KR970072061A - 반도체 제조 공정에 사용되는 확산로 - Google Patents
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Abstract
구조가 간단하여 취급이 용이하고, 공정 튜브 내에 반응 가스를 균일하게 공급할 수 있는 분사기를 가지는 확산로를 제공한다. 본 발명은 확산 공정을 실시하는 공정 튜브와, 상기 튜브 내를 퍼지시키기 위한 퍼지 가스를 공급하기 위하여 상기 공정 튜브에 연결된 퍼지 가스 공급 라인과, 상기 튜브 내에서 확산 공정시 반응 가스를 공급하기 위한 반응 가스 공급 라인과, 상기 반응 가스 공급 라인에 연결되어 상기 공정 튜브 내에서 반응 가스를 균일하게 분사하기 위하여 상기 공정 튜브 내에 설치된 분사기를 포함하는 확산로에 있어서, 상기 분사기는 상기 튜브내에서 하나의 관이 분기되어 끝이 열린 두 개 이상의 길이가 다른 관으로 나누진다. 본 발명에 의하여 상기 분사기는 서로 다른 길이를 가지는 관으로 나누어서 형성하여 상기 공정 튜브 내에서 반응 가스의 균일도는 높일 수 있다. 또한, 종래와 달리 상기 분사기를 세정하는 것이 용이하고, 상기 분사기의 구조가 간단하여 보관이나 취급이 간편하다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따라 웨이퍼에 불순물을 침적하기 위한 확산로의 제1실시예를 보여주는 도면이다.
Claims (2)
- 확산 공정을 실시하는 공정 튜브; 상기 튜브 내를 퍼지시키기 위한 퍼지가스를 공급하기 위하여 상기 공정 튜브에 연결된 퍼지 가스 공급 라인과; 상기 튜브 내에서 확산 공정시 반응 가스를 공급하기 위한 반응 가스 공급 라인; 및 상기 반응 가스 공급 라인에 연결되어 상기 공정 튜브 내에서 반응 가스를 균일하게 분사하기 위하여 상기 공정 튜브 내에 설치된 분사기를 포함하는 확산로에 있어서, 상기 분사기는 상기 튜브내에서 하나의 관이 분기되어 끝이 열린 두개 이상의 길이가 다른 관으로 나누어지는 것을 특징으로 하는 확산로.
- 확산 공정을 실시하는 공정 튜브; 상기 튜브 내를 퍼지시키기 위한 퍼지가스를 공급하기 위하여 상기 공정 튜브에 연결된 퍼지 가스 공급 라인; 상기 튜브 내에서 확산 공정시 반응 가스를 공급하기 위한 반응 가스 공급 라인; 및 상기 반응 가스 공급 라인에 연결되어 상기 공정 튜브 내에서 반응 가스를 균일하게 분사하기 위하여 사익 공정 튜브 내에 설치된 분사기를 포함하는 확산로에 있어서, 상기 분사기는 상기 튜브내에서 상기 튜브의 벽을 따라 일직선 모양으로 설치되고, 그 측벽에 일정한 간격으로 뚫어진 노즐 구멍을 가지며 끝이 막힌 것을 특징으로 하는 확산로.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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