato en un perfil distribuido en dos dimensiones, en particular por medio de unas boquillas de rociado diseñadas para producir un rocío distribuido en dos dimensiones.
8. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado en que el líquido protectivo se aplica a una cara superior del sustrato de manera puntiforme, con el propósito de un flujo subsiguiente, para poder cubrir la superficie del sustrato en áreas grandes o sobre toda el área
9. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que cuando el lado inferior del sustrato es humedecido con el medio de procesamiento, una reacción exotérmica ocurre con un aumento de la temperatura de por lo menos 10° C y es relativamente una capa gruesa de líquido de protección que es aplicada a la cara superior del sustrato, de preferencia con un grosor de aproximadamente 1 mm o más.
10. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones del la 1 a 8, caracterizado en que cuando la cara inferior del sustrato se humedece con el medio de procesamiento, no hay un aumento significativo de temperatura y el grosor de la capara de líquido de protección en la cara superior del sustrato es relativamente pequeña, de preferencia, aproximadamente 50 pm a 200 pm.
11. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas caracterizada en que la cara inferior del sustrato toca un nivel líquido de medio de procesamiento en un tanque con el medio de procesamiento en el mismo, sin una inmersión profunda de los sustratos.
12. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, después del tratamiento con el medio de procesamiento, en donde el líquido de protección también se enjuaga o se elimina de la cara superior del sustrato.
13. El método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que el líquido de protección tiene una mayor viscosidad que el agua, y en particular es PEG o ácido fosfórico.
14. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que los sustratos que son tratados, tienen perforaciones u orificios, en donde de preferencia se utiliza un líquido de protección, de acuerdo con la reivindicación 13, tiene una mayor viscosidad que el agua.
15. Método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que varios aparatos de aplicación se configuran uno junto al otro en una dirección aproximadamente transversal al camino del pasaje continuo de los sustratos, y los sustratos se forman en filas uno después del otro en un pasaje de camino continuo, y en cada caso, continúan exactamente debajo de un aparato de aplicación.
16. El aparato para realizar el método de acuerdo con una de las reivindicaciones previas, caracterizado en que, sobre el camino del pasaje continuo para los sustratos, que son transportador para el tratamiento de la cara inferior del sustrato, con un medio de procesamiento, sobre el tanque con medio de procesamiento dentro del mismo, en donde por lo menos un aparato de aplicación es proporcionado para aplicar agua o líquido de protección a la cara ascendente o superior del sustrato.
17. El aparato de acuerdo con la reivindicación 16, caracterizada en que los aparatos de aplicación están configurados en forma ascendente al tanque con el medio de procesamiento dentro del mismo, de preferencia exclusivamente en forma ascendente o hacia arriba.
18. El aparato de acuerdo con las reivindicaciones de la 16 ó 17, caracterizada en que por lo menos uno de los aparatos de aplicación está configurado sobre el tanque con el medio de proceso dentro del primero, de preferencia, un aparato de aplicación adicional en forma ascendente en relación al tanque.
19. El aparato de acuerdo con la reivindicación 16 ó 17, caracterizado en que por lo menos uno de los aparato de aplicación está configurado hacia arriba o en forma ascendente al tanque con el medio de procesamiento dentro del mismo, en donde de preferencia una sola fila de aparatos de aplicación es proporcionada transversalmente al camino del pasaje continuo de los sustratos con aparatos de aplicación que se encuentran a una distancia una del otro, en donde en particular su distancias es de por lo menos un ancho de un sustrato, en donde los aparatos de aplicación se conectan a un tanque de aprovisionamiento, que es situado más alto que los aparatos de aplicación.
20. El aparato de acuerdo con una de las reivindicaciones 16 a 19, caracterizado en que, visto a lo largo del camino de pasaje continuo de los sustratos, se proporcionan sensores de sustratos hacia arriba o en forma ascendente de los aparatos de aplicación para detección del sustrato en movimiento y que pasa, en particular sensores ópticos para sustratos.
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