CN110556321A - 水膜装置 - Google Patents

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陈其成
李宝祥
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Abstract

本发明公开了一种水膜装置，包括：用于传送硅片的辊道，设于辊道上方的至少一组出水头，可控制各出水头独立出水的出水头控制模组，以及各组出水头分别配置、且用于感应硅片的测量光栅；同一组的出水头沿辊道宽度方向依次设置；测量光栅位于其所对应的一组出水头的来料侧；测量光栅具有由平行光线组成的光幕，各光线竖向贯穿辊道，且各光线沿辊道宽度方向依次设置；光幕在辊道宽度方向上跨域其所对应的一组出水头；所述出水头控制模组，其根据光幕被硅片遮挡的区域，来控制与该区域相对应的出水头出水。本发明水膜装置能适应多种尺寸的硅片，可精确控制不同尺寸硅片的水膜水量，且可达到控制水量与节约用水的目的。

Description

水膜装置
技术领域
本发明涉及水膜装置。
背景技术
在光伏电池制造过程中，需要对硅片背面进行湿法刻蚀，且只刻蚀硅片背面，不希望正面受酸溶液腐蚀，故刻蚀前需要在硅片正面滴一层水膜，通过水膜来保护硅片正面，水膜的水量需控制在覆满整个硅片正面，但又不能覆过满，否则会导致水膜表面张力破坏而漏水的情况。
目前一般采用出水头对辊道上传送的硅片滴加水膜，且在出水头的来料侧设置红外感应装置，红外感应装置采用单光束红外对射，形成一条贯穿辊道的红外线，可通过红外线感应硅片来控制出水头出水，当红外线未被辊道上传送的硅片遮断时,出水头不会出水，当红外线被辊道上传送的硅片遮断时，出水头出水，进而在硅片上形成水膜。
如上所述，目前单个硅片仅通过一条红外线来感应，当辊道上传送的硅片为小片（如条状硅片）时，可能会因为小片行进偏移或是宽度太小，而导致小片未能有效触发红外感应，这会造成小片错过滴水或滴水不足，进而使小片正面的水膜不达标，并导致后续工艺的外观不良。
发明内容
本发明的目的在于提供一种水膜装置，其能适应多种尺寸的硅片。
为实现上述目的，本发明的技术方案是设计一种水膜装置，包括：用于传送硅片的辊道，设于辊道上方的至少一组出水头，可控制各出水头独立出水的出水头控制模组，以及各组出水头分别配置、且用于感应硅片的测量光栅；
同一组的出水头沿辊道宽度方向依次设置；测量光栅位于其所对应的一组出水头的来料侧；测量光栅具有由平行光线组成的光幕，各光线竖向贯穿辊道，且各光线沿辊道宽度方向依次设置；光幕在辊道宽度方向上跨域其所对应的一组出水头；
所述出水头控制模组，其根据光幕被硅片遮挡的区域，来控制与该区域相对应的出水头出水。
优选的，所述测量光栅包括：设于辊道上方的发射器，以及位于辊道下方的受光器。
或者，所述测量光栅包括：设于辊道下方的发射器，以及位于辊道上方的受光器。
优选的，所述硅片的宽度不大于光幕的宽度。
本发明的优点和有益效果在于：提供一种水膜装置，其能适应多种尺寸的硅片。
本发明主要是将现有的单光束红外对射改为光幕，并根据光幕被硅片遮挡的区域，来控制与该区域相对应的出水头出水，故本发明可兼容多种尺寸的硅片，如小片，特别是适应条状硅片。
本发明能控制仅特定位置的出水头出水，可精确控制不同尺寸硅片的水膜水量，且可达到控制水量与节约用水的目的，小片时可节省水膜用水量，例如：1/2片可节省50%用水量, 1/3片可节省66%用水量。
附图说明
图1和图2是本发明的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
如图1和图2所示（图2中未示出辊道），一种水膜装置，包括：用于传送硅片5的辊道1，设于辊道1上方的至少一组出水头2，可控制各出水头2独立出水的出水头控制模组3，以及各组出水头2分别配置、且用于感应硅片5的测量光栅4；
同一组的出水头2沿辊道1宽度方向依次设置；测量光栅4位于其所对应的一组出水头2的来料侧；测量光栅4具有由平行光线组成的光幕，各光线竖向贯穿辊道1，且各光线沿辊道1宽度方向依次设置；光幕在辊道1宽度方向上跨域其所对应的一组出水头2；
所述出水头控制模组3，其根据光幕被硅片5遮挡的区域，来控制与该区域相对应的出水头2出水。
所述测量光栅4包括发射器41和受光器42，发射器41设于辊道1上方，受光器42设于辊道1下方（也可以发射器设于辊道1下方，受光器设于辊道1上方）。
所述硅片5的宽度不大于光幕的宽度。
本发明主要是将现有的单光束红外对射改为光幕，并根据光幕被硅片5遮挡的区域，来控制与该区域相对应的出水头2出水，故本发明可兼容多种尺寸的硅片5，如小片，特别是适应条状硅片5。
本发明能控制仅特定位置的出水头2出水，可精确控制不同尺寸硅片5的水膜水量，且可达到控制水量与节约用水的目的，小片时可节省水膜用水量，例如：1/2片可节省50%用水量, 1/3片可节省66%用水量。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (4)

1.水膜装置，其特征在于，包括：用于传送硅片的辊道，设于辊道上方的至少一组出水头，可控制各出水头独立出水的出水头控制模组，以及各组出水头分别配置、且用于感应硅片的测量光栅；
同一组的出水头沿辊道宽度方向依次设置；测量光栅位于其所对应的一组出水头的来料侧；测量光栅具有由平行光线组成的光幕，各光线竖向贯穿辊道，且各光线沿辊道宽度方向依次设置；光幕在辊道宽度方向上跨域其所对应的一组出水头；
所述出水头控制模组，其根据光幕被硅片遮挡的区域，来控制与该区域相对应的出水头出水。
2.根据权利要求1所述的水膜装置，其特征在于，所述测量光栅包括：设于辊道上方的发射器，以及位于辊道下方的受光器。
3.根据权利要求1所述的水膜装置，其特征在于，所述测量光栅包括：设于辊道下方的发射器，以及位于辊道上方的受光器。
4.根据权利要求1所述的水膜装置，其特征在于，所述硅片的宽度不大于光幕的宽度。
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