MD249Z - Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat - Google Patents

Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat

Info

Publication number
MD249Z
MD249Z MDS20090070A MDS20090070A MD249Z MD 249 Z MD249 Z MD 249Z MD S20090070 A MDS20090070 A MD S20090070A MD S20090070 A MDS20090070 A MD S20090070A MD 249 Z MD249 Z MD 249Z
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
chip substrate
manufacturing
thermoelectric cooler
layer
thermoelectric
Prior art date
Application number
MDS20090070A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Inventor
Ефим ЗАСАВИЦКИЙ
Александр БЕЛЕНЧУК
Олег ШАПОВАЛ
Original Assignee
Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы filed Critical Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы
Priority to MDS20090070A priority Critical patent/MD249Z/ro
Publication of MD249Y publication Critical patent/MD249Y/ro
Publication of MD249Z publication Critical patent/MD249Z/ro

Links

Abstract

Invenţia se referă la procedee de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat şi poate fi aplicată în diferite domenii ale microelectronicii, tehnicii de calcul, medicinii şi în alte domenii, care necesită îndepărtarea căldurii.Procedeul de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat constă în aceea că substratul circuitului integrat executat din siliciu se tratează chimic, se recoace la temperatura de 1073K timp de 3…5 min într-o cameră de vid supraînalt. Apoi pe acesta se depune un strat intermediar dublu pe bază de fluoruri la temperatura de 973K, compus dintr-un strat de CaF2 cu grosimeade 2…3 nm şi un strat de BaF2 cu grosimea deaproximativ 150 nm, cu o viteză de 0,1 nm/s. Pe stratul intermediar dublu se depune un strat termoelectric de convertizare executat din material semiconductor de tipul A4B6, pe care se amplasează un radiator cu ventilator.
MDS20090070A 2009-04-29 2009-04-29 Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat MD249Z (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDS20090070A MD249Z (ro) 2009-04-29 2009-04-29 Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDS20090070A MD249Z (ro) 2009-04-29 2009-04-29 Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD249Y MD249Y (ro) 2010-07-30
MD249Z true MD249Z (ro) 2011-02-28

Family

ID=45815089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MDS20090070A MD249Z (ro) 2009-04-29 2009-04-29 Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD249Z (ro)

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD627F2 (ro) * 1994-07-25 1996-11-29 Univ De Stat Din Moldova Procedeu de obtinere a straturilor epitaxiale de fosfura de indiu din faza gazoasa
MD957G2 (ro) * 1996-09-12 1999-02-28 Государственный Университет Молд0 Procedeu şi instalaţie pentru obţinerea structurilor epitaxiale multestratificate
RU2129246C1 (ru) * 1993-09-03 1999-04-20 Кабусики Кайся Секуто Кагаку Теплоизлучающая панель и способ охлаждения с ее применением
MD20000111A (ro) * 2000-06-27 2002-07-31 Vieru Stanislav Dispozitiv pentru clivarea în vid a structurilor epitaxiale semiconductoare
RU2196683C2 (ru) * 1997-11-07 2003-01-20 Денки Кагаку Когио Кабусики Кайся Подложка, способ ее получения (варианты) и металлическое соединенное изделие
RU2198949C2 (ru) * 1999-03-16 2003-02-20 Хитачи, Лтд. Композитный материал, способ его получения, излучающая тепло панель для полупроводникового прибора, полупроводниковый прибор (варианты), диэлектрическая панель и электростатическое поглощающее устройство
RU2206502C2 (ru) * 2000-11-21 2003-06-20 Акционерное общество закрытого типа "Карбид" Композиционный материал
RU2214698C2 (ru) * 1998-07-08 2003-10-20 Квин Мэри Энд Уестфилд Колледж Устройство отвода тепла, электрическая система, содержащая устройство отвода тепла, способ изготовления устройства отвода тепла и способ изготовления электрического компонента
MD2556G2 (ro) * 2004-06-01 2005-03-31 Ион ТИГИНЯНУ Procedeu de obtinere a nanostructurilor semiconductoare
RU2004133862A (ru) * 2003-11-21 2006-04-27 Эл Джи Электроникс Инк. (Kr) Система и способ теплоизлучения для мобильного терминала связи
RU2005137313A (ru) * 2003-05-01 2006-04-27 Квин Мэри Энд Уестфилд Колледж (Gb) Заключенное в оболочку терморегулирующее устройство и способ изготовления такого устройства
RU2006110512A (ru) * 2003-09-03 2007-10-20 Дженерал Электрик Компани (US) Теплопроводный материал, использующий электронные наночастицы
MD20070209A (ro) * 2007-07-23 2009-01-31 Технический университет Молдовы Procedeu de obţinere a straturilor subţiri de semiconductori oxidici
MD3934B1 (ro) * 2008-09-08 2009-06-30 Institutul De Inginerie Electronica Si Tehnologii Industriale Al Academiei De Stiinte A Moldovei Procedeu de obtinere a substratului de BaF2 cu suprafata perfecta
MD20070296A (ro) * 2007-10-31 2009-07-31 Institutul De Inginerie Electronica Si Tehnologii Industriale Al Academiei De Stiinte A Moldovei Procedeu de majorare a rezistentei magnetice in microfire pe baza materialelor solide neomogene
MD20080058A (ro) * 2008-02-25 2009-08-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Dispozitiv de obţinere a peliculelor supraconductoare
  • 2009

