KR970018153A - 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(final rinse bath) - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 제조공정중 웨이퍼(WAFER) 세정(CLEAN) 및 습식식각(WET ETCH) 후 웨이퍼에 잔류하는 약품(CHEMICAL) 성분을 제거하기 위해 마련되는 세척조에 관한 것으로 좀더 상세하게는, 설비의 운전중 세척조가 임의의 각으로 기울어 수준면(LEVEL)의 변동이 발생하여도 세척수의 와류현상 감소와 균일한 오버 플로우(OVER FLOW)가 유지되게 하여 세척수내의 순도(PURITY) 향상을 위한 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(FINAL RINSE BATH)에 관한 것으로 반도체 제조 공정에 적용되어 웨이퍼의 세정기능을 갖도록 구비된 최종 세척조에 있어서, 상기 세척조의 평 선단면이 임의의 각도(a)와 임의의 모양으로 요홈부를 형성하도록 커팅처리됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정용 세척조에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 웨이퍼 세정용 세척조의 일 실시예 구성을 도시한 사시도.
Claims (2)
- 반도체 제조 공정에 적용되어 웨이퍼의 세정기능을 갖도록 구비된 최종 세척조에 있어서, 상기 세척조의 평 선단면이 임의의 각도(α)와 임의의 모양으로 요홈부를 형성하도록 커팅처리됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(FINAL RINSE BATH).
- 제1항에 있어서, 상기 요홈부(110)는 V형으로 형성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(FINAL RINSE BATH).※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950028781A KR970018153A (ko) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(final rinse bath) |
Applications Claiming Priority (1)
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| KR1019950028781A KR970018153A (ko) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(final rinse bath) |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970018153A true KR970018153A (ko) | 1997-04-30 |
Family
ID=66597146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950028781A KR970018153A (ko) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 반도체 웨이퍼 세정용 세척조(final rinse bath) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970018153A (ko) |
-
1995
- 1995-09-04 KR KR1019950028781A patent/KR970018153A/ko not_active Application Discontinuation
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