KR970052180A - 이온 주입 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 이온 주입 장치의 진공 차단 밸브의 구조를 개선한 이온 주입 장치에 관한 것이다.
도펀트 이온을 제공하는 이온소스부(11), 웨이퍼에 이온을 주입하는 빔라인부(12) 및 이온소스부(2)에서 제공된 도펀트를 빔라인부(12)에 제공하기 위한 밸브플레이트(14)의 진공 차단 방향이 빔라인부(12)에 위치한 진공차단밸브(13)로 구성된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 이온 주입 장치이다.
Claims (1)
- 반도체 칩을 제조하기 위한 패턴을 형성하는 필요한 이온 주입 장치에 있어서, 도펀트 이온을 제공하는 이온소스부; 웨이퍼에 이온을 주입하는 빔라인부; 및 상기의 이온소스부에서 제공된 도펀트를 상기의 빔라인부에 제공하기 위해 밸브블레이트의 진공 차단 방향이 상기의 빔라인부에 위치한 진공차단밸브를 구비한 것을 특징으로 하는 이온 주입장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950062045A KR970052180A (ko) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 이온 주입 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950062045A KR970052180A (ko) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 이온 주입 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970052180A true KR970052180A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66621804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950062045A KR970052180A (ko) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 이온 주입 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970052180A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100750605B1 (ko) * | 2006-09-05 | 2007-08-20 | 박영남 | 액정표시장치 제조설비용 진공차단밸브 |
-
1995
- 1995-12-28 KR KR1019950062045A patent/KR970052180A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100750605B1 (ko) * | 2006-09-05 | 2007-08-20 | 박영남 | 액정표시장치 제조설비용 진공차단밸브 |
| WO2008029966A1 (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-13 | Youngnam Park | Vacuum isolation valve for liquid crystal display panel manufacturing device |
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