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2129246C1 (ru) * 1993-09-03 1999-04-20 Кабусики Кайся Секуто Кагаку Теплоизлучающая панель и способ охлаждения с ее применением
MD627F2 (ro) * 1994-07-25 1996-11-29 Univ De Stat Din Moldova Procedeu de obtinere a straturilor epitaxiale de fosfura de indiu din faza gazoasa
MD957G2 (ro) * 1996-09-12 1999-02-28 Государственный Университет Молд0 Procedeu şi instalaţie pentru obţinerea structurilor epitaxiale multestratificate
RU2196683C2 (ru) * 1997-11-07 2003-01-20 Денки Кагаку Когио Кабусики Кайся Подложка, способ ее получения (варианты) и металлическое соединенное изделие
RU2214698C2 (ru) * 1998-07-08 2003-10-20 Квин Мэри Энд Уестфилд Колледж Устройство отвода тепла, электрическая система, содержащая устройство отвода тепла, способ изготовления устройства отвода тепла и способ изготовления электрического компонента
RU2198949C2 (ru) * 1999-03-16 2003-02-20 Хитачи, Лтд. Композитный материал, способ его получения, излучающая тепло панель для полупроводникового прибора, полупроводниковый прибор (варианты), диэлектрическая панель и электростатическое поглощающее устройство
MD20000111A (ro) * 2000-06-27 2002-07-31 Vieru Stanislav Dispozitiv pentru clivarea în vid a structurilor epitaxiale semiconductoare
RU2206502C2 (ru) * 2000-11-21 2003-06-20 Акционерное общество закрытого типа "Карбид" Композиционный материал
RU2005137313A (ru) * 2003-05-01 2006-04-27 Квин Мэри Энд Уестфилд Колледж (Gb) Заключенное в оболочку терморегулирующее устройство и способ изготовления такого устройства
RU2006110512A (ru) * 2003-09-03 2007-10-20 Дженерал Электрик Компани (US) Теплопроводный материал, использующий электронные наночастицы
RU2004133862A (ru) * 2003-11-21 2006-04-27 Эл Джи Электроникс Инк. (Kr) Система и способ теплоизлучения для мобильного терминала связи
RU2291599C2 (ru) * 2003-11-21 2007-01-10 Эл Джи Электроникс Инк. Система и способ теплоизлучения для мобильного терминала связи
MD2556G2 (ro) * 2004-06-01 2005-03-31 Ион ТИГИНЯНУ Procedeu de obtinere a nanostructurilor semiconductoare
MD20070209A (ro) * 2007-07-23 2009-01-31 Технический университет Молдовы Procedeu de obţinere a straturilor subţiri de semiconductori oxidici
MD20070296A (ro) * 2007-10-31 2009-07-31 Institutul De Inginerie Electronica Si Tehnologii Industriale Al Academiei De Stiinte A Moldovei Procedeu de majorare a rezistentei magnetice in microfire pe baza materialelor solide neomogene
MD20080058A (ro) * 2008-02-25 2009-08-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Dispozitiv de obţinere a peliculelor supraconductoare
MD3934B1 (ro) * 2008-09-08 2009-06-30 Institutul De Inginerie Electronica Si Tehnologii Industriale Al Academiei De Stiinte A Moldovei Procedeu de obtinere a substratului de BaF2 cu suprafata perfecta

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Chowdhury I., Ravi Prasher R., Lofgreen K., Chrysler G., Narasimhan S., Mahajan R., Koester D., Alley R., Venkatasubramanian R. Pn-chip cooling by superlattice-based thin-film thermoelectrics. Nature Nanotechnology. 2009, Vol. 4, Issure 4, p. 235-238 *

Also Published As

Publication number Publication date
MD249Y (ro) 2010-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009075124A1 (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
DE602004013920D1 (de) Haftfolie, schutzverfahren für halbleiterwaferoberfläche sowie bearbeitungsverfahren
SG139648A1 (en) A method of direct bonding two substrates used in electronics, optics, or optoelectronics
SG139691A1 (en) Coating and developing system, coating and developing method and storage medium
TW200505050A (en) Solid-state component device and manufacturing method thereof
TW200739801A (en) A method of revealing crystalline defects in a bulk substrate
WO2008120469A1 (ja) 炭化珪素半導体素子の製造方法
JP2015067869A5 (ro)
EA200970668A1 (ru) Способ нанесения тонкого слоя и полученный продукт
WO2007059027A3 (en) Thermal processing system, components, and methods
TW200511422A (en) Treatment or processing of substrate surfaces
TWI267186B (en) Process for preparation of separable semiconductor assemblies, particularly to form substrates for electronics, optoelectronics and optics
WO2008073926A3 (en) Formation of epitaxial layers containing silicon
WO2009028314A1 (ja) 半導体装置の製造方法
DE602004016985D1 (de) Mehrzonen-keramikheizsystem und verfahren zu seiner herstellung
DE602005009159D1 (de) Kalibrierverfahren für Apparaturen zur thermischen Behandlung
TW201612961A (en) Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, program
WO2008051670A3 (en) Substrate support structure with rapid temperature change
EP3104417A3 (en) Method of manufacturing a protective film for a solar cell
DE602005020453D1 (de) Inline-heizelement zur verwendung bei der chemischen halbleiter-nassbearbeitung und herstellungsverfahren dafür
WO2009078121A1 (ja) 半導体基板支持治具及びその製造方法
MD249Z (ro) Procedeu de fabricare a răcitorului termoelectric pentru substratul circuitului integrat
WO2011139640A3 (en) Improved radiation heating efficiency by increasing absorption of a silicon containing material
CN110024080A (zh) Soi晶圆的制造方法
ITMI20091294A1 (it) Modulo a semiconduttore e un procedimento per la produzione di un circuito elettronico

Legal Events

Date Code Title Description
KA4Y Short-term patent lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration)