KR970707107A - 산화질소 합성효소 억제제로서 유용한 아미노테트라졸 유도체(aminotetrazole derivatives useful as nitric oxide synthase inhibtors) - Google Patents
산화질소 합성효소 억제제로서 유용한 아미노테트라졸 유도체(aminotetrazole derivatives useful as nitric oxide synthase inhibtors)Info
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Abstract
산화질소 합성효소 억제제로서 유용한 다음 화학식 (Ⅰ)의 화합물 및 그것의 약학적으로 허용할 수 있는 염, 여기에서 B는 NR5R11이며 여기에서 R5는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐 및 아릴로 구성된 군으로부터 선택되고, 그리고 R11은 링의 적어도 한 멤버는 탄소이고, 1 내지 약 4 멤버는 산소, 질소, 황으로부터 독립적으로 선택된 이종원자인 3 내지 8원 헤테로환 라디칼로부터 선택되며 상기 헤테로환 라디칼은 선택적으로 치환될 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (10)
- 다음 화학식(Ⅰ)의 화합물 및 그것의 약학적으로 허용할 수 있는 염:상기 식에서; R1, R2는 수소, 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며, R3, R4는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, OR6로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며 여기에서 R6은 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 아릴, COR7또는 SO2R8이며 R7과 R|8은 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐 및 아릴로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며; X는 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있는 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되며; 또는 X는 식 -(CH2)pQ(CH2)r-의 기로부터 선택되며 여기에서 p는 1 내지 3 r은 1 내지 3 그리고 Q는 산소, C=0, t가 0 내지 2인 S(O)t, 또는 NR12이며 R12는 수소 또는 저급알킬이며, 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있으며 또는 X는 식 -(CH2)sA(CH2)v- 의 기로부터 선택되며 여기에서 S는 0 내지 2, v는 0 내지 2 그리고 A는 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있는 3 내지 6원 탄소환 라디칼아며, 여기에서 모든 상기 라디칼은 선택적으로 수소, 할로겐 및 저급 알킬로 치환되며; Y는 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되거나 또는 Y는 NR9R10일 수 있으며 여기에서 R9와 R10은 독립적으로 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 니트로, 아미노, 아릴 및 저급 알카릴로 구성된 군으로부터 선택되며; 그리고 B는 NR5R11이며 여기에서 R5는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐 및 아릴로 구성된 군으로부터 선택되고, 그리고 R11은 링의 적어도 한 멤버는 탄소익, 1 내지 약 4멤버는 산소, 질소, 황으로부터 독립적으로 선택된 이종원자인 3 내지 8원 헤테로환 라디칼로부터 선택되며 상기 헤테로환 라디칼은 선택적으로 히드록실, 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, 니트로, 카르복실, SO2R13(R13은 저급알킬, 저급알콕시, NR1R2로부터 선택됨), 아미노, 아실옥시, 트리플루오로메틸, 선택적으로 할로겐, 니트로, 저급알콕시, 및 저급 알킬로 치환될 수도 있는 페닐 및 나프틸로 치환될 수 있는 화합물.
- 다음 화학식 (1)의 화합물 및 그것의 약학적으로 허용될 수 있는 염 ;상기 식에서 ; R1, R2는 수소, 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며, R3, R4는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, OR6로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며 여기에서 R6은 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 아릴, COR7또는 SO2R8이며 R7과 R|8은 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐 및 아릴로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며; X는 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있는 1 내지 6개 탄소원자를 갖는 저급알킬, 2 내지 6개 탄소원자를 갖는 저급알케닐 및 2 내지 6개 탄소원자를 갖는 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되며; 또는 X는 식 -(CH2)pQ(CH2)r-의 기로부터 선택되며 여기에서 p는 1 내지 3, r은 1 내지 3, 그리고 Q는 산소, C=0, t가 0 내지 2인 S(0)t, 또는 NR12이며 R12는 수소 E도는 저급알킬이며 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있으며; 또는 X는 식 -(CH2)sA(CH2)v-의 기로부터 선택되며 여기에서 s는 0 내지 2, v는 0 내지 2 그리고 A는 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있는 3 내지 6원 탄소환 라디칼이며, 여기에서 모든 상기 라디칼은 선택적으로 수소, 할로겐 및 저급알킬로 치환되며; Y는 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되거나 또는 Y는 NR9R10일수 있으며 여기에서 R9와 R10은 독립적으로 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 니트로, 아미노, 아릴 및 저급 알카릴로 구성된 군으로부터 선택되며; 그리고 B는 NR5R11이며 여기에서 R5는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐 및 아릴로 구성된 군으로부터 선택되고, 그리고 R11은 링의 적어도 한 멤버는 탄소이고, 1 내지 약 4멤버는 산소, 질소, 황으로부터 독립적으로 선택된 이중원자인 3 내지 8원 헤테로환 라디칼로부터 선택되며 상기 헤테로환 라디칼은 선택적으로 히드록실, 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, 니트로, 카르복실, 아미노, 아실옥시, 트리플루오로메틸, 선택적으로 할로겐, 니트로, 저급알콕시, 및 저급 알킬로 치환될 수 있는 페닐 및 나프틸로 치환될 수 있는 화합물.
