KR970077270A - 반도체 웨이퍼 세척용 배스(Bath) - Google Patents

반도체 웨이퍼 세척용 배스(Bath) Download PDF

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KR970077270A
KR970077270A KR1019960016210A KR19960016210A KR970077270A KR 970077270 A KR970077270 A KR 970077270A KR 1019960016210 A KR1019960016210 A KR 1019960016210A KR 19960016210 A KR19960016210 A KR 19960016210A KR 970077270 A KR970077270 A KR 970077270A
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KR
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chemical
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wafer
cleaning bath
cleaning
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KR1019960016210A
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황경석
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

웨이퍼에 묻어 있는 각종 이물질 및 파티클을 약품의 혼합물을 이용하여 식각 또는 크리닝하도록 된 웨이퍼 세척용 배스에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 내측용기(13)와 외측용기(14)로 이루어지며, 내측용기의 중앙바닥에 케미컬 순환 유입구(15)가 구비되고, 외측용기 일측 바닥에 케미컬 순환배출구(16)가 구비된 반도체 웨이퍼 세척용 배스에 있어서, 상기 내측용기(13)의 바닥에 중앙부로부터 4변의 가장자리로 갈수록 낮아지는 경사면(13a)이 형성되고, 상기 내측용기내의 4모서리에 케미컬 배출구 (17a)∼(17d)가 형성되어 이루어진다.
따라서 웨이퍼의 세척 및 식각공정시 케미컬에 의해 오염 및 공정불량이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 세척용 배스(Bath)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 웨이퍼 세척용 배스를 나타낸 평면도이다.

Claims (1)

  1. 내측용기와 외측용기로 이루어지며, 내측용기의 중앙 바닥에 케미컬 순환 유입구가 구비되고, 외측용기 일측 받가에 케미컬 순환 배출구가 구비된 반도체 웨이퍼 세척용 배스에 있어서, 상기 내측용기의 바닥에 중앙부로부터 4변의 가장자리로 갈수록 점점 낮아지는 경사면이 형성되고, 상기 내측용기내의 4모서리에 케미컬 배출구가 형성되어 구성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세척용 배스.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960016210A 1996-05-15 1996-05-15 반도체 웨이퍼 세척용 배스(Bath) KR970077270A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100674954B1 (ko) * 2005-02-07 2007-01-26 삼성전자주식회사 반도체 기판의 습식 처리 장치

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