KR970063461A - 반도체 cvd설비의 공정튜브 - Google Patents
반도체 cvd설비의 공정튜브 Download PDFInfo
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Abstract
함께 공정을 거친 웨이퍼들 사이에 형성되는 증착막에서의 불순물농도가 균일하게 하기 위한 반도체 CVD장비의 공정튜브에 관한 것이다.
본 발명은 불순물가스가 함유된 소오스가스를 공급하는 튜브 하부의 소오스가스 공급부, 상기 튜브 내에서 하부에서 상부로 뻗어있으며 중간부에서 상부 사이에 복수개의 구멍이 형성되어 상기 구멍을 통해 불순물가스를 공급하는 가스관 형태의 롱노즐 및 상기 튜브 상부의 가스 배출관을 구비하고 있는 반도체 CVD장비의 공정튜브에 있어서, 상기 소오스가스 공급부는 상기 튜브 내에서 하부에서 중간부로 뻗어있으며 그 경로상에 복수개의 구멍이 형성되어 불순물이 함유된 소오스가스를 분산 공급하는 가스관 형태의 중간노즐로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 한 공정튜브 내에서 동시에 웨이퍼상에 불순물이 함유된 실리콘막을 형성할 때 균일한 불순물농도를 가지는 막을 형성할 수 있다는 효과를 얻을 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 개선된 가스공급 시스템이 설치된 본 발명의 일 실시예에 따른 CVD설비 공정튜브의 단면을 나타내는 도면이다.
Claims (2)
- 불순물가스가 함유된 소오스가스를 공급하는 튜브 하부의 소오스가스 공급부, 상기 튜브 내에서 하부에서 상부로 뻗어있으며 중간부에서 상부 사이에 복수개의 구멍이 형성되어 상기 구멍을 통해 불순물가스를 공급하는 가스관 형태의 롱노즐 및 상기 튜브 상부에 형성된 가스 배출관을 구비하고 있는 반도체 CVD장비의 공정튜브에 있어서, 상기 소오스가스 공급부는 상기 튜브 내에서 하부에서 중간부로 뻗어있으며 그 경로상에 복수개의 구멍이 형성되어 상기 소오스가스를 분산 공급하는 가스관 형태의 중간노즐로 이루어지는 것을 특징으로 하는반도체 CVD장비의 공정튜브.
- 제1항에 있어서, 상기 중간노즐에 형성된 구멍들은 상기 튜브의 중간 이하에 설치되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 CVD장비의 공정튜브.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960004818A KR970063461A (ko) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | 반도체 cvd설비의 공정튜브 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960004818A KR970063461A (ko) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | 반도체 cvd설비의 공정튜브 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970063461A true KR970063461A (ko) | 1997-09-12 |
Family
ID=66221766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960004818A KR970063461A (ko) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | 반도체 cvd설비의 공정튜브 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970063461A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020017633A (ko) * | 2000-08-31 | 2002-03-07 | 윤종용 | 화학기상 증착장치 |
-
1996
- 1996-02-27 KR KR1019960004818A patent/KR970063461A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020017633A (ko) * | 2000-08-31 | 2002-03-07 | 윤종용 | 화학기상 증착장치 |
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