- 제2항에 있어서, R1, R2는 수소, 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구서된 군으로부터 독립적으로 선택되며; R3, R4는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, OR6로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며 여기에서 R6은 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 또는 아릴, COR7, SO2R8이며 R7과 R8은 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐 및 아릴로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되며; X는 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오롬틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있는 2 내지 6 탄소원자를 가지고 있는 저급알킬, 2 내지 6 탄소원자를 가지고 있는 저급알케닐 및 2 내지 6 탄소원자를 가지고 있는 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되며; 또는 X는 식 -(CH2)pQ(CH2)r-의 기로부터 선택되며 여기에서 p는 1 내지 3, r은 1 내지 3 그리고 Q는 산소, C=0, t가 0 내지 2인 S(0)t, 또는 NR12이며 R12는 H 또는 저급알킬이며 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수 있으며; 또는 X는 식 -(CH2)sA(CH2)v-의 기로부터 선택되며 여기에서 s는 0 내지 2, v는 0 내지 2 그리고 A는 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수도 있는 3 내지 6원 탄소환 라디칼이며, 여기에서 모든 상기 라디칼은 선택적으로 수소, 할로겐 및 저급 알킬로 치환되며; Y는 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되거나 또는 Y는 NR9R10일수 있으며 여기에서 R9와 R10은 독립적으로 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 니트로, 아미노 및 저급 알킬아릴로 구성된 군으로부터 선택되며; 그리고 B는 NR5R11이며 여기에서 R5는 수소, 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되고, 그리고 R11은 1 내지 4 이종원자는 산소, 질소, 황으로부터 독립적으로 선택된 5 내지 6원 헤테로환 라디칼로부터 선택되며 상기 헤테로환 리다칼은 선택적으로 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, 니트로, 카르복실, 트리폴루오로메틸 및 아미노와 치환될 수 있는 화합물.
- 제3항에 있어서, R1, R2는 수소와 저급알킬로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되며; R3, R4는 수소, 저급알킬, 저급알케닐, 저급알키닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되며; X는 2 내지 6개 탄소원자를 가지고 있는 저급알킬, 2 내지 6개 탄소원자를 가지고 있는 저급알케닐, 그리고 2 내지 6개 탄소원자를 가지고 있는 저급알키닐로 이루어진 군으로부터 선택되며 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노와 치환될 수 있으며; 또는 X는 식 -(CH2)pQ(CH2)r-의 군으로부터 선택되며 여기에서 p는 1 내지 3, r은 1 내지 3 그리고 Q는 산소, C=0, t가 0 내지 2인 S(0)t, 또는 NR12이며 R12는 수소 또는 저급알킬이며 선택적으로 저급알킬, 저급알콕시, 히드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 아미노로 치환될 수 있으며; Y는 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되거나 또는 Y는 NR9R10일수 있으며 여기에서 R9와 R10은 독립적으로 수소, 알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 니트로, 아미노 및 저급 알킬아릴로 구성된 군으로부터 선택되며; 그리고 B는 NR5R11이며 여기에서 R5는 소소, 저급알킬, 저급알케닐 및 저급알키닐로 구성된 군으로부터 선택되고, 그리고 R11은 5 내지 6원 헤테로환 라디칼로부터 선택되며 여기에서 1 내지 4 이종원자는 질소 또는 황이고, 그리고 상기 헤테로환 라디칼은 선택적으로 히드록시, 저급알콕시, 저급알킬, 할로겐, 니트로 및 카르복실과 치환될 수 있는 화합물.
- 제4항에 있어서, R1, R2는 수소이며; R3, R4는 수소이며; X는 2 내지 6개 탄소원자를 가지고 있는 저급알킬, 2 내지 6개 탄소원자를 가지고 있는 저급알케닐, 그리고 2 내지 6개 탄소원자를 가지고 있는 알키닐로 이루어진 군으로부터 선택되며; Y는 저급알킬로 이루어진 군으로부터 선택되거나 또는 Y는 NR9R10일수 있으며 여기에서 R8과 R10은 독립적으로 수소, 알킬, 저급알케닐, 저급알키닐, 니트로 및 저급 알킬아릴로 구성된 군으로부터 선택되며; 그리고 B는 NR5R11이며 여기에서 R5는 수소 또는 저급알킬로 구성된 군으로부터 선택되고, R11은 5 내지 6원 헤테로환 라디칼로부터 선택되며 여기에서 1 내지 4 이종원자는 질소 또는 황인 화합물.
- 제5항에 있어서, 상기 화합물이 다음으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 화합물. 2S-아미노-6-[(1-이미노에틸)아미노]-N-(1H-테트라졸-5-일)헥산아미드, 수화물, 이염산염 2S-아미노-6-[[아미노(니트로이미노)메틸]아미노]-N-(1H-테트라졸-5-일)펜탄아미드, 염산염 2S-아미노-6-[(1-이미노에틸)아미노]-N-(1H-이미다졸-2-일)헥산아미도, 이염산염 2S-아미노-6-[(1-이미노에틸)아미노]-N-(1H-1,2,4-테트라졸-3-일)헥산아미드, 이염산염 2S-아미노-6-[(1-이미노에틸)아미노]-N-(5-피리미디닐)헥산아미드, 수화물, 이염산염 2S-아미노-6-[(1-이미노에틸)아미노]-N-(1H-피라졸-3-일)헥산아미드, 수화물, 이염산염 2S-아미노-6-[(1-이미노에틸)아미노]-N-(티아졸-2-일)헥산아미드, 이염산염.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 화합물의 치료적으로 효과적인 양을 투여함으로써 산화질소 합성의 억제를 필요로 하는 대상자에서 산화질소 합성을 억제하는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 화합물의 치료적으로 효과적인 양을 투여함으로써 산화질소 합성의 선택적 억제를 필요로 하는 대상자에서 NO 합성효소의 구성형에 의해 생성되는 산화질소보다 유도 NO 합성효소에 의해 생성되는 산화질소 합성을 선택적으로 억제하는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 화합물의 치료적으로 효과적인 양을 투여함으로써 산화질소수치의 저하를 필요로하는 대상자에서 산화질소수치를 저하시키는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 화합물을 하나이상의 약학적으로 허용할 수 있는 운반체와 함께하여 이루어진 약학적 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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