KR970052675A - 반도체소자 제조장비의 가스 세정기 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체소자 제조장비에 있어서, 공정중 발생하는 가스를 정화하기 위한 가스세정기에 관한 것으로 특히 가스를 세정하는 세정액의 비정상적인 수위상승시 동작을 제어할 수 있도옥 한 가스세정장치에 관한 것이다.

종래의 가스세정기에 있어서 물배출부가 막히거나, 순환 펌프나 에어밸브 또는 수위 센서등 제어장치의 고장이 발생하게 되면 세정기안의 물의 수위가 상승하여 격리막 사이로 유해가스가 통과하지 못하므로 발생하는 공정불량 및 물의 넘침등의 문제점이 있었다.

본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 가스를 세정하는 세정액의 비정상적인 수위상승시 부레의 부력을 이용한 동작 제어수단을 포함하여 반응가스 통로를 열어줌과 동시에 물공급 밸부를 닫아줌으로서 가스흐름의 차단으로 인한 압력변화로 발생되는 공정불량 및 물의 넘침현상을 방지하도록 한 것이다.

Description

반도체소자 제조장비의 가스세정기

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 본 발명에 따른 신규한 가스세정기의 전체적인 구성도.

Claims (4)

1. 상기 반도체소자 제조장비의 가스세정기는 공정중 발생한 유해가스의 배출구에 연결된 가스 유입구와, 이 유입된 가스의 흐름을 유도하는 복수개의 상,하부격리막과, 세정된 가스를 배출하는 배기구와, 내부에 물을 분사해 주는 물공급부를 구비한 덕트부를 갖는 가스세정기에 있어서, 반응가스의 흐름을 제어하는 반응가스개폐수단과; 수위에 따라 물공급부의 동작을 제어하는 물공급 제어 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조장비의 가스세정기.
2. 제1항에 있어서, 상기 반응가스 개폐숟나은 덕트부의 내부상단에 형성된 상부격리막과, 상기 상부격리막에 연결되어 반응가스의 흐름을 제어하는 회전판과, 부력을 이용하여 수위에 따라 이동되는 부레와, 상기 부레와 상기 회전판을 연결 고정시키는 연결봉과, 상기 회전판을 보호하는 보호덮개를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조장비의 가스세정기.
3. 제2항에 있어서, 상기 상단판과 보호덮개에는 반응가스가 통과할 수 있는 각각의 통기공을 동일 위치에 형성하고, 상기 회전판은 일정각도 회전시 상기 통기공과 동일한 선상에 오도록 형성한 통기공을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조장비의 가스세정기.
4. 제1항에 있어서, 상기 물공급 제어수단은 상기 상기격리막에 연결된 회전판과, 부력을 이용하여 수위에 따라 이동되는 부레와, 상기 물공급부를 개폐하는 밸브와, 상기 회전판의 일측과 상기 밸브에 연결되어 밸브의 동작을 제어하는 제어봉을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조장비의 가스세정기.